JPH07201039A - 磁気記録媒体およびその製法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製法Info
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- JPH07201039A JPH07201039A JP6313609A JP31360994A JPH07201039A JP H07201039 A JPH07201039 A JP H07201039A JP 6313609 A JP6313609 A JP 6313609A JP 31360994 A JP31360994 A JP 31360994A JP H07201039 A JPH07201039 A JP H07201039A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属薄層上面において従来より大きい残留磁
化およびことに横方向、すなわちテープ走行方向に直交
する方向において保磁磁界強さを10kA/mまたはそ
れ以上にする残留磁気を有する磁気記録媒体ならびにそ
の余の品質において変らないこのような磁気記録媒体の
製造を可能ならしめる方法を提供すること。 【構成】 ポリマー基板シート2上に磁性金属もしくは
磁性合金の層を形成する間に、貴ガス流7を基板シート
上面に直接的に向けて流し、この際の相対的貴流量が
1.0・104 から6.0・104 となるようにし、か
つ形成された金属薄層に、貴ガスもしくは貴ガス混合
物、ことにアルゴンを含有させる。
化およびことに横方向、すなわちテープ走行方向に直交
する方向において保磁磁界強さを10kA/mまたはそ
れ以上にする残留磁気を有する磁気記録媒体ならびにそ
の余の品質において変らないこのような磁気記録媒体の
製造を可能ならしめる方法を提供すること。 【構成】 ポリマー基板シート2上に磁性金属もしくは
磁性合金の層を形成する間に、貴ガス流7を基板シート
上面に直接的に向けて流し、この際の相対的貴流量が
1.0・104 から6.0・104 となるようにし、か
つ形成された金属薄層に、貴ガスもしくは貴ガス混合
物、ことにアルゴンを含有させる。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は本質的に、ポリマー基板シート
と、PVD法により蒸着用容器上を長手方向に移動する
ポリマー基板上面に析出蒸着された密着磁性金属薄層と
から成る磁気記録媒体ならびに磁性金属または磁性合金
を含有する蒸気噴射により、長手方向に移動するポリマ
ー基板シート上に密着磁性金属薄層の形態で析出蒸着さ
せる磁気記録媒体の製法に関する。
と、PVD法により蒸着用容器上を長手方向に移動する
ポリマー基板上面に析出蒸着された密着磁性金属薄層と
から成る磁気記録媒体ならびに磁性金属または磁性合金
を含有する蒸気噴射により、長手方向に移動するポリマ
ー基板シート上に密着磁性金属薄層の形態で析出蒸着さ
せる磁気記録媒体の製法に関する。
【0002】
【従来技術】金属薄層をポリマー担体材料上に形成する
ことは、磁気記録媒体の製造においてことに重要であ
る。これまでの特定の磁気記録媒体にくらべて、密着磁
性金属薄層はさらに高い記録密度を有する記録媒体をも
たらし得る。これは20から1000nmの薄い層厚
さ、これに関連して低い減磁効果、容積単位当たり大き
い基礎磁極数、これに関連して高い磁化に基因する。従
来の特定の磁気媒体においては、テープ走行方向に配向
された磁性粉体を有する長手方向記録が一般的であった
が、高密度記録磁性薄層においては、密着金属層におけ
る基礎磁極の、磁気ヘッドの前を走過せしめられる斜配
向が問題になる。強磁性材料の基板シート上における斜
方向の析出蒸着により、ことにCo−Ni−O層に関し
て米国特許3342632号および4323629号明
細書に、R.スギタらのCo−Cr層について「ダイジ
ェスト、インターマグ」(1990)の論稿FA−08
に記載されているように、著しく改善された記録特性が
達成され得る。形成された磁性層の特性に決定的な影響
を与えるそれぞれの場合の好ましい角度範囲は、磁性材
料の蒸着ないしスパッタリングの際、蒸着源ないしスパ
ッタリング陰極と絞りないしブラインドにより調整され
る。
ことは、磁気記録媒体の製造においてことに重要であ
る。これまでの特定の磁気記録媒体にくらべて、密着磁
性金属薄層はさらに高い記録密度を有する記録媒体をも
たらし得る。これは20から1000nmの薄い層厚
さ、これに関連して低い減磁効果、容積単位当たり大き
い基礎磁極数、これに関連して高い磁化に基因する。従
来の特定の磁気媒体においては、テープ走行方向に配向
された磁性粉体を有する長手方向記録が一般的であった
が、高密度記録磁性薄層においては、密着金属層におけ
る基礎磁極の、磁気ヘッドの前を走過せしめられる斜配
向が問題になる。強磁性材料の基板シート上における斜
方向の析出蒸着により、ことにCo−Ni−O層に関し
て米国特許3342632号および4323629号明
細書に、R.スギタらのCo−Cr層について「ダイジ
ェスト、インターマグ」(1990)の論稿FA−08
に記載されているように、著しく改善された記録特性が
達成され得る。形成された磁性層の特性に決定的な影響
を与えるそれぞれの場合の好ましい角度範囲は、磁性材
料の蒸着ないしスパッタリングの際、蒸着源ないしスパ
ッタリング陰極と絞りないしブラインドにより調整され
る。
【0003】基板シート上における金属層の接着性を改
善するために、また金属磁性層、ことに表面層の機械的
安定性を保証するために、酸素の存在下に金属薄層の形
成を行うことは公知である(西独特願公開324177
5号公報)。しかしながら、わずかな酸素量であって
も、これが残留磁化の低減および保磁磁界強さの増大を
もたらし、この程度が著しいことは好ましくない。
善するために、また金属磁性層、ことに表面層の機械的
安定性を保証するために、酸素の存在下に金属薄層の形
成を行うことは公知である(西独特願公開324177
5号公報)。しかしながら、わずかな酸素量であって
も、これが残留磁化の低減および保磁磁界強さの増大を
もたらし、この程度が著しいことは好ましくない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この分野にお
ける技術的課題ないし本発明の目的は、金属薄層上面に
おいて従来より大きい残留磁化およびことに横方向、す
なわちテープ走行方向に直交する方向において保磁磁界
強さを10kA/mまたはそれ以上にする残留磁気を有
する磁気記録媒体ならびにその余の品質において変らな
いこのような磁気記録媒体の製造を可能ならしめる方法
を提供することである。
ける技術的課題ないし本発明の目的は、金属薄層上面に
おいて従来より大きい残留磁化およびことに横方向、す
なわちテープ走行方向に直交する方向において保磁磁界
強さを10kA/mまたはそれ以上にする残留磁気を有
する磁気記録媒体ならびにその余の品質において変らな
いこのような磁気記録媒体の製造を可能ならしめる方法
を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】しかるに、上述した課題
ないし目的は、ポリマー基板シート上に磁性金属もしく
は磁性合金の層を形成する間に、貴ガス流を基板シート
上面に直接的に向けて流し、この際の相対的貴流量が
1.0・104 から6.0・104 となるようにし、か
つ形成された金属薄層に、貴ガスもしくは貴ガス混合
物、ことにアルゴンを含有させることにより、解決ない
し達成され、同時に磁性金属薄層上面において、長手方
向残留磁化の横方向残留磁化に対する割合が0.9から
1.8になされることが本発明者らにより見出された。
ないし目的は、ポリマー基板シート上に磁性金属もしく
は磁性合金の層を形成する間に、貴ガス流を基板シート
上面に直接的に向けて流し、この際の相対的貴流量が
1.0・104 から6.0・104 となるようにし、か
つ形成された金属薄層に、貴ガスもしくは貴ガス混合
物、ことにアルゴンを含有させることにより、解決ない
し達成され、同時に磁性金属薄層上面において、長手方
向残留磁化の横方向残留磁化に対する割合が0.9から
1.8になされることが本発明者らにより見出された。
【0006】本発明により、磁性金属薄層は、発生期磁
性金属分子に対する貴ガス原子の割合が、約1/100
0から1/100となるような量の貴ガスを含有する。
貴ガス含量が増大するに従って、記録媒体の長手方向お
よび横方向における磁気特性が影響を受け、横方向にお
ける磁化は増大し続け、同時に長手方向における磁化は
減少するが、これは貴ガスが規則正しい形態形成を阻害
することによるものと推測される。ことに磁化の高い横
方向成分を維持し、長手方向残留磁化の横方向残留磁化
の割合が約0.9から約1.8である磁気等方性の、な
いし充分な磁気等方性の金属薄層をポリマー基板シート
上に形成することを可能とする。この場合の保磁磁界強
さないし保磁力は約10から40kA/mの範囲であ
る。貴ガスとしては、例えばヘリウム、ネオンおよびこ
とに経済的根源からアルゴンが、またこれらの混合気体
が使用される。
性金属分子に対する貴ガス原子の割合が、約1/100
0から1/100となるような量の貴ガスを含有する。
貴ガス含量が増大するに従って、記録媒体の長手方向お
よび横方向における磁気特性が影響を受け、横方向にお
ける磁化は増大し続け、同時に長手方向における磁化は
減少するが、これは貴ガスが規則正しい形態形成を阻害
することによるものと推測される。ことに磁化の高い横
方向成分を維持し、長手方向残留磁化の横方向残留磁化
の割合が約0.9から約1.8である磁気等方性の、な
いし充分な磁気等方性の金属薄層をポリマー基板シート
上に形成することを可能とする。この場合の保磁磁界強
さないし保磁力は約10から40kA/mの範囲であ
る。貴ガスとしては、例えばヘリウム、ネオンおよびこ
とに経済的根源からアルゴンが、またこれらの混合気体
が使用される。
【0007】本発明による磁気記録媒体用に好ましいポ
リマー基板シート自体は公知である。ことにポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルス
ルホン(PESU)、ポリフェニレンスルフィド(PP
S)、熱互変性液晶ポリマー(LCP)が好ましく、中
でもPETおよびPI基板シートが金属薄層記録媒体用
の基板シートとして特に秀れている。層形成されるべき
基板シート上面は、例えば接着力改善のため、全面もし
くは部分的に、粉末充填塗料層で被覆され、かつ/もし
くは金属被覆される。
リマー基板シート自体は公知である。ことにポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルス
ルホン(PESU)、ポリフェニレンスルフィド(PP
S)、熱互変性液晶ポリマー(LCP)が好ましく、中
でもPETおよびPI基板シートが金属薄層記録媒体用
の基板シートとして特に秀れている。層形成されるべき
基板シート上面は、例えば接着力改善のため、全面もし
くは部分的に、粉末充填塗料層で被覆され、かつ/もし
くは金属被覆される。
【0008】このような基板シート上に、公知の態様で
密着磁性金属薄層が形成される。適当な金属層は、一般
的にCo−Ni−Cr、Co−Pt、Co−Ni−O、
Co−Crのようなコバルト含有金属層である。ことに
15から35At%のクロムを含有するコバルト/クロ
ム層、10At%より多いニッケルを含有するコバルト
/ニッケル層、10At%より多いニッケル分と3から
45At%の酸素を含有するコバルト/ニッケル酸素層
が好ましい。鉄分を基礎とする金属薄層も適当である。
これら金属層の形成は、PVD法、すなわち真空蒸着、
電子ビーム蒸着、スパッタリング、イオン塗金などによ
り行われる。このようにして形成される磁性金属層は、
単一薄層または2層ないしそれ以上の重積層を包含し、
層厚さは20nmから500nmになされる。下層の場
合には、層厚さは2nmから500nmが好ましい。下
層としては、クロム、チタン、アルミニウム、ゲルマニ
ウム、珪素、タングステン、白金またはパーマロイなど
が使用される。
密着磁性金属薄層が形成される。適当な金属層は、一般
的にCo−Ni−Cr、Co−Pt、Co−Ni−O、
Co−Crのようなコバルト含有金属層である。ことに
15から35At%のクロムを含有するコバルト/クロ
ム層、10At%より多いニッケルを含有するコバルト
/ニッケル層、10At%より多いニッケル分と3から
45At%の酸素を含有するコバルト/ニッケル酸素層
が好ましい。鉄分を基礎とする金属薄層も適当である。
これら金属層の形成は、PVD法、すなわち真空蒸着、
電子ビーム蒸着、スパッタリング、イオン塗金などによ
り行われる。このようにして形成される磁性金属層は、
単一薄層または2層ないしそれ以上の重積層を包含し、
層厚さは20nmから500nmになされる。下層の場
合には、層厚さは2nmから500nmが好ましい。下
層としては、クロム、チタン、アルミニウム、ゲルマニ
ウム、珪素、タングステン、白金またはパーマロイなど
が使用される。
【0009】金属薄層の耐摩耗性、耐腐食性を改善する
ために、これに厚さ1から100nmの被覆層を設けて
もよい。この場合炭素層被覆、金属層表面酸化、通常、
弗素含有ポリエーテルを基礎とする液状オリゴマーによ
る塗布層、アルミニウム、珪素、ジルコニウム、ハフニ
ウム、チタン、これら元素の合金の酸化物、窒化物また
は炭化物の形成、これらの処理の組合わせなどが公知で
ある。保護層としては、また約0.5μmから3μm厚
さの、例えばポリシロキサン、ポリエステル、ポリウレ
タン、エポキシド、ポリアクリレートまたはこけらの混
合物から成るポリマー塗料層も適当である。
ために、これに厚さ1から100nmの被覆層を設けて
もよい。この場合炭素層被覆、金属層表面酸化、通常、
弗素含有ポリエーテルを基礎とする液状オリゴマーによ
る塗布層、アルミニウム、珪素、ジルコニウム、ハフニ
ウム、チタン、これら元素の合金の酸化物、窒化物また
は炭化物の形成、これらの処理の組合わせなどが公知で
ある。保護層としては、また約0.5μmから3μm厚
さの、例えばポリシロキサン、ポリエステル、ポリウレ
タン、エポキシド、ポリアクリレートまたはこけらの混
合物から成るポリマー塗料層も適当である。
【0010】磁気記録媒体を製造するため、本発明にお
いては、磁性金属または磁性合金を含有する蒸気流を、
移動するポリマー基板シート上に噴射して、金属薄層状
に析出沈積させる。金属薄層の形成に際し、貴ガス流を
基板シート上面に直接的に向け、シートの層形成部分全
体に施すことにより、簡単に大きい残留磁化成分をもた
らし得る。この場合、貴ガス流割合を、Q/(v・b・
d)(ただし、Qは貴ガス流量(m3 /分)、vは層形
成速度ないし基板シート搬送速度(m3 /分)、dは金
属薄層の厚さ(m)および幅(m)を意味する)で測定
して、ほぼ1.0・104 から6.0・104 とするの
が好ましい。本発明方法は、ことに金属薄層中における
貴ガス原子含有量を容易に調整し、制御することを可能
ならしめる。このためには、処理空間容積に対応して貴
ガスを計量し誘導するのみで充分である。
いては、磁性金属または磁性合金を含有する蒸気流を、
移動するポリマー基板シート上に噴射して、金属薄層状
に析出沈積させる。金属薄層の形成に際し、貴ガス流を
基板シート上面に直接的に向け、シートの層形成部分全
体に施すことにより、簡単に大きい残留磁化成分をもた
らし得る。この場合、貴ガス流割合を、Q/(v・b・
d)(ただし、Qは貴ガス流量(m3 /分)、vは層形
成速度ないし基板シート搬送速度(m3 /分)、dは金
属薄層の厚さ(m)および幅(m)を意味する)で測定
して、ほぼ1.0・104 から6.0・104 とするの
が好ましい。本発明方法は、ことに金属薄層中における
貴ガス原子含有量を容易に調整し、制御することを可能
ならしめる。このためには、処理空間容積に対応して貴
ガスを計量し誘導するのみで充分である。
【0011】金属薄層中の貴ガス分量を充分に高くする
ため、すなわち処理空間中に誘導される貴ガスを、長手
方向残留磁化の横方向残留磁化に対する割合に関連し
て、特に効率的に利用するため、貴ガス流を基板シート
上に対して少なくとも接線方向近くに向けて誘導するの
が好ましい。
ため、すなわち処理空間中に誘導される貴ガスを、長手
方向残留磁化の横方向残留磁化に対する割合に関連し
て、特に効率的に利用するため、貴ガス流を基板シート
上に対して少なくとも接線方向近くに向けて誘導するの
が好ましい。
【0012】さらに、基板シート上面に対して指向され
る貴ガス流に、処理用気体、例えばH2 、N2 、O2 人
口空気2から50容量%を均斉に分布させ、これにより
ことに金属薄層の横方向における磁気均斉性を改善する
ことができる。
る貴ガス流に、処理用気体、例えばH2 、N2 、O2 人
口空気2から50容量%を均斉に分布させ、これにより
ことに金属薄層の横方向における磁気均斉性を改善する
ことができる。
【0013】さらに本発明の特徴は、ポリマー基板シー
ト上面に層形成される間、加熱、冷却可能の成形ローラ
に誘導され、このローラ温度が、使用される基板シート
材料および処理条件に対応して、−30℃から+400
℃の間に、しかもこの間でなるべく高く選定される。良
好な機械的特性をもたらすためには、ポリマー基板シー
ト温度は、ガラス転移点を上回らないように、例えばP
ETについて82℃となるようになされるべきである。
層形成ローラ温度の最高限調整可能度は、層形成される
べき基板シートの温度負荷耐性および基板シート搬送速
度、層形成速度(電子ビーム発生源ないし蒸散装置の能
力)のような選択された成層処理条件に依存するが、こ
れは層形成ローラ温度とならんで層形成に際して調整さ
れる基板シート温度に重大な影響を与える。これは例え
ば処理空間に設けられる層形成ローラ中を熱媒体が貫流
せしめられることにより生起する。金属薄層蒸着の間に
基板シート温度が上昇するにつれて、金属薄層における
横方向の残留磁化Mも増大することが見出された。従っ
て、密着金属薄層は、所定の横方向残留磁束φr =Mr
・dまで減少された層厚さdで形成される。以下におい
て実施例により本発明をさら具体的に説明する。
ト上面に層形成される間、加熱、冷却可能の成形ローラ
に誘導され、このローラ温度が、使用される基板シート
材料および処理条件に対応して、−30℃から+400
℃の間に、しかもこの間でなるべく高く選定される。良
好な機械的特性をもたらすためには、ポリマー基板シー
ト温度は、ガラス転移点を上回らないように、例えばP
ETについて82℃となるようになされるべきである。
層形成ローラ温度の最高限調整可能度は、層形成される
べき基板シートの温度負荷耐性および基板シート搬送速
度、層形成速度(電子ビーム発生源ないし蒸散装置の能
力)のような選択された成層処理条件に依存するが、こ
れは層形成ローラ温度とならんで層形成に際して調整さ
れる基板シート温度に重大な影響を与える。これは例え
ば処理空間に設けられる層形成ローラ中を熱媒体が貫流
せしめられることにより生起する。金属薄層蒸着の間に
基板シート温度が上昇するにつれて、金属薄層における
横方向の残留磁化Mも増大することが見出された。従っ
て、密着金属薄層は、所定の横方向残留磁束φr =Mr
・dまで減少された層厚さdで形成される。以下におい
て実施例により本発明をさら具体的に説明する。
【0014】
【実施例】実施例1 10μmポリエチレンテレフタレート基板シート上に、
添付図面に略図的に示される装置において、20nm厚
さのCo80Ni20層を蒸着した。装置は真空室(1)を
有し、この中でポリエチレンテレフタレート基板シート
(2)が巻戻しローラ(3)から層形成ローラ(4)を
経て巻取りローラ(5)に案内誘導され、層形成ローラ
(4)の下方に磁性層形成材料CoおよびNiが給送さ
れる蒸着装置(6)が設けられ、これら金属蒸気の噴射
流(7)が、ブラインド(8)、(8′)により遮蔽さ
れて、最大限90°から最少限30°の入射角でシート
(2)に噴射され、これに析出沈着せしめられる。層形
成はそれぞれ17m/分の左方から右方へのシート走行
速度、3.7・104 のアルゴンガス流量割合(試料
B)ならびに2.8・104 のアルゴンガス流量割合
(試料C)において右方から左方へのガス流動で行われ
る。アルゴンは基板シート上面に対してほぼ接線方向に
導管(9)により案内指向される。層形成ローラ(4)
の温度は−25℃になされた。Co80Ni20層の磁気特
性は、揺動磁気計により測定され、下表に掲記される。
添付図面に略図的に示される装置において、20nm厚
さのCo80Ni20層を蒸着した。装置は真空室(1)を
有し、この中でポリエチレンテレフタレート基板シート
(2)が巻戻しローラ(3)から層形成ローラ(4)を
経て巻取りローラ(5)に案内誘導され、層形成ローラ
(4)の下方に磁性層形成材料CoおよびNiが給送さ
れる蒸着装置(6)が設けられ、これら金属蒸気の噴射
流(7)が、ブラインド(8)、(8′)により遮蔽さ
れて、最大限90°から最少限30°の入射角でシート
(2)に噴射され、これに析出沈着せしめられる。層形
成はそれぞれ17m/分の左方から右方へのシート走行
速度、3.7・104 のアルゴンガス流量割合(試料
B)ならびに2.8・104 のアルゴンガス流量割合
(試料C)において右方から左方へのガス流動で行われ
る。アルゴンは基板シート上面に対してほぼ接線方向に
導管(9)により案内指向される。層形成ローラ(4)
の温度は−25℃になされた。Co80Ni20層の磁気特
性は、揺動磁気計により測定され、下表に掲記される。
【0015】
【表1】
【0016】アルゴンの存在にCo80Ni20層を蒸着さ
せた結果として、長手方向および横方向における均斉な
安定残留磁化を示す磁気記録媒体がえられた。残留磁化
は試料Cが著しく高い。
せた結果として、長手方向および横方向における均斉な
安定残留磁化を示す磁気記録媒体がえられた。残留磁化
は試料Cが著しく高い。
【0017】実施例2 実施例1と同様にCo80Ni20層が、10μm厚さのポ
リエチレンテレフタレート基板シート上に蒸着された。
この場合、アルゴンと人工空気の割合が12:1である
混合処理ガス流を基板シート上面に向けて流した。この
アルゴンガス流量割合は、3.3・104 とした。人工
空気は、横方向における切換え磁場分布に有利に作用し
た。
リエチレンテレフタレート基板シート上に蒸着された。
この場合、アルゴンと人工空気の割合が12:1である
混合処理ガス流を基板シート上面に向けて流した。この
アルゴンガス流量割合は、3.3・104 とした。人工
空気は、横方向における切換え磁場分布に有利に作用し
た。
【0018】
【表2】
【図1】本発明方法を実施する装置の略図である。
1‥‥真空室 2‥‥ポリマー基板シート 3‥‥巻戻しローラ 4‥‥層形成ローラ 5‥‥巻取りローラ 6‥‥蒸着装置 7‥‥金属蒸気噴射流 8、8′‥‥ブラインド 9‥‥接線方向導管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター、ハイルマン ドイツ、67098、バート、デュルクハイム、 オットー−シュミット−グロース−シュト ラーセ、42
Claims (6)
- 【請求項1】 本質的に、ポリマー基板シートと、PV
D法により蒸着用容器上を長手方向に移動するポリマー
基板上面に析出蒸着された密着磁性金属薄層とから成る
磁気記録媒体であって、密着磁性金属薄層が貴ガスまた
はその混合気体、ことにアルゴンを含有し、この薄層平
面において、長手方向残留磁化の横方向残留磁化に対す
る割合が0.9から1.8になされていることを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項2】 磁性金属薄層上面に1層または複数層の
保護層が設けられていることを特徴とする、請求項
(1)による磁気記録媒体。 - 【請求項3】 磁性金属または磁性合金を含有する蒸気
噴射により、長手方向に移動するポリマー基板シート上
に密着磁性金属薄層の形態で析出蒸着させる磁気記録媒
体の製法であって、この薄層平面において、長手方向残
留磁化の横方向残留磁化に対する割合を0.9から1.
8とし、磁性金属もしくは磁性合金をポリマー基板シー
ト上に積層する間、貴ガス流を基板シート上面に直接的
に向けて流し、この際の相対的貴ガス流量、すなわち量
割合、貴ガス流過量(毎分)/金属薄層析出蒸着量(毎
分)が1.0・104 から6.0・104 となるように
することを特徴とする製法。 - 【請求項4】 貴ガス流を基板シート上面に対して少な
くともほぼ接線方向に誘導することを特徴とする、請求
項(3)による製法。 - 【請求項5】 貴ガス流が2から50容量%の処理気体
(H2 、N2 、O2合成空気)を均斉に分布含有するこ
とを特徴とする、請求項(3)による製法。 - 【請求項6】 ポリマー基板シートを、その磁性金属も
しくは磁性合金による成層の間、加熱および冷却し得る
成層ローラに誘導し、この成層ローラ温度を、温度範囲
−30℃から+400℃の間で選定される、ポリマー基
板シートの温度負荷耐性により制限することを特徴とす
る、請求項(3)による製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4342929 | 1993-12-16 | ||
| DE4342929.7 | 1993-12-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07201039A true JPH07201039A (ja) | 1995-08-04 |
Family
ID=6505182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6313609A Pending JPH07201039A (ja) | 1993-12-16 | 1994-12-16 | 磁気記録媒体およびその製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5585139A (ja) |
| JP (1) | JPH07201039A (ja) |
| DE (1) | DE4443530A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09153218A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法および薄膜型磁気記録媒体 |
| FR2753725B1 (fr) * | 1996-09-26 | 1998-11-27 | Tecmachine | Revetement de surface de materiaux isolants, son procede d'obtention et son application pour la realisation de blindages pour boitiers isolants |
| JPH116071A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-12 | Sony Corp | プラズマcvd法及びプラズマcvd装置 |
| JPH1112721A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-01-19 | Sony Corp | ガス導入管及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| TWI247728B (en) * | 2004-04-09 | 2006-01-21 | Asia Optical Co Inc | Molding die for molding glass |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3565694D1 (en) * | 1984-02-02 | 1988-11-24 | Hitachi Metals Ltd | Process for manufacturing magnetic recording media |
| CA1235808A (en) * | 1984-03-22 | 1988-04-26 | Tetsuo Oka | Vertical magnetic recording medium and process for preparation thereof |
| KR890004257B1 (ko) * | 1984-10-29 | 1989-10-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록매체 및 그 제조법 |
| US4663193A (en) * | 1984-12-26 | 1987-05-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Process for manufacturing magnetic recording medium |
| JP2662777B2 (ja) * | 1985-04-15 | 1997-10-15 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPS62188206A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-08-17 | Nippon Mining Co Ltd | Fe−Si−Al合金磁性膜及びその製造方法並びに薄膜積層磁気ヘツド |
| EP0435159B1 (en) * | 1989-12-27 | 1994-03-09 | Mitsubishi Kasei Corporation | Longitudinal magnetic recording medium |
| DE4101195A1 (de) * | 1991-01-21 | 1992-07-23 | Basf Magnetics Gmbh | Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungstraegers |
-
1994
- 1994-12-07 DE DE4443530A patent/DE4443530A1/de not_active Withdrawn
- 1994-12-12 US US08/355,300 patent/US5585139A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-16 JP JP6313609A patent/JPH07201039A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5585139A (en) | 1996-12-17 |
| DE4443530A1 (de) | 1995-06-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040525 |