JPH1088322A - リチウム用蒸着源 - Google Patents
リチウム用蒸着源Info
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- JPH1088322A JPH1088322A JP26794896A JP26794896A JPH1088322A JP H1088322 A JPH1088322 A JP H1088322A JP 26794896 A JP26794896 A JP 26794896A JP 26794896 A JP26794896 A JP 26794896A JP H1088322 A JPH1088322 A JP H1088322A
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Abstract
製造が容易な坩堝を備えたリチウム用蒸着源を提供す
る。 【解決手段】 リチウム用蒸着源10は、リチウムLを
内側に収容するステンレス鋼製の坩堝12と、坩堝12
の外側からリチウムLを加熱するヒータ94とを備えた
ものである。坩堝12は、ステンレス鋼製であるので、
リチウムと反応せず、しかも金型によって簡単かつ大量
に生産できる。
Description
に形成する際に用いるリチウム用蒸着源に関する。
で表され、原子量6.941 、アルカリ金属、固体の単体中
で最も軽い等の性質を有し、近年は電池の電極材料や半
導体材料として用いられている。
略断面図である。以下、この図面に基づき説明する。
Lを内側に収容する石英製の坩堝92と、坩堝92の外
側からリチウムLを加熱するヒータ94とを備えたもの
である。坩堝92は、全体として有底円筒状を呈してい
る。ヒータ94は、石英製の円筒体941と、円筒体9
41の外周に螺旋状に巻回された発熱抵抗線942とか
ら構成されている。
(図示せず)内に設置される。真空チャンバ内では、リ
チウム用蒸着源90の上方に被蒸着物(図示せず)が支
持される。ここで、発熱抵抗線942に通電すると、発
熱抵抗線942で発生した熱が、円筒体941及び坩堝
92を通してリチウムLに伝わる。こうして加熱された
リチウムLは、溶融して蒸気となって被蒸着物に付着す
る。その結果、被蒸着物表面にリチウム薄膜が形成され
る。
リチウム用蒸着源90では、次のような問題があった。
るため、石英とも反応する。そのため、リチウム用蒸着
源90では、石英が浸食されることにより発熱抵抗線9
42とリチウムLとの短絡等を引き起こすので、坩堝9
2や円筒体941を頻繁に交換しなければならなかっ
た。また、坩堝92等を交換するまでの間にも、石英の
浸食が進むことにより、リチウムLに対する熱伝導が変
化するので、再現性のよいリチウム薄膜が得られなかっ
た。さらに、石英は金型による大量生産には向かない素
材であるため、坩堝92の製造工程の簡略化及び製造費
の低減を図ることは困難であった。
応しない素材からなり、しかも製造が容易な坩堝を備え
たリチウム用蒸着源を提供することにある。
について検討を重ねた結果、ステンレス鋼が上記目的に
合致することを見い出した。本発明は、この知見に基づ
きなされたものである。すなわち、本発明は、リチウム
を内側に収容する坩堝と、この坩堝の外側からリチウム
を加熱するヒータとを備えたリチウム用蒸着源を改良し
たものである。その改良点は、第一の発明では坩堝をス
テンレス鋼製としたことであり、第二の発明では、坩堝
を側壁部と底板部とから構成し、側壁部をステンレス鋼
製、底板部を雲母製としたことである。
的で、クロムとニッケルを含有させた合金鋼をいう。十
分な耐食性を得るために、クロムの含有量は11%以上と
することが好ましい。
としているが、リチウムに限らずリチウムに化学的性質
の似ている物質にも適用可能である。そのような物質と
しては、マグネシウム、ナトリウム、カリウム等が挙げ
られる。
蒸着源の第一実施形態を示す概略断面図である。以下、
この図面に基づき説明する。ただし、図6と同一部分は
同一符号を付すことにより重複説明を省略する。
側に収容するステンレス鋼製の坩堝12と、坩堝12の
外側からリチウムLを加熱するヒータ94とを備えたも
のである。坩堝12は、全体として有底円筒状を呈して
おり、やや径大とした開口部121が形成されている。
ヒータ94は、従来と同じように、石英製の円筒体94
1と、円筒体941の外周に螺旋状に巻回された発熱抵
抗線942とから構成されている。
従来の石英製に比べて次のような利点がある。.リチ
ウムと反応しないので、長寿命である。したがって、交
換の手間が不要であり、使用による熱伝導の変化もない
ので再現性の良いリチウム薄膜が得られる。.金型に
よって簡単かつ大量に生産できる。例えば、絞り型を作
成し、この絞り型をステンレス鋼板にプレスすることに
より、継ぎ目のない容器状の坩堝を簡単に成形できる。
.変形しにくく割れにくいので薄くでき、薄くできる
のでヒータの熱がリチウムに伝わりやすくなる。しか
も、熱伝導率も石英よりは大きい。
する。
(図示せず)内に設置される。真空チャンバ内では、リ
チウム用蒸着源10の上方に被蒸着物(図示せず)が支
持される。ここで、発熱抵抗線942に通電すると、発
熱抵抗線942で発生した熱が、円筒体941及び坩堝
12を通してリチウムLに伝わる。このとき、坩堝12
は、リチウムLと反応しないので長寿命であり、また熱
伝導性も良いのでリチウムLを速く加熱できる。こうし
て加熱されたリチウムLは、溶融して蒸気となって被蒸
着物に付着する。その結果、被蒸着物表面にリチウム薄
膜が形成される。このとき、使用により坩堝12の熱伝
導が変化しないので、再現性の良いリチウム薄膜が得ら
れる。
第二実施形態を示す概略断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。ただし、図1と同一部分は同一符号
を付すことにより重複説明を省略する。
側に収容するステンレス鋼製の坩堝12と、坩堝12の
外側からリチウムLを加熱するヒータ24とを備えたも
のである。ヒータ24は、シリコンカーバイト製であ
り、螺旋状に成形されている。リチウム用蒸着源20
も、リチウム用蒸着源10(図1)と同様の作用・効果
を奏する。
第三実施形態を示す概略断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。
側に収容するステンレス鋼製の坩堝32と、坩堝12の
外側からリチウムLを加熱するヒータ34とを備えたも
のである。坩堝32は、全体として皿状を呈している。
ヒータ34は、坩堝32を支持する雲母板341と、坩
堝32及び雲母板341に非接触で坩堝32を加熱する
発熱抵抗線342とから構成されている。雲母板341
の坩堝32を載置する部分には、透孔343が形成され
ている。発熱抵抗線342から発生した輻射熱は、透孔
343を素通りして、坩堝32に非接触で伝わる。雲母
は、耐食性、耐熱性及び絶縁性に優れた素材である。リ
チウム用蒸着源30も、リチウム用蒸着源10(図1)
と同様の作用・効果を奏する。また、坩堝32は、径に
比べて底が浅いので、絞り加工において一回のプレスに
よる成形が可能である。
第四実施形態を示す概略断面図である。以下、この図面
に基づき説明する。ただし、図3と同一部分は同一符号
を付すことにより重複説明を省略する。
側に収容する坩堝42と、坩堝42の外側からリチウム
Lを加熱するヒータ34とを備えたものである。坩堝4
2は、ステンレス鋼製の側壁部421と雲母製の底板部
422とからなる。側壁部421は、全体として円筒状
を呈している。底板部422は、全体として円板状を呈
している。雲母は結晶水を有するが、リチウムLの蒸発
温度が低いので、通常の使用状態では底板部422が加
水分解することはない。リチウム用蒸着源40も、リチ
ウム用蒸着源10(図1)と同様の作用・効果を奏す
る。また、雲母は、絶縁性に優れるが、層状に剥がれや
すいため板状にしか加工できない。一方、ステンレス鋼
は、加工性に優れるが、金属であるため絶縁性に劣る。
そこで、坩堝42のような構造を採ることにより、これ
らの欠点を補い長所を生かすようにしている。その結
果、坩堝42に発熱抵抗線342を極めて接近させるこ
とができるので、加熱の迅速化及び低消費電力化をより
達成できる。
用いたホットウォールエピタキシャル装置の一例を示す
概略断面図である。以下、この図面に基づき説明する。
は、真空チャンバ52内に設けられた、ヘッド部54、
ウォール部56及びソース部58から構成されている。
明に係るリチウム用蒸着源60によって一体的に実現さ
れている。リチウム用蒸着源60は、リチウム用蒸着源
10(図1)とほぼ同じ構造を有しており、リチウムL
を内側に収容するステンレス鋼製の坩堝62と、坩堝6
2の外側からリチウムLを加熱するヒータ64とを備え
たものである。坩堝62は、全体として有底円筒状を呈
している。ヒータ64は、石英製の円筒体641と、円
筒体641の外周に螺旋状に巻回された発熱抵抗線64
2とから構成されている。
置台542と、載置台542の透孔543と坩堝62の
開口端621との間に介挿されたシャッタ544と、基
板541を加熱するハロゲンランプ545とから構成さ
れている。載置台542は、支持棒546,547によ
って、真空チャンバ52に固定されている。
置の特長は、熱平衡に近い状態でのエピタキシャル成長
が可能であるので良質の薄膜が形成でき、しかも蒸着材
料の損失を必要最小限に抑えることができる点にある。
ウォール部56は、ソース部58と基板541との間に
あって、リチウムLの蒸気を均一温度に保つとともに、
リチウムLの蒸気の輸送管の役目をする。ソース部58
から基板541まではほぼ密閉状態にあるので、蒸気の
外部への散逸を防止できるとともに、蒸気圧を一定に制
御できる。ソース部58、ウォール部56及び基板54
1は、熱的に弱く結合しているので、ある範囲で温度を
独立に制御できる。
50の動作を説明する。
た後、真空チャンバ52内に基板541及びリチウムL
をセットする。続いて、図示しない真空ポンプによっ
て、真空チャンバ52内を所定の真空度にする。ここ
で、発熱抵抗線642に通電するとともに、ハロゲンラ
ンプ545を点灯させる。すると、発熱抵抗線642が
ウォール部56及びソース部58を加熱し、ハロゲンラ
ンプ545が基板541を加熱する。こうして加熱され
たリチウムLは、溶融して蒸気となってソース部58か
ら離脱し、ウォール部56の内壁と衝突を繰り返すこと
によりウォール部56の温度とほぼ等しくなり、さらに
ヘッド部54の方へ移動する。シャッタ544を開く
と、リチウムLは、基板541との間で再蒸発及び再付
着も生じながら、ほぼ熱平衡に近い状態で結晶成長す
る。その結果、基板541にリチウム薄膜(図示せず)
が形成される。
よれば、本発明に係るリチウム用蒸着源60によって得
られる効果をそのまま生かすことができる。例えば、使
用により坩堝62の熱伝導が変化しないので、良質のリ
チウム薄膜を再現性良く何回でも得ることができる。ま
た、坩堝62の交換が不要であるので、保守・点検作業
を簡略化できる。
50には、必要に応じリザーバ部を付設してもよい。
によれば、坩堝の全部又は一部をステンレス鋼製とした
ことにより、次の効果を奏する。
ある。したがって、交換の手間が不要であるので保守及
び点検作業を簡略化できるとともに、使用による熱伝導
の変化もないのでリチウム薄膜の再現性を向上できる。
きるので、製造工程の簡略化及び製造費の低減化を図る
ことができる。
しかも熱伝導率も石英よりは大きい。したがって、加熱
の迅速化及び低消費電力化を図ることができる。
ば、坩堝の側壁部をステンレス鋼製とし、坩堝の底板部
を雲母製としたことにより、次の効果を奏する。
状でよく、雲母製の底板部は単なる板状でよいので、加
工が極めて容易である。したがって、製造工程の簡略化
及び製造費の低減化をさらに図ることができる。
加熱することにより、底板部に剥き出しの発熱抵抗線を
極めて接近させることができ、加熱の迅速化及び低消費
電力化をさらに図ることができる。
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
ウォールエピタキシャル装置の一例を示す概略断面図で
ある。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 リチウムを内側に収容する坩堝と、この
坩堝の外側から前記リチウムを加熱するヒータとを備え
たリチウム用蒸着源において、 前記坩堝がステンレス鋼製であることを特徴とするリチ
ウム用蒸着源。 - 【請求項2】 リチウムを内側に収容する坩堝と、この
坩堝の外側から前記リチウムを加熱するヒータとを備え
たリチウム用蒸着源において、 前記坩堝がステンレス鋼製の側壁部と雲母製の底板部と
からなることを特徴とするリチウム用蒸着源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26794896A JP3758253B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | リチウム用蒸着源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26794896A JP3758253B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | リチウム用蒸着源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1088322A true JPH1088322A (ja) | 1998-04-07 |
| JP3758253B2 JP3758253B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=17451830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26794896A Expired - Fee Related JP3758253B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | リチウム用蒸着源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3758253B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100410416C (zh) * | 2006-05-31 | 2008-08-13 | 中国科学院物理研究所 | 用于真空系统的可移动、万向蒸发源装置 |
| JP2010519017A (ja) * | 2007-02-16 | 2010-06-03 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 空気中で安定なアルカリまたはアルカリ土類金属供給装置 |
| JP4871878B2 (ja) * | 2004-11-24 | 2012-02-08 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 多量の金属を放出できるアルカリ金属の分配システム |
| JP2014169501A (ja) * | 2008-05-30 | 2014-09-18 | Applied Materials Inc | 基板をコーティングするための装置 |
| WO2016011687A1 (zh) * | 2014-07-22 | 2016-01-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于oled材料蒸镀的加热装置 |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP26794896A patent/JP3758253B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3758253B2 (ja) | 2006-03-22 |
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