JPS60187531U - 平行平板型プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

平行平板型プラズマｃｖｄ装置

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Publication number
JPS60187531U
JPS60187531U JP7639784U JP7639784U JPS60187531U JP S60187531 U JPS60187531 U JP S60187531U JP 7639784 U JP7639784 U JP 7639784U JP 7639784 U JP7639784 U JP 7639784U JP S60187531 U JPS60187531 U JP S60187531U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lower electrode
plasma cvd
parallel plate
electrode
cvd apparatus
Prior art date
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Pending
Application number
JP7639784U
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English (en)
Inventor
柿沼　弘明
守 吉田
哲 西川
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の平行平板型プラズマＣＶＤ装置の一
実施例をに路線的に示す断面図、第２図は従来の平行平
板型プラズマＣＶＤ装置を説明するための断面図である
。 １０・・・ペルジャー、１１・・・ガス供給管、１２・
・・上部電極、１２ａ〜１２ｎ・・・噴出口、１３・・
・基板、１４・・・下部電極、１４ａ〜１４ｎ・・・穴
、１５・・・ヒータ、１６・・・ペルジャーの台、１７
・・・回転軸、１８・・・仕切板。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　ペルジャー内に上部電極と、これに対向して設けた
    下部電極と、排気管を有するペルジャーの台とを具え、
    該下部電極上に基板を載置し、外部から導入した原料ガ
    スを前記上部電極の噴出口から噴出させて該上部電極と
    下部電極との間で分解して前記基板上に堆積させて成膜
    する構造の平行平板型プラズマＣＶＤ装置において、前
    記下部電極に分解されたガス及び未分解のガスを前記下
    部電極の下方へ流すための案内手段を具えたことを特徴
    とする平行平板型プラズマＣＶＤ装置。 ２　前記案内手段を前記下部電極に設けた複数個の穴と
    することを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記
    載の平行平板型プラズマＣＶＤ装置。 ３　前記案内手段を前記下部電極に設けた複数個の穴と
    、該下部電極の下側であってこの電極の周囲に対応する
    ペルジャーの台に設けた仕切板とすることを特徴とする
    実用新案登録請求の範囲第１項記載の平行平板型プラズ
    マＣＶＤ装置。
JP7639784U 1984-05-23 1984-05-23 平行平板型プラズマｃｖｄ装置 Pending JPS60187531U (ja)

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JP7639784U JPS60187531U (ja) 1984-05-23 1984-05-23 平行平板型プラズマｃｖｄ装置

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JP7639784U JPS60187531U (ja) 1984-05-23 1984-05-23 平行平板型プラズマｃｖｄ装置

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JPS60187531U true JPS60187531U (ja) 1985-12-12

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