JPS601830A - 目合せ露光機 - Google Patents
目合せ露光機Info
- Publication number
- JPS601830A JPS601830A JP58110583A JP11058383A JPS601830A JP S601830 A JPS601830 A JP S601830A JP 58110583 A JP58110583 A JP 58110583A JP 11058383 A JP11058383 A JP 11058383A JP S601830 A JPS601830 A JP S601830A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- illumination optical
- optical system
- mirror
- deepuv
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
目合せ露光機は半導体集積回路の製造工程の１つである
フォトレジスト工程において、ウェハー上に途布しであ
るフォトレジスト上にフォトマスクを密着させ、後に光
源からの照射光線をフォトマスク上に垂直に照射し、フ
ォトレジストを露光するのに用いられている。従来の目
合せ露光機は１種類の光源と、その照明光学系を有する
構造であったので、光源にＵＶ光を用いるＵＶ光源用フ
ォトレジストと、光源にＤｅｅｐＴＪＶ光を用いるＤｅ
ｅｐＵＶ光源用フォトレジストを露光する場合には、そ
れぞれフォトレジストに合った光源並びに光学系を備え
た露光装置を用いなければならなかった。一方、最近の
目合せ露光機は高精度化とスループットの向上を達成す
るために極めて高価な設備となっておシ、例えば実験設
備のように稼動率の低い場合に前述のような目的で２台
の目合せ露光機を設備することは経済的な面からも極め
て非効率的である。これを避けるためには照明光学系を
交換し、目合せ機構を共用することも可能であるが、照
明光学系は重く、取り扱いに注意が必要であり、交換時
にこわす可能性が犬であり、又、交換後光源のスイッチ
を入れてから安定するまでに時間がかかり、安定後、照
度むら等の調整に更に時間がかかるなど、ロスタイムが
大であるという欠点があった。
フォトレジスト工程において、ウェハー上に途布しであ
るフォトレジスト上にフォトマスクを密着させ、後に光
源からの照射光線をフォトマスク上に垂直に照射し、フ
ォトレジストを露光するのに用いられている。従来の目
合せ露光機は１種類の光源と、その照明光学系を有する
構造であったので、光源にＵＶ光を用いるＵＶ光源用フ
ォトレジストと、光源にＤｅｅｐＴＪＶ光を用いるＤｅ
ｅｐＵＶ光源用フォトレジストを露光する場合には、そ
れぞれフォトレジストに合った光源並びに光学系を備え
た露光装置を用いなければならなかった。一方、最近の
目合せ露光機は高精度化とスループットの向上を達成す
るために極めて高価な設備となっておシ、例えば実験設
備のように稼動率の低い場合に前述のような目的で２台
の目合せ露光機を設備することは経済的な面からも極め
て非効率的である。これを避けるためには照明光学系を
交換し、目合せ機構を共用することも可能であるが、照
明光学系は重く、取り扱いに注意が必要であり、交換時
にこわす可能性が犬であり、又、交換後光源のスイッチ
を入れてから安定するまでに時間がかかり、安定後、照
度むら等の調整に更に時間がかかるなど、ロスタイムが
大であるという欠点があった。
本発明は、ＵＶ光源用とＩ）ｅｅｐＴＪＶ光源用の２つ
の照明光学系を備えることにより上記欠点を解消し、Ｕ
Ｖ光源用レジストとＤｅｅｐＵＶ光源用レジストを露光
することのできる目合せ露光機を提供するものである。
の照明光学系を備えることにより上記欠点を解消し、Ｕ
Ｖ光源用レジストとＤｅｅｐＵＶ光源用レジストを露光
することのできる目合せ露光機を提供するものである。
本発明の目合せ露光機は、ＵＶ光源用とＤｅｅｐＵＶ光
源用の２つの照明光学系と前記二種の光源からの照射光
線をフォトマスク上に垂直に照射するように反射するセ
カンドミラーとを有し、該セカンドミラーの角度を変化
させることによ！ｌｌｌＵＶ光源又はＤｅｅｐｔＪＶ光
源のどちらかの光源からの照射光線をフォトマスク上に
照射し、フォトレジストを露光することが可能な構造を
えたことを特徴とするものである。即ち、１個の目合せ
機構に対し二種の光源を備えだ目合せ露光装置を提供す
るものである。
源用の２つの照明光学系と前記二種の光源からの照射光
線をフォトマスク上に垂直に照射するように反射するセ
カンドミラーとを有し、該セカンドミラーの角度を変化
させることによ！ｌｌｌＵＶ光源又はＤｅｅｐｔＪＶ光
源のどちらかの光源からの照射光線をフォトマスク上に
照射し、フォトレジストを露光することが可能な構造を
えたことを特徴とするものである。即ち、１個の目合せ
機構に対し二種の光源を備えだ目合せ露光装置を提供す
るものである。
以下に本発明の実施例を図により説明する。
図は本発明にかかる目合せ露光機の照明光学系の実施例
を示したもので、ＵＶ光源１と、該光源１の照明光学系
１１と、ＤｅｅｐＴＪＶ光源２と該光源２の照明光学系
２１と、姿勢転換により各光源からの照射光線を反射さ
せて特定の光線をフォトマスク上に垂直に照射させるセ
カンドミラー３及びコンデンサーレンズ４からなってい
る。実施例ではセカ光学系１１．２１を配置し、セカン
ドミラー３の正面に、マスク５に照射するコンデンサー
レンズ４を設置した例を示している。したがって、セカ
ンドミラー３はその角度姿勢が９０°変換され、各照明
光学系１１．２１からの光を切替えてコンデンサーレン
ズ４に照射するようになっている。もちろん配置関係は
これに限られるものではない。まだ、各光源１，２には
エリプテイカル・コンケイプ・ミラー６．６が取付けら
れ、各照明光学系１１．２１はファースト・ミラー１２
，２２、フィルター１４ 、２４、フライズ・アイ・レ
ンズ１３．２３から構成される。しだがって、装置始動
時にＵ■照明光学系と１）ｅｅｐＴＪＶ照明光学系の調
整を行っておくことにより、セカンドミラー３の角度を
図に示すようにθに変化させることで直ちにＵＶ光源１
と］）ｅｅｐＩＪＶ光源２の照射光線を切替えてコンデ
ンサーレンズ４を通してマスク５上に照射できる。その
ため、照明光学系を交換する必要がないため、交換時の
取り扱いミス等による損傷がなくなり、又、交換後光源
が安定するまでの時間と、安定後照度むら等の調整に要
する時間を省くことができる・ 以上詳細に説明したように、本発明によれば照明光学系
を交換することなしにセカンドミラーの角度を変化させ
ることで直ちにＵＶ光とＤｅｅｐ’ｏｖ光の交換ができ
、露光が行えることによシ、スループットを向上するこ
とが可能であり、さらに設備稼動率も大巾に向上できる
効果を有するものである。
を示したもので、ＵＶ光源１と、該光源１の照明光学系
１１と、ＤｅｅｐＴＪＶ光源２と該光源２の照明光学系
２１と、姿勢転換により各光源からの照射光線を反射さ
せて特定の光線をフォトマスク上に垂直に照射させるセ
カンドミラー３及びコンデンサーレンズ４からなってい
る。実施例ではセカ光学系１１．２１を配置し、セカン
ドミラー３の正面に、マスク５に照射するコンデンサー
レンズ４を設置した例を示している。したがって、セカ
ンドミラー３はその角度姿勢が９０°変換され、各照明
光学系１１．２１からの光を切替えてコンデンサーレン
ズ４に照射するようになっている。もちろん配置関係は
これに限られるものではない。まだ、各光源１，２には
エリプテイカル・コンケイプ・ミラー６．６が取付けら
れ、各照明光学系１１．２１はファースト・ミラー１２
，２２、フィルター１４ 、２４、フライズ・アイ・レ
ンズ１３．２３から構成される。しだがって、装置始動
時にＵ■照明光学系と１）ｅｅｐＴＪＶ照明光学系の調
整を行っておくことにより、セカンドミラー３の角度を
図に示すようにθに変化させることで直ちにＵＶ光源１
と］）ｅｅｐＩＪＶ光源２の照射光線を切替えてコンデ
ンサーレンズ４を通してマスク５上に照射できる。その
ため、照明光学系を交換する必要がないため、交換時の
取り扱いミス等による損傷がなくなり、又、交換後光源
が安定するまでの時間と、安定後照度むら等の調整に要
する時間を省くことができる・ 以上詳細に説明したように、本発明によれば照明光学系
を交換することなしにセカンドミラーの角度を変化させ
ることで直ちにＵＶ光とＤｅｅｐ’ｏｖ光の交換ができ
、露光が行えることによシ、スループットを向上するこ
とが可能であり、さらに設備稼動率も大巾に向上できる
効果を有するものである。
図は本発明にかかる実施例を示す説明図である。
■・・・ＵＶ光源、２・・・ＤｅｅｐＵＶ光源・ ３°
°°セカンドミラー、４・・・コンデンサーレンズ、５
・・・マスク、６・・・エリプテイカル・コンケイプ・
ミラー、１１・・・ＵＶ光源用照明光学系、１２・・・
ファースト・ミラー、１３・・・フライズ・アイ・レン
ズ、１４・・・フィルター、２１・・・ＤｅｅｐＴＪＶ
光源用照明光学系、２２・・・ファースト・ミラー、２
３・・・フライズｅアイ・レンズ、２４・・・フィルタ
ー
°°セカンドミラー、４・・・コンデンサーレンズ、５
・・・マスク、６・・・エリプテイカル・コンケイプ・
ミラー、１１・・・ＵＶ光源用照明光学系、１２・・・
ファースト・ミラー、１３・・・フライズ・アイ・レン
ズ、１４・・・フィルター、２１・・・ＤｅｅｐＴＪＶ
光源用照明光学系、２２・・・ファースト・ミラー、２
３・・・フライズｅアイ・レンズ、２４・・・フィルタ
ー
Claims (1)
- （１）ＵＶ光源用とｌ）ｅ ｅｐＴＪＶ光源用との２つ
の照明光学系と、姿勢変換により該各照明光学系からの
照射光線を選択的に反射して、一方の反射光線をフォト
マスク上に垂直に照射させる一枚のセカンドミラーとを
有することを特徴とする目合せ露光機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58110583A JPS601830A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 目合せ露光機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58110583A JPS601830A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 目合せ露光機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601830A true JPS601830A (ja) | 1985-01-08 |
Family
ID=14539521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58110583A Pending JPS601830A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 目合せ露光機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601830A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01101628A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-19 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP58110583A patent/JPS601830A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01101628A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-19 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
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