JPS60184889A - ペン先 - Google Patents
ペン先Info
- Publication number
- JPS60184889A JPS60184889A JP4164384A JP4164384A JPS60184889A JP S60184889 A JPS60184889 A JP S60184889A JP 4164384 A JP4164384 A JP 4164384A JP 4164384 A JP4164384 A JP 4164384A JP S60184889 A JPS60184889 A JP S60184889A
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- Japan
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- pen
- nib
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はに空蒸着法による耐摩耗性皮膜を少くとも筆記
当接部に有してなるペン先に関する。
当接部に有してなるペン先に関する。
筆記面との摩擦による摩耗を抑えるためにペン先の表面
を耐摩耗性皮膜の被覆物とすることは既によく知られた
ところとなっている1、皮膜形成の方法としては昔から
知られている電気化学的鍍金法などのほか1種々金属や
その酸化物、窒化物。
を耐摩耗性皮膜の被覆物とすることは既によく知られた
ところとなっている1、皮膜形成の方法としては昔から
知られている電気化学的鍍金法などのほか1種々金属や
その酸化物、窒化物。
炭化物など高硬度物質の皮膜も形成できるとして近年着
目されている真空蒸着法もある1、ところが、イオンブ
レーティングやスパッタリングなどの物理蒸着法とかプ
ラズマOVD、サーマルOVDなどの化学蒸着法といつ
たような種類によらず、真空蒸着法によって皮膜を形成
したものは、ペン先にとって耐摩耗性と同様に重要な特
性である書き味を損う傾向にある。この傾向は特に小径
細筆防用のペン先の場合に強いのであるが。
目されている真空蒸着法もある1、ところが、イオンブ
レーティングやスパッタリングなどの物理蒸着法とかプ
ラズマOVD、サーマルOVDなどの化学蒸着法といつ
たような種類によらず、真空蒸着法によって皮膜を形成
したものは、ペン先にとって耐摩耗性と同様に重要な特
性である書き味を損う傾向にある。この傾向は特に小径
細筆防用のペン先の場合に強いのであるが。
硬くて尖ったものであるがゆえと言える。
そこで、皮膜形成されるペン先基材は当然の結果として
予め丸みを帯びたものとされることになる。射出成形な
どのようにペン先基材の成形時に丸みをつけておくこと
もあるが、サンドブラスト。
予め丸みを帯びたものとされることになる。射出成形な
どのようにペン先基材の成形時に丸みをつけておくこと
もあるが、サンドブラスト。
バレル研摩、切削、電解研摩など後加工によることも多
い。
い。
寸法径の大きなものならば上述のような方法を必要に応
じて複数種組み合わせることによって十分に使用できる
製品を得ることができる。
じて複数種組み合わせることによって十分に使用できる
製品を得ることができる。
しかし、小径のペン先に所望形状の丸みを形成すること
は結構面倒なことであり+また往々にして反りバリなど
を生じてしまう。
は結構面倒なことであり+また往々にして反りバリなど
を生じてしまう。
本発明は上述したところに鑑み、ペン先基材自体が十分
な丸みを有していなくても皮膜を形成されたペン先その
ものが十分な丸みを有しておれば耐摩耗性と同時に書き
味も満足されるとの考えから出発してなされたものであ
る。即ち本発明は、真空蒸着法による1llrj摩耗性
皮膜を少くとも筆記当接部に有してなるペン先において
。
な丸みを有していなくても皮膜を形成されたペン先その
ものが十分な丸みを有しておれば耐摩耗性と同時に書き
味も満足されるとの考えから出発してなされたものであ
る。即ち本発明は、真空蒸着法による1llrj摩耗性
皮膜を少くとも筆記当接部に有してなるペン先において
。
1)11記皮膜が形成されるペン先基材は前記筆記当接
部に相当する部分として平坦部と角部とを有し、捷だ、
前記皮膜は前記ペン先基材の前記平坦部には厚く形成さ
れているとともに前記角部には、あるいは、前記角部に
かけてi薄く形成されており、ペン先の筆記当接部とし
ては前記ペン先基材の前記角部に相当する部分に丸みを
有していることを特徴とするぺ/先を要旨とするもので
ある。
部に相当する部分として平坦部と角部とを有し、捷だ、
前記皮膜は前記ペン先基材の前記平坦部には厚く形成さ
れているとともに前記角部には、あるいは、前記角部に
かけてi薄く形成されており、ペン先の筆記当接部とし
ては前記ペン先基材の前記角部に相当する部分に丸みを
有していることを特徴とするぺ/先を要旨とするもので
ある。
まず、皮膜の材質について一例を挙げると、アルミニウ
ム、チタン、クロム、モリフテン、タンタル、タングス
テン、ロジウム、銀、白金、金。
ム、チタン、クロム、モリフテン、タンタル、タングス
テン、ロジウム、銀、白金、金。
m、を鉛、ジルコニウム、八ツニウム、珪素、ボロン、
インジウムなどの金属や、これらの炭化物。
インジウムなどの金属や、これらの炭化物。
酸化物、窒化物などであり、1種もしくは2種以上の混
合物たり得るが、炭素のように通常の概念では決して耐
摩耗性があるとは考えられないものも真空蒸着法によっ
て耐摩耗性を有する皮膜となる。
合物たり得るが、炭素のように通常の概念では決して耐
摩耗性があるとは考えられないものも真空蒸着法によっ
て耐摩耗性を有する皮膜となる。
一方、ペン先基材の方はより広いiliα囲から材質を
選択することができる。即ち、前述した皮膜の材質例な
どを含めて各種金属9合金、金属化合物などのほかにも
、アセタール系、アミド系、アリル系などの種々合成樹
脂やこれらの焼結、焼成物などである。従って、セラミ
ックスなども適用できる。皮膜と同じ材質であることも
、また。
選択することができる。即ち、前述した皮膜の材質例な
どを含めて各種金属9合金、金属化合物などのほかにも
、アセタール系、アミド系、アリル系などの種々合成樹
脂やこれらの焼結、焼成物などである。従って、セラミ
ックスなども適用できる。皮膜と同じ材質であることも
、また。
皮膜よりも硬いものであることもできる。硬いものほど
一般に精密な成形が困難であり8本発明のペン先におけ
る耐摩耗性皮膜は整形の機能も有するからである。
一般に精密な成形が困難であり8本発明のペン先におけ
る耐摩耗性皮膜は整形の機能も有するからである。
更に電気化学的鍍金法などによる皮膜を有するものや改
質を受けたものであることもできる。
質を受けたものであることもできる。
以下、添付M面に示す実施例に基づいて説明する。
第1図、第2図のペン先11は、しばしば中心孔i i
、a内に摺動線材を配備されることのある小管式筆記
具のペン先の例である。ストレートなパイプ状であるこ
とも多いが、細筆防用の場合には図のテーパー状小径部
11bのように適宜小径化されることも多い。このペン
先11はペン先基材12と耐摩耗性皮膜16とよりなる
(第2図参照)。ペン先基材12は先端に平面部12’
aを有し、この平面部12aの内周縁部+2b、外周縁
部12’cは角ばっている。本発明でいうペン先基材の
平坦部、角部は本例においては平面部12a、内・外周
縁部+ 2b 、+ 20が該蟲するので、ここで詳し
く述べると、平坦部とは完全な平面である場合に限られ
ず、まだ、角部も鋭利であって実質的に曲率半径が零で
あると着像される場合に限らない。つまり。
、a内に摺動線材を配備されることのある小管式筆記
具のペン先の例である。ストレートなパイプ状であるこ
とも多いが、細筆防用の場合には図のテーパー状小径部
11bのように適宜小径化されることも多い。このペン
先11はペン先基材12と耐摩耗性皮膜16とよりなる
(第2図参照)。ペン先基材12は先端に平面部12’
aを有し、この平面部12aの内周縁部+2b、外周縁
部12’cは角ばっている。本発明でいうペン先基材の
平坦部、角部は本例においては平面部12a、内・外周
縁部+ 2b 、+ 20が該蟲するので、ここで詳し
く述べると、平坦部とは完全な平面である場合に限られ
ず、まだ、角部も鋭利であって実質的に曲率半径が零で
あると着像される場合に限らない。つまり。
平坦部も角部も曲率半径を有するものであってよいし、
その為の加工が施されていてもよい訳である。要は、耐
摩耗性皮膜によって、ペン先基材が全く丸みを有さない
場合にはペン先としくFi丸みを有することになり、ま
だペン先基(Aか丸みを有する場合にペン先としてはよ
り丸み、を有することになり、これによって書き味良好
たり得ることである。ちなみに第2図においてペン先基
材12の外周縁部12Cに小さいながらも曲率半径を付
与して描いであるのもここで述べたことを示すためであ
る。一方、1制摩耗性皮膜13はペン先基材12の平面
6部12a上に形成された厚肉部13aとペン先基材1
2の外周縁部12cから更に後方(図面上方)にかけて
形成された薄肉部131〕とよりなる。これによって、
ペン先11としてはペン先基材12の平面部12aに比
べると小面積の平面部t 1 cを先端に有するとと如
なり、また、ペン先基材12の内・外周縁部12b、1
2cに比べると相当する部分に丸みを有するものとなっ
てbるが、ここに本発明のペン先における耐摩耗性皮膜
の役割が存しているので次に説明する。
その為の加工が施されていてもよい訳である。要は、耐
摩耗性皮膜によって、ペン先基材が全く丸みを有さない
場合にはペン先としくFi丸みを有することになり、ま
だペン先基(Aか丸みを有する場合にペン先としてはよ
り丸み、を有することになり、これによって書き味良好
たり得ることである。ちなみに第2図においてペン先基
材12の外周縁部12Cに小さいながらも曲率半径を付
与して描いであるのもここで述べたことを示すためであ
る。一方、1制摩耗性皮膜13はペン先基材12の平面
6部12a上に形成された厚肉部13aとペン先基材1
2の外周縁部12cから更に後方(図面上方)にかけて
形成された薄肉部131〕とよりなる。これによって、
ペン先11としてはペン先基材12の平面部12aに比
べると小面積の平面部t 1 cを先端に有するとと如
なり、また、ペン先基材12の内・外周縁部12b、1
2cに比べると相当する部分に丸みを有するものとなっ
てbるが、ここに本発明のペン先における耐摩耗性皮膜
の役割が存しているので次に説明する。
耐摩耗性皮膜の役割は、ペン先の+Ii4摩耗性が不址
しているときはペン先に耐摩耗性を伺与するなど前提的
な役割を別にすれば、ペン先の形状をペン先基材の形状
と実際上達えることなく。
しているときはペン先に耐摩耗性を伺与するなど前提的
な役割を別にすれば、ペン先の形状をペン先基材の形状
と実際上達えることなく。
丸みを付は加えることにあると言える。即ち。
丸みを+Jけ加えるという物点では1例えば万年筆のペ
ン先の先端に溶着される所謂ペンポイントも同様の役割
を果すであろうが、そもそもペン先基材はその種類に応
じて最も好ましい形状に少くとも近づけて作られるもの
であり、耐摩耗性皮膜がより良い方向への作用を及ぼす
ことがあっても逆作用を及ぼすことは避けなければなら
ないのである。第2図において、ペン先11がペン先基
材12に比べると小面積化しながらも平面部j1cを有
することやテーノく一状小径部iib上の耐摩耗性皮膜
16が薄肉部13bとなっているのもこの理由ゆえのも
のであり。
ン先の先端に溶着される所謂ペンポイントも同様の役割
を果すであろうが、そもそもペン先基材はその種類に応
じて最も好ましい形状に少くとも近づけて作られるもの
であり、耐摩耗性皮膜がより良い方向への作用を及ぼす
ことがあっても逆作用を及ぼすことは避けなければなら
ないのである。第2図において、ペン先11がペン先基
材12に比べると小面積化しながらも平面部j1cを有
することやテーノく一状小径部iib上の耐摩耗性皮膜
16が薄肉部13bとなっているのもこの理由ゆえのも
のであり。
垂直状態での筆記を意図されるペン先11であるから、
ペン先基材12も平面部12aを有しまた。耐摩耗性皮
膜16の薄肉部15bが文字通り薄肉であるから、ペン
先基材12の本来の形状を維持できているのである。む
しろ耐摩耗性皮膜13の薄肉部13bは無くてもよいと
言え、それゆえに本発明では1角部には、あるいは、前
記角部にかけては」という表現を取っている。ちなみに
、核部にわける耐摩耗性皮膜は平坦部におけるのと比べ
て173以下、より好ましくは174以下とするのがよ
く、また、平坦部においても耐摩耗性皮膜は厚すぎる必
要はなく。
ペン先基材12も平面部12aを有しまた。耐摩耗性皮
膜16の薄肉部15bが文字通り薄肉であるから、ペン
先基材12の本来の形状を維持できているのである。む
しろ耐摩耗性皮膜13の薄肉部13bは無くてもよいと
言え、それゆえに本発明では1角部には、あるいは、前
記角部にかけては」という表現を取っている。ちなみに
、核部にわける耐摩耗性皮膜は平坦部におけるのと比べ
て173以下、より好ましくは174以下とするのがよ
く、また、平坦部においても耐摩耗性皮膜は厚すぎる必
要はなく。
数10 /lln以下、より好ましくは1〜10μmn
のオーダーで形成し、この範囲で丸みを十分にできるよ
う、ある程度はペン先基材に丸みイ;」けしておく方が
よい。
のオーダーで形成し、この範囲で丸みを十分にできるよ
う、ある程度はペン先基材に丸みイ;」けしておく方が
よい。
次に第3図乃至第5図のペン先21について説明する。
全体形状は例えば万年筆のペン先状とされるペン先21
のペン先基+A22には、前例のペン先基材12の場合
と同様に理解し易いよう平面状に描かれた平坦部が2つ
形成され′ている。前方平坦部22aと斜方平坦部22
1〕である。そして、耐摩耗性皮膜23は前方平坦部2
2;1には薄ぐ、斜方平坦部221〕には厚く形成され
ている1、従って1本例では両平坦部22a、22bの
臨接部22cが角部に当る1、これは本例のペン先21
が斜めに維持されての亀dCを5に図されたものである
ことによる。即ち1本19すを示した理由は、筆記のだ
めのそれぞれの道具や装置のペン先にはそれぞれの用途
に応じ蛇形状がイづ与される訳であるから、111例に
おいて述べた諸条件を満足させながらその用途に合致す
る耐摩耗性皮膜被覆物たらしめることか必要であって、
平坦部や角部が複E!!Sるからといってその全てに厚
く、あるいは薄く耐摩耗性皮膜を形成する必要はないこ
とを述べるためである尚、参照符号24はインキ通路で
あり、tた1本ペンのパイプ状チップやパイプスライド
式ンヤープペンンルのスライドパイプなど種々筆記具並
びに自動整図機やプリンターなどの種々装置のペン先を
挙げることができる。
のペン先基+A22には、前例のペン先基材12の場合
と同様に理解し易いよう平面状に描かれた平坦部が2つ
形成され′ている。前方平坦部22aと斜方平坦部22
1〕である。そして、耐摩耗性皮膜23は前方平坦部2
2;1には薄ぐ、斜方平坦部221〕には厚く形成され
ている1、従って1本例では両平坦部22a、22bの
臨接部22cが角部に当る1、これは本例のペン先21
が斜めに維持されての亀dCを5に図されたものである
ことによる。即ち1本19すを示した理由は、筆記のだ
めのそれぞれの道具や装置のペン先にはそれぞれの用途
に応じ蛇形状がイづ与される訳であるから、111例に
おいて述べた諸条件を満足させながらその用途に合致す
る耐摩耗性皮膜被覆物たらしめることか必要であって、
平坦部や角部が複E!!Sるからといってその全てに厚
く、あるいは薄く耐摩耗性皮膜を形成する必要はないこ
とを述べるためである尚、参照符号24はインキ通路で
あり、tた1本ペンのパイプ状チップやパイプスライド
式ンヤープペンンルのスライドパイプなど種々筆記具並
びに自動整図機やプリンターなどの種々装置のペン先を
挙げることができる。
次に本発明のペン先を製造する方法例について述べる1
、 本質的には種々の真空蒸着法において、蒸着卆 させる向き午蒸着源から距離、あるいは蒸着させる範囲
を絞るための窓格子の使用といった如く1条件や冶具な
どについて適宜選定すれば可能ではあるが、とりわけ効
率的と思えるのはノくイアススバッタリング法による場
合である。ノ(イアススバッタリング法は被蒸着物にバ
イアスをかけて電位を与え、これ尾よって蒸着エネルギ
ーを高め、もって良好な皮膜を形成することを目的とす
るスパッタリングの一方法であるが。
、 本質的には種々の真空蒸着法において、蒸着卆 させる向き午蒸着源から距離、あるいは蒸着させる範囲
を絞るための窓格子の使用といった如く1条件や冶具な
どについて適宜選定すれば可能ではあるが、とりわけ効
率的と思えるのはノくイアススバッタリング法による場
合である。ノ(イアススバッタリング法は被蒸着物にバ
イアスをかけて電位を与え、これ尾よって蒸着エネルギ
ーを高め、もって良好な皮膜を形成することを目的とす
るスパッタリングの一方法であるが。
本発明者らは、被蒸着物の曲率半径の小さな部分には電
界密度が犬きぐなることに着目し、イオン化した雰囲気
ガスが核部においてイオンボンバードと同等の作用をな
して皮膜形成を抑えないかと考え実施してみたところ、
実際良好な結果を得たものである。
界密度が犬きぐなることに着目し、イオン化した雰囲気
ガスが核部においてイオンボンバードと同等の作用をな
して皮膜形成を抑えないかと考え実施してみたところ、
実際良好な結果を得たものである。
壕だ、添付第6図は装置例の概念図である。
参照符号61がチタン、クロムなどよりなるターゲット
、即ち、必要に応じて槽内に導入されル酸素、 窒素、
アンモニア、メタン、エタン。
、即ち、必要に応じて槽内に導入されル酸素、 窒素、
アンモニア、メタン、エタン。
亜硫酸ガスなどによって酸化物、窒化物、炭化物、硫化
物などの皮膜を形成する母体、F162が皮膜形成され
るペン先基材(サンプル)66を載置するサンプルホル
ダー、同64がターゲツト61背面の磁石、同65がプ
ラズマ放電を安定化させるコイル、同66がターゲット
61とサンプルホルダー62との間に蒸着を阻害しない
よう配したリング状のアノード。
物などの皮膜を形成する母体、F162が皮膜形成され
るペン先基材(サンプル)66を載置するサンプルホル
ダー、同64がターゲツト61背面の磁石、同65がプ
ラズマ放電を安定化させるコイル、同66がターゲット
61とサンプルホルダー62との間に蒸着を阻害しない
よう配したリング状のアノード。
同67がサンプル加熱ヒーター、同6B、6.9が電源
であり、電源68によってアノード66に対するサンプ
ルホルダー62.サンプル63の電位が負になされてい
る。
であり、電源68によってアノード66に対するサンプ
ルホルダー62.サンプル63の電位が負になされてい
る。
以下1本発明のペン先の有する長所の説明を兼ねて実施
の一例を述べる。
の一例を述べる。
準備したサンプルは第1図、第2図に示した如きパイプ
状のペン先基材である。平面部直径0.12Wx、小径
化されない外径0.30肱。
状のペン先基材である。平面部直径0.12Wx、小径
化されない外径0.30肱。
中心孔直径0.o9m、長さ7Mのステンレス製で、内
周縁部、外周縁部としてアール近似でそれぞれ約6μm
、約32μmn の曲率半径の角部を有している。つま
り、予め研摩を施したものであるが不十分で、このペン
先基材だけでは小管式筆記具に組立てて紙に鎖記しても
中心孔内に紙屑などを詰め易く、また、ガリガリした感
触で滑らかな書き味を得られない。
周縁部、外周縁部としてアール近似でそれぞれ約6μm
、約32μmn の曲率半径の角部を有している。つま
り、予め研摩を施したものであるが不十分で、このペン
先基材だけでは小管式筆記具に組立てて紙に鎖記しても
中心孔内に紙屑などを詰め易く、また、ガリガリした感
触で滑らかな書き味を得られない。
しかし、これをサンプルホルダー上に平面部がチタンの
ターゲットに向くよう垂直に載置し。
ターゲットに向くよう垂直に載置し。
アルゴンガスによるイオンボンバード洗浄後。
2
アルゴンガス圧力1X 10 Torr + ザンプル
加熱温度300 ’C,直流電圧450V、直流電流1
6A、コイル電流10A(垂直磁界72Gauss )
、バイアス電圧−75Vの条件で、平面部における膜
厚が約2μ口1のチタン皮膜を形成後、アルゴンガス圧
力B x 10 Torr+窒素ガス圧力2 X 10
”T’orr 、直流電圧500V。
加熱温度300 ’C,直流電圧450V、直流電流1
6A、コイル電流10A(垂直磁界72Gauss )
、バイアス電圧−75Vの条件で、平面部における膜
厚が約2μ口1のチタン皮膜を形成後、アルゴンガス圧
力B x 10 Torr+窒素ガス圧力2 X 10
”T’orr 、直流電圧500V。
直流電流1.4 Aと条件の一部を変えて、同じく約2
μInの窒化チタン皮膜を形成したものはテーパー状小
径部上の膜厚(2層和)が最大で約1 /Jl11で、
また、内周縁部、外周縁部に相当する部分の曲率半径
がそれぞ訃約54μIn 、約80μmn となってお
り、これを小管式筆記具に組立てて筆記したところ1紙
屑など詰まり難く、また、滑らかな筆記感触が得られ、
速度変化が付随する手書き試験においても筆跡の幅変化
はほとんど見られなかった。
μInの窒化チタン皮膜を形成したものはテーパー状小
径部上の膜厚(2層和)が最大で約1 /Jl11で、
また、内周縁部、外周縁部に相当する部分の曲率半径
がそれぞ訃約54μIn 、約80μmn となってお
り、これを小管式筆記具に組立てて筆記したところ1紙
屑など詰まり難く、また、滑らかな筆記感触が得られ、
速度変化が付随する手書き試験においても筆跡の幅変化
はほとんど見られなかった。
第1図は本発明の一実施例を示す要部縦断面図、第2図
は第1図のA1部分の拡大図。 第6図は他の一実施例を示す要部縦断面図。 第4図は同斜視図、第5図は第3図のA2部分の拡大図
、第6図はバイアススパッタリング装置の一例を示す概
念図である。 11.12・・・・・・ペン先 12.22・・・・・・ペン先基材 12 a、22 a、22 b・・・・・・ペン先基材
の平坦部 12c、22c・・・・・ペン先基材の角部13.23
・・・・・・耐摩耗性皮膜。 特許出願人 ぺんてる株式会社 第3図 4 第4図 第5図 2ノ
は第1図のA1部分の拡大図。 第6図は他の一実施例を示す要部縦断面図。 第4図は同斜視図、第5図は第3図のA2部分の拡大図
、第6図はバイアススパッタリング装置の一例を示す概
念図である。 11.12・・・・・・ペン先 12.22・・・・・・ペン先基材 12 a、22 a、22 b・・・・・・ペン先基材
の平坦部 12c、22c・・・・・ペン先基材の角部13.23
・・・・・・耐摩耗性皮膜。 特許出願人 ぺんてる株式会社 第3図 4 第4図 第5図 2ノ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空蒸着法による耐摩耗性皮膜を少くとも筆記当接部に
有してなるペン先において、的記皮膜が形成されるペン
先基材は前記筆記当接部に相当する部分として平坦部と
角部とを有し、また、前記皮膜は前記ペン先基材の前記
平坦部には厚く形成されているとともに前記角部には。 あるいは、前記角部にかけては薄く形成されており、ペ
ン先の筆記当接部としては前記ペン先基材のr+11記
角部に相当する部分に丸みを有していることを特徴とす
るペン先3.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4164384A JPS60184889A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ペン先 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4164384A JPS60184889A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ペン先 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184889A true JPS60184889A (ja) | 1985-09-20 |
Family
ID=12614011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4164384A Pending JPS60184889A (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | ペン先 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184889A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147299A (ja) * | 1984-08-11 | 1986-03-07 | 株式会社パイロット | パイプペンのペン先 |
| JPS6318286U (ja) * | 1986-07-22 | 1988-02-06 | ||
| US5948597A (en) * | 1991-12-12 | 1999-09-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Dyes for color filters and photosensitive resist resin composition containing the same |
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-
1984
- 1984-03-05 JP JP4164384A patent/JPS60184889A/ja active Pending
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