JPS60181272A - 真空蒸着用マンドレル - Google Patents
真空蒸着用マンドレルInfo
- Publication number
- JPS60181272A JPS60181272A JP3419684A JP3419684A JPS60181272A JP S60181272 A JPS60181272 A JP S60181272A JP 3419684 A JP3419684 A JP 3419684A JP 3419684 A JP3419684 A JP 3419684A JP S60181272 A JPS60181272 A JP S60181272A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mandrel
- substrate
- vapor
- vacuum deposition
- rubber sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は真空蒸着時、被蒸有体を支持する真空脈着用
マンドレルに関する。
マンドレルに関する。
砲子写真装置等に使用される感光体ドラム等にあっては
、製造時、アルミ等からなる基板に感光材を真空蒸着す
るため基板を支持するものとして、従来第1図に示すよ
うなものが用いられている。
、製造時、アルミ等からなる基板に感光材を真空蒸着す
るため基板を支持するものとして、従来第1図に示すよ
うなものが用いられている。
この装置は、感光体ドラムの基板素管である円筒状のア
ルミ基板Qlの内径より少し小さい外径を有する金属製
の芯棒であるいわゆるマンドレルaυにアルミ基板(1
1を挿通し、固定部材a4によりアルミ基板翰を固定し
た後、蒸着装置(図示せず)中でマンドレル(11)表
面を加熱する手によりアルミ基板(11の温度調整を図
りつつ感光材の真空蒸着を行なうものである。
ルミ基板Qlの内径より少し小さい外径を有する金属製
の芯棒であるいわゆるマンドレルaυにアルミ基板(1
1を挿通し、固定部材a4によりアルミ基板翰を固定し
た後、蒸着装置(図示せず)中でマンドレル(11)表
面を加熱する手によりアルミ基板(11の温度調整を図
りつつ感光材の真空蒸着を行なうものである。
しかしながらこの装置ではその構造上マンドレルαυと
アルミ基板0〔の間に間隙(131’&生じ、蒸着装置
内にあってはこの間隙a(2)も真空となるため、マン
ドレル00表面の熱がアルミ基板←〔に伝導されに<<
、例えは第2因に示すようにマンドレル00表面を60
(’C)に加熱しても、アルミ基板00)は10分後で
あっても40(’C)迄も到達されない。このため必要
な蒸着温度を得るためにはマンドレルαl)の表面IQ
度を高くしなければならず加熱効率が著しく悪い上に、
間隙(13がアルミ基板QOI全長に り均一で無い場
合、熱伝導が不均一となり、アルミ基板00の表面温度
にはらつきを生じ、表面温度の安定化に時間を要すると
いう欠点を有している。
アルミ基板0〔の間に間隙(131’&生じ、蒸着装置
内にあってはこの間隙a(2)も真空となるため、マン
ドレル00表面の熱がアルミ基板←〔に伝導されに<<
、例えは第2因に示すようにマンドレル00表面を60
(’C)に加熱しても、アルミ基板00)は10分後で
あっても40(’C)迄も到達されない。このため必要
な蒸着温度を得るためにはマンドレルαl)の表面IQ
度を高くしなければならず加熱効率が著しく悪い上に、
間隙(13がアルミ基板QOI全長に り均一で無い場
合、熱伝導が不均一となり、アルミ基板00の表面温度
にはらつきを生じ、表面温度の安定化に時間を要すると
いう欠点を有している。
この発明は上記事情にもとづいてなされたもので、蒸着
時の基板素管の加熱効率を向上し、均一かつ迅速に基板
素管を加熱して、安定な蒸着を行なう事が出来る真空蒸
着用マンドレルを提供することを目的とする。
時の基板素管の加熱効率を向上し、均一かつ迅速に基板
素管を加熱して、安定な蒸着を行なう事が出来る真空蒸
着用マンドレルを提供することを目的とする。
この発明は上記目的を達成するために、基板素管とこれ
を支持する金属体の間に熱伝導部材を設ける事により、
基板素管の加熱効率の向」二を図り、ひいては蒸着の安
定化を図るようにしたものである。
を支持する金属体の間に熱伝導部材を設ける事により、
基板素管の加熱効率の向」二を図り、ひいては蒸着の安
定化を図るようにしたものである。
以下この発明の実施例を第3図ないし第5図を参照しな
がら説明する。被蒸着体である円筒状のアルミ基板−の
内径より小さい外径を有する金属体a力の周囲には熱伝
尋部材賭を形成する弾性膜であるゴムシー) (18a
)が被覆され、このゴムシート(18a)内には熱伝導
体であるチッ素ガス(18b)が封入されている。そし
てゴムシート(18a)の両側端は封印部材として真空
グリース(図示せず)が塗布されると共に押え部材(2
0a) 、 (20b)によりしめ付けられている。
がら説明する。被蒸着体である円筒状のアルミ基板−の
内径より小さい外径を有する金属体a力の周囲には熱伝
尋部材賭を形成する弾性膜であるゴムシー) (18a
)が被覆され、このゴムシート(18a)内には熱伝導
体であるチッ素ガス(18b)が封入されている。そし
てゴムシート(18a)の両側端は封印部材として真空
グリース(図示せず)が塗布されると共に押え部材(2
0a) 、 (20b)によりしめ付けられている。
しかして真空蒸着時、第3図に示すようにアルミ基板(
IQに金属体←りのゴムシー) (18a)に被覆され
た部分を挿通してアルミ基板Qf9をゆるやかに支持し
た状態で蒸着工程を開始する。そして金属体(I7)表
面を、図示しないヒータにより約60 (’C)に加熱
すると共に蒸着装置(図示せず)の空気を抜いて行くと
、ゴムシー) (1,8a)はチッ素ガス(18b)の
圧力により徐々に膨張され、第4図に示すようにアルミ
基板(1G+内径に密着されて、アルミ基板(16)は
確実に固定支持される。又、これと同時にアルミ基板(
IQは、チツ累ガス(18b)及びゴムシート(188
)による熱伝導作用により金属体(17)表面の温度を
伝導され、第5図に示すように数分後には約ω(’C)
に温度」−昇される。そしてこの様な状態で蒸着が行な
われた後、蒸着装置(図示せず)内に再び空気が入れら
れると、ゴムシー ) (18a)が第3図に示すよう
に収縮される事から、表面処理されたアルミ基板Q6)
は金属体α7)から容易に取り外され、蒸着工程を終了
する。
IQに金属体←りのゴムシー) (18a)に被覆され
た部分を挿通してアルミ基板Qf9をゆるやかに支持し
た状態で蒸着工程を開始する。そして金属体(I7)表
面を、図示しないヒータにより約60 (’C)に加熱
すると共に蒸着装置(図示せず)の空気を抜いて行くと
、ゴムシー) (1,8a)はチッ素ガス(18b)の
圧力により徐々に膨張され、第4図に示すようにアルミ
基板(1G+内径に密着されて、アルミ基板(16)は
確実に固定支持される。又、これと同時にアルミ基板(
IQは、チツ累ガス(18b)及びゴムシート(188
)による熱伝導作用により金属体(17)表面の温度を
伝導され、第5図に示すように数分後には約ω(’C)
に温度」−昇される。そしてこの様な状態で蒸着が行な
われた後、蒸着装置(図示せず)内に再び空気が入れら
れると、ゴムシー ) (18a)が第3図に示すよう
に収縮される事から、表面処理されたアルミ基板Q6)
は金属体α7)から容易に取り外され、蒸着工程を終了
する。
このように構成すれば、アルミ基板00が熱伝導部材0
団を介し金属体(17)により効率的に加熱される事か
ら、従来に比し小さな熱源によりアルミ基板06)が迅
速かつ均一に温度調節され、ひいては迅速かつ安定に蒸
着を行なう事が出来る。
団を介し金属体(17)により効率的に加熱される事か
ら、従来に比し小さな熱源によりアルミ基板06)が迅
速かつ均一に温度調節され、ひいては迅速かつ安定に蒸
着を行なう事が出来る。
尚この発明は上記実施例に限定されず種々設計変更可能
であり、例えば真空蒸着される材負は感光部材に限定さ
れないし、弾性膜もポリエチレンシートやビニルあるい
はポリエチレンでコーティングしたゴムシートやビニー
ルでコーチインクシたゴムシート等であっても良く、熱
伝導体も弾性膜やマンドレル表面に化学変化を起さない
ものであれば良く、アルゴン等も適している。更に金属
体の加熱温度もω(℃)に限定されない。又、熱伝導体
は気体のみでなく熱伝導性を有する気体と液体の混合体
、あるいは気体と固体の混合体、更には気体と液体と固
体の混合体であっても良い。尚この時使用される液体と
しては水銀やオイル等が適しているが特には金属体の加
熱温度付近に沸点のある物質が適当であるし、固体とし
てはスチールウール等連している。そしてこのように熱
伝導体として混合体を使用した場合は気体のみの場合に
比し、熱伝導性及び熱容量をより大きくする事が出来、
従って被蒸着体温度をより迅速かつ安定に最適温度に調
整する事が出来る。
であり、例えば真空蒸着される材負は感光部材に限定さ
れないし、弾性膜もポリエチレンシートやビニルあるい
はポリエチレンでコーティングしたゴムシートやビニー
ルでコーチインクシたゴムシート等であっても良く、熱
伝導体も弾性膜やマンドレル表面に化学変化を起さない
ものであれば良く、アルゴン等も適している。更に金属
体の加熱温度もω(℃)に限定されない。又、熱伝導体
は気体のみでなく熱伝導性を有する気体と液体の混合体
、あるいは気体と固体の混合体、更には気体と液体と固
体の混合体であっても良い。尚この時使用される液体と
しては水銀やオイル等が適しているが特には金属体の加
熱温度付近に沸点のある物質が適当であるし、固体とし
てはスチールウール等連している。そしてこのように熱
伝導体として混合体を使用した場合は気体のみの場合に
比し、熱伝導性及び熱容量をより大きくする事が出来、
従って被蒸着体温度をより迅速かつ安定に最適温度に調
整する事が出来る。
以上説明したようにこの発明によれば、蒸着時被蒸着体
に密接される熱伝導部材を介して金属体の温度が被蒸着
体に効率的に伝導される事から、被蒸着体が迅速かつ均
一に温度調節されるので、被蒸着体への蒸着も迅速かつ
安定に行なう事が出来ると共に、従来に比し金属体表面
を加熱するための熱源を小さく1−る事が出来、′重力
の節減も可能となる。
に密接される熱伝導部材を介して金属体の温度が被蒸着
体に効率的に伝導される事から、被蒸着体が迅速かつ均
一に温度調節されるので、被蒸着体への蒸着も迅速かつ
安定に行なう事が出来ると共に、従来に比し金属体表面
を加熱するための熱源を小さく1−る事が出来、′重力
の節減も可能となる。
第1図及び第2図は従来の装置を示し、第1図はその一
部省略断面図、第2図はそのマンドレルの温度に対する
アルミ基板の温度をボすグラフ、第3図ないし第5図は
この発明の一実施例を示し第3図はそのアルミ基板挿通
時を示す一部省略断面図、第4図はその;#着時を示す
一部省略断面図、第5図はその金属体の温度に対するア
ルミ基板の温度を示すグラフである。 16・・・アルミ基板、 17・・・金属体18・・・
熱伝導部材、 18a・・・ゴムシート18b・・・チ
ッ素ガス、 20a 、 20b・・・押え部材第 1
図 A(1つ
部省略断面図、第2図はそのマンドレルの温度に対する
アルミ基板の温度をボすグラフ、第3図ないし第5図は
この発明の一実施例を示し第3図はそのアルミ基板挿通
時を示す一部省略断面図、第4図はその;#着時を示す
一部省略断面図、第5図はその金属体の温度に対するア
ルミ基板の温度を示すグラフである。 16・・・アルミ基板、 17・・・金属体18・・・
熱伝導部材、 18a・・・ゴムシート18b・・・チ
ッ素ガス、 20a 、 20b・・・押え部材第 1
図 A(1つ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被蒸着体を支持する金属体と、この金属体及び前記
被蒸着体の間に挿入される変形可能の熱伝導部材とを具
備する事を特徴とする真空蒸着用マンドレル。 2 熱伝導部材が、金属体周囲を被覆する弾性膜及びこ
の弾性膜内に封入される熱伝導体である事を特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の真空蒸着用マンドレル。 3、熱伝導体が気体である事を特徴とする特許請求の範
囲第2項記載の真空蒸着用マンドレル。 4、熱伝導体が気体及び固体の混合体である事を特徴と
する特許請求の範囲第2項記載の真空蒸着用マンドレル
。 5、熱伝導体が気体及び液体の混合体である事を特徴と
する特許請求の範囲第2項記載の真空蒸着用マンドレル
。 6、熱伝導体が気体及び液体並びに固体の混合体である
事を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の真空11N
用マンドレル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3419684A JPS60181272A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 真空蒸着用マンドレル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3419684A JPS60181272A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 真空蒸着用マンドレル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60181272A true JPS60181272A (ja) | 1985-09-14 |
Family
ID=12407412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3419684A Pending JPS60181272A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 真空蒸着用マンドレル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60181272A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63157854A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体製造装置 |
-
1984
- 1984-02-27 JP JP3419684A patent/JPS60181272A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63157854A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体製造装置 |
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