JPS601882A - 半導体光集積回路 - Google Patents

半導体光集積回路

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Publication number
JPS601882A
JPS601882A JP58109975A JP10997583A JPS601882A JP S601882 A JPS601882 A JP S601882A JP 58109975 A JP58109975 A JP 58109975A JP 10997583 A JP10997583 A JP 10997583A JP S601882 A JPS601882 A JP S601882A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
optical integrated
integrated circuit
semiconductor optical
fet
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Pending
Application number
JP58109975A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Okuda
奥田 寛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP58109975A priority Critical patent/JPS601882A/ja
Publication of JPS601882A publication Critical patent/JPS601882A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H29/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one light-emitting semiconductor element covered by group H10H20/00
    • H10H29/10Integrated devices comprising at least one light-emitting semiconductor component covered by group H10H20/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0261Non-optical elements, e.g. laser driver components, heaters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体光集積回路に関するものである。
〔背景技術〕
従来より汎く用いられている光増幅回路を第1図に示す
。第1図の回路は発光素子、受光素子、14T等の個々
の素子より構成されている。そのため素子全体のザイズ
は大きく、重111:も重い。実用上軽量コンパクト化
が望まれ、これを実現するには集積化が必要である。
〔発明の開示〕
本発明は、上記の課題を解決する半導体光集積回路の4
14造を提供するものであり、光増幅機能をそなえた光
集積回路である。
本発明は、同一半導体基板」−に1個の発光素子と2個
のFETを形成し、上記FETQ内第10FETは所定
の電流を発光素子に流すドライバーとして用い、この第
10F’ETと並列接続にある第2のFETを受光器か
つ増幅器とした構造を有する光集積回路である。
以下本発明を図面に基づいて説明する。
第2図は本発明の光集積素子の構造を示丈。
まず1nP半絶縁基板l」二にp−InPクラッド層2
、p−InGaAsP活性層3、n−1nPクラッド層
1、からなる半導体レーザを形成し、その上にI nG
aAs 動作層5、p−InP )’h ”を有し、ソ
ースS+7+ゲートG19、ドレインD+12 からな
る第1の接合型FETを形成し、そしてソース5210
.ゲー)Gg、11. ドレインD213からなる第2
の接合型FETを形成する。
第1の接合型FETは半導体レーザに所定の電流を流す
ドライバーであり、所定の電流例えばレーザ発振しきい
値電流量が得られるようにゲー1−Gx9に電圧を印加
しておく。他方第2の接合型FETにはゲー)G21.
1に適当な電圧例えば電流がピンチオフされる電圧を印
加しておき、ゲー)Ggll近くに外部から光信号を入
射することによりゲー)G211下のN−1nGaAs
 動作層5内空乏層が変調々 を聯11、第2の接合型FETに光信号により増rlJ
された電流が流れるようにする。その結果半導体レーザ
にレーザ発振しきい値電流以上の電流が流れれても良い
以上の本発明の説明においては、説明上接合型FETを
用いたが、シコトキー型FETでも同様の効果が得られ
、この場合p−InPff48を除去した構造となる。
又発光素子として、半導体レーゾ“を用いたが、発光ダ
イオードの場合も同様であり、レーザ発振しきい値電流
以下て使用すれば発光ダイオードになる。
〔産業上の利用可能性〕
以上述べた如く、本発明に従えば、同−半絶縁性半導体
基板上に1個の発光素子と2個のFETを形成し、その
内1個のFETに受光器かつ増幅器の機能を持たせるこ
とにより、光増幅機能をそなえた光集積回路であり、光
増幅器の軽Ii)、コンバクI・化を実現させることが
可能である。
又この構造は他の半導体材料であるGa l −X A
j’xAs系、In1−xGa)(Ash−ySby系
、Ga1−x/VxAs+ −y Sby系等にも適用
でき容易に類推可能である。1
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光増rlj回路を示す図であり、第2図
は本発明の光集積素子構造を示す図である。 図中、 1・・・InP半絶縁基板 2・・・p−InPクラッド層 3 ・・・p−InGaAsP活性層 4 ・・・n−InGaAsPクラッド層5− n−I
nGaAs 動作層 6・・・p側AuZn 電極 7・・・ソース電極(Sl) 8・・・p−InP層 9・・・ゲート電極(Gl) 10・・・ソース電極(S2) 11・・・ゲート電極(G2) 12 ・・・ ドレイン電極(Dl) 13 ・・・ ドレイン電極(D2) 第1回 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体光集積回路において、 (a)同一半絶縁性半導体基板上に1個の発光素子と2
    個の電界効果型トランジスク(FET )を形成し、 (b)第]のFETは所定の電流を発光素子に流すドラ
    イバーとして用い、 (c)第2のFETは、その動作層のバンドギャップエ
    ネルギーを受光の光子エネルギーよりも小さく取ること
    により、受光器かつ増rlj器として用い、(d)前記
    第1、第20FETは互いに並列に接続し、発光素子に
    対し直列に接2続した構造を有するようにしたことを特
    徴とする半導体光集積回路。
JP58109975A 1983-06-17 1983-06-17 半導体光集積回路 Pending JPS601882A (ja)

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JP58109975A JPS601882A (ja) 1983-06-17 1983-06-17 半導体光集積回路

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JPS601882A true JPS601882A (ja) 1985-01-08

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JP58109975A Pending JPS601882A (ja) 1983-06-17 1983-06-17 半導体光集積回路

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5422900A (en) * 1994-04-28 1995-06-06 Eastman Kodak Company Integrated laser module

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5422900A (en) * 1994-04-28 1995-06-06 Eastman Kodak Company Integrated laser module

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