JPS60190467A - アゾ染料及びこれを含有する液晶材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 （式中又はオキサゾール系、オキサジアゾール系、チア
ゾール系、チアジアゾール系、イミダゾール系又はトリ
アゾール系の５員複素環残基、Ｙは次式 の基であり、環Ａ、Ｂ及びＣはさらに置換されていても
よく、そしてベンゾ環とオルト縮合していてもよく、Ｒ
１及びＲ２は水素原子、又は置換されていてもよいアル
キル基、アルアルキル基又はシクロアルキル基、あるい
は窒素原子と一緒になってピペリジノ基、ピロリジノ基
又はモルホリノ基を形成してもよく、Ｒ３は水素原子、
又は置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル
基、アルアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アロキシカルボニル基又はアリルスルホニル基、Ｒ
４は水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基である
）で表わされる５員複素環を含有するアゾ染料に関する
。

環へはさらに、例えば塩素原子、臭素原子、シアン基、
メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基又は水酸
基により置換されていてもよい。

　８− 環Ｂのための置換基の例は、塩素原子、臭素原子、メチ
ル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルア
ミノ基、プロピオニルアミノ基又は縮合ベンゾ環である
。

環Ｃは置換基として、例えば塩素原子、臭素原子、メチ
ル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルア
ミノ基、プロピオニルアミノ基又は縮合ベンゾ環を有し
うる。

Ｒ１及びＲ２は水素原子のほか例えば次の基である。メ
チル、エチル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル
、ドデシル、シクロヘキシル、２−フェニルエチル、２
−シアノエチル、２−オキシエチル、２−アセトキシエ
チル、２−ブチリルオキシエチル、アリル、フェニルメ
チル、４−ブチルフェニルメチル、４−シクロヘキシル
−フェニルメチル、４−（４′−ブチルシクロヘキシル
）−フェニルメチル。

Ｒ３の例は次の基である。場合により酸素原子だ により中断されΔＣ１〜Ｃｌ２−アルキル、０５〜Ｃ７
−シクロアルキル、フェニルメチル、２−フェニルエチ
ル、４　（ａｔ〜Ｃ１□−アルキル）−フェニルメチル
、４−シクロヘキシル−フェニルメチル、４−（４’−
Ｃ，〜Ｃ７−アルギルシクロヘキシル）−フェニルメチ
ル、４−（０１〜Ｃｌ２−アルコキシ）−フェニルメチ
ル、４−フエノキシフェニルメチル、４−フェニルメｌ
−キシ−フェニルメチル、４（Ｃ１〜Ｃｌ２−アルカノ
イルオキシ）−フェニルメチル、ベンゾイルオキシ−フ
ェニルメチル。

Ｒ３の個々の例は先にあげたもののほか次の基でアル。

エチル、プロピル、ブチル、オクチル、２−エチルヘキ
シル、イソノニル、ドデシル、２−ブトキシエチル、シ
クロヘキシル、４−ブチル−フェニルメチル、４−（４
’−エチルシクロヘキシル）−フェニルメチル、４−（
４’−フロビルシクロヘキシル）−フェニルメチル、４
（４１−ブチルシクロヘキシル）−フェニルメチル、４
−（４’−ペンチルシクロヘキシル）−フェニルメチル
、４−（４’−へブチルシクロヘキシル）−フェニルメ
チル、４−ブトキシーフエニルメチル、４−１ソノニル
オギシーフエニルメチル、４−ブチリルオキシ−フェニ
ルメチル、４−カプロニルオキシ−フェニルメチル。

Ｒ４は水素原子のほか、例えばメチル基、エチル基、ブ
チル基又はシクロヘキシル基である。

Ｘの個々の例は次式のものである。

これらの式中、Ｒ５は水素原子、場合により置換された
アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基、場合に
より置換されたアルキル−もしくはシクロアルギル−メ
ルカプト基、Ｒ６は水素原子、場合により置換されたア
ルキル基、シクロアルキル基又はアリール基、Ｒ７は水
素原子、場合により置換されたアルキル基、シクロアル
キル基、フェニル基又はカルボンエステル基、■（８は
水素原子、場合により置換されたアルキル基、シクロア
ルキル基、フェニル基又はカルボンエステル基、あるい
はＲ７及びＲ８は一緒になって置換されていてもよい縮
合ベンゾ環、そしてＲ９は水素原子、場合により置換さ
れたアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基であ
る。

Ｒ５の例は次の基である。０１〜Ｃ１□−アルキル、水
酸基、Ｃｌ−０１２−アルコキシ基、フェニル基又はフ
ェノキシ基により置換された０２〜Ｃ３−アルキル、フ
ェニルメチル、Ｃ７〜Ｃ７−シクロアルキル、場合ＶＣ
ヨリＣ，〜Ｃｌ２−アルキル基、フェニルメチル基、フ
ェニルエチル基、Ｃ１〜Ｃ１２−アルコキシ基、フェノ
キシ基、フェニルメトキシ基、Ｃ，〜Ｃ１２−アルカノ
イルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、フェニル基、ジフ
ェニル基、シクロヘキシル基、４−（Ｃ３〜Ｃ７−アル
ギル）−シクロヘキシル基、カルボンエステル基又は塩
素原子　１１− により置換されたフェニル、０１〜Ｃ１゜−アルキルチ
オ、Ｃ１〜Ｃ７−シクロアルキルチオ、あるいはＣ３〜
Ｃ１□−アルキル基、フェニルメチル基、フェニルエチ
ル基、ｃ、〜ＣＩ□−アルコキシ基、フェノキシ基、フ
ェニルメトキシ基、Ｃ１〜Ｃ１□−アルカノイルオキシ
基、ベンゾイルオキシ基、フェニル基、ジフェニル基、
シクロヘキシル基、４−（０１〜Ｃ７−アルキル）−シ
クロヘキシル基、カルボンエステル基又は塩素原子によ
り置換されたフェニルメチルチオ、場合により置換され
た２−フェニルエチルチオ。

Ｒ５の個々の例は次の基である。メチル、エチル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ろ−ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、ドデシル、２−ヒドロキシエチ
ル、２−メトキシエチル、２−ブトキシエチル、２−フ
ェニルエチル、３−フｌ゛ギシプロビル、シクロペンチ
ル、フェニル、４−メチルフェニル、４−ブチルフェニ
ル、４−オクチルフェニル、４−ノニルフェニル、４−
ブトキシフェニル、４−インノニ−１２＝ ルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−　（４
’−エチルシクロヘキシル）−フェニル、４−（４’−
フロビルシクロヘキシル）−フェニル、４−（４’−ブ
チルシクロヘキシル）−フェニル、４−（４’−ペンチ
ルシクロヘキシル）−フェニル、４−１０ルフエニル、
メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、
２−エチルへキシルチオ、イソノニルチオ、シクロヘキ
シルチオ、４−メチルフェニル−メチルチオ、４−ブチ
ルフェニル−メチルチオ、４−ブトキシフェニル−メチ
ルチオ、４−ヘキソキシフェニル−メチルチオ、４−ド
デシルオキシ−フェニルメチルチオ、４−フェノキシフ
ェニル−メチルチオ、４−フェニルメトキシ−フェニル
メチルチオ、４−アセトキシフェニル−メチルチオ、４
−ブチリルオキシフェニル−メチルチオ、４−カプロニ
ルオキシ−フェニルメチルチオ、４−ベンゾイルオキシ
−フェニルメチルチオ、４−フェニルフェニル−メチル
チオ、４−シクロへキシルフェニル−メチルチオ、４−
（４’−エチルシクロヘキシル）−フェニルメチルチオ
、４−（４’−プロピルシクロヘキシル）−フェニルメ
チルチオ、４−（４’−ブチルシクロヘキシル）−フェ
ニルメチルチオ、４−（４’−ベンチルシクロヘキシル
）−フェニルメチルチオ、２−フェニルエチルチオ。

Ｒ６としては、一般定義の範囲内でＲ５と同じものがあ
げられる。

Ｒ７及びＲ８の例は、０１〜Ｃ４−アルキル基、場合に
よりＣＩ”Ｃ４−アルキル基、塩素原子又は臭素原子に
より置換されたフェニル基、０５〜Ｃ７−シクロアルキ
ル基又はＣ８〜Ｃ８−アルコキシカルボニル基である。

Ｒ７及びＲ８の個々の例は（同一でも異なってモヨい）
、メチル基、エチル基、フェニル基、ｐ−クロルフェニ
ル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基又
はシクロヘキシル基である。

縮合ベンゾ環（結合したＲ７及びＲ８として）は、例え
ばメチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基又は塩素原子により置換されていてもよい。

Ｒ９の例は水素原子のほか、メチル基、エチル基、メチ
ル基、フェニル基、４−工ｆ　／Ｌ’　フェニル基又は
４−ブチルフェニル基である。

Ｘが対称的（１，３，４）オキザジアゾリル基又はチア
ジアゾリル基である式Ｉの化合物が優れている。

これらの基のための好ましい置換基Ｒ５は例えば次の基
である。プロピル、ブチル、ヘキシル、６−ヘプチル、
オクチル、ノニル、ドデシル、４−ブチルフェニル、４
−シクロヘキシルフェニル、４−（４’−Ｃ２〜ｃ７−
アルキルシクロヘキシル）−フェニル、ブチルチオ、ヘ
キシルチオ、オクチルチオ、２−エチル−ヘキシルチオ
、インノニルチオ、ドデシルチオ、フェニルメチルチオ
、４−ブチルフェニル−メチルチオ、４−シクロヘキシ
ルフェニル−メチルチオ、４−（４’　−０２〜Ｃ７−
アルキルシクロヘキシル）−フェニルメチルチオ、４−
（０４〜ｃ１□−アルコキシ）−フェニルメチルチオ又
は４−フェニルメトギシーフェニルメチルチオ。

式■の化合物は、特にゲスト−ポスト型の電気光学的液
晶表示における多色染料と１〜て、また有色偏光フィル
ムの製造に適する。

多色染料を含有する液晶材料は表示に用いられる。本発
明によるこの使用の基礎は公知である（例えばハンドブ
ック・オブ・リキッド・クリスタルズ１９８０年６１１
頁以下、Ｍｏｌ。

Ｃｒｙｓｔ、　Ｌｉｑ、　Ｃｒｙｓｔ、　５５巻１９７
９年５１頁以下、Ｅ］、ｅｋｔｒｏｎｉｋ　１４．１９
８２年６６頁以下参照）。本発明による使用を詳細に記
載する他の文献は、前記の刊行物中に引用されている。

液晶混合物中の染料は、多くの要求を満足せねばならな
い（例えばＪ、　Ｐｈｙｓ、　Ｄ　：　Ａｐｐｌ、　Ｐ
ｈ、ｙｓ。

１１巻１９７８年４７９頁以下、Ｍｏｌ、　Ｃｒｙｓｔ
。

Ｌｉｑ、　Ｃｒｙｓｔ、　６０巻１９８０年９９頁以下
、ＥＰ４３９０４、ＥＰ５５８３８及びＥＰ６５８６９
参照）。

これは電場内でイオン化しないこと、使用液晶マトリッ
クス中でなるべく高いモル消光系数と性 良好な溶−ぞ有すること、化学的及び特に光化学的に安
定であること、ならびにゲスト−ホスト表示の良好な対
照を達成するために、それぞれのネマチック相において
、できるだけ０．７５より大きい等級Ｓを有することが
要求される。

この要求に適合する染料は、主としてアントラキノン系
のものである（　ＥＰ　５６４９２、ＥＰ４４８９６、
Ｅｐ５９０３６及びＥＰ５４２１７参照）。

これまでアゾ染料は、溶解性又は光安定性が不満足であ
ることが欠点とされていた。意外にも本発明の染料は、
それぞれの液晶マトリックス中で、良好な等級において
高い溶解性と良好な光安定性を有する。

偏光フィルムを製造するための二色性染料の使用は、例
えばディスプレイズ４巻１９８６年２０１頁以下に記載
され、そこにはさらに他の文献も紹介されている。

式■の化合物を製造するためには、次式の化合物を還元
して次式 となし、これを例えば氷酢酸中でニトロシル硫酸を用い
てジアゾ化し、次いで次式 プリング成分と反応させて次式 の化合物にする。この化合物をジアゾ化し、そして式Ｈ
ｙ（ｎ３＝Ｈ）の化合物とカップリングさせると、式Ｉ
の化合物が得られ、次いでＲ３がＨであるときは公知の
手段によってＲ３を導入する。

式■の化合物の製造は既知方法により行われる（ヘテロ
サイクリック・コンパウンズ７巻１９６１年５０８頁以
下及び５２５頁以下、同書５５８頁以下及び５８７頁以
下、ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コンパ
ウンダ６４フ１巻１９７９年１６６頁以下及び同書３７
巻１９８１年６０頁以下及び６２頁以下参照）。

式■の化合物の式■の化合物への還元は、例えば氷酢酸
中で過酸化水素／ラネーニッケルを用いて、あるいはジ
オキサン中で硫化ナトリウムを用いて行われる（　Ｊ、
Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ、　Ｃｈｅｍ。

１７巻１９８０年１２７６頁参照）。

染料の精製は、シリカゲル上で展開剤としてドルオール
／酢酸エステル混合物を用いるクロマトグラフィにより
行うことができる。次いで染料を例えばドルオールがら
再結晶する。純度の調整は、薄層クロマトグラフィ及び
元素分析により行われる。

代表的な製造法は後記の実施例１及び２に記載される。

部及び％は特に指示のない限り重量に関する。

次式の化合物は特に重要である。

ａ この式中２は酸素原子又は硫黄原子、Ｂ１は水素原子、
場合により置換されたアルキル基、シフ＝　１９− ロアルキル基、アリール基又は場合により置換されたア
ルキル−もしくはシクロアルキルメルカプト基、Ｂ２及
びＢ３は互いに無関係に水素原子又はメチル基、Ｂ４は
Ｃ４〜Ｃ１□−アルキル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、４−（Ｃ，〜Ｃ１２−アルキル）−ベンジル基、
４−シクロヘキシルベンジル基又は４−（４’−Ｃ，〜
Ｃ７−アルキルシクロヘキシル）−ベンジル基テアル。

次式の化合物も重要である。

ｂ この式中Ｚ、　Ｂ’、Ｂ２、Ｂ’及びＢ４は式１ａの場
合と同じ意味を有する。

さらに次式の化合物は特に優れている。

Ｂ３　Ｂ’　Ｂ’ 　２０一 式中Ｚ、Ｂ’、Ｂ２及びＢ３は式Ｉａの場合と同じ意味
を有し、Ｂ５及びＢ６は互いに無関係に水素原子、Ｃ，
％Ｃ８−アルキル基、２−フェニルエチル基、ベンジル
基、４−（ｃ’＋〜Ｃ１□−アルキル）−ベンジル基、
４−シクロヘキシルベンジル基、４−（４’−Ｃ，〜Ｃ
７−アルキルシクロヘキシル）−ベンジル基又はシクロ
ヘキシル基、あるいは窒素原子と一緒になってピロリジ
ノ基、ピペリジノ基又はモルホリノ基である。

次式の化合物は特に重要である。

ｄ この式中Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ５及びＢ６は式■ｃの場
合と同じ意味を有し、Ｂ７及びＢ８は互いに無関係に水
素原子、臭素原子、塩素原子又はシアン基である。

さらに次式の化合物は特に重要である。

Ｉｅ この式中Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７及びＢ８
は式１ｄの場合と同じ意味を有する。

一般的製造法： 実施例１ ｐ−二トロ安息香酸ヒドラジド１８１部、トＩＪ　ｘ　
ｆ　、１１／アミン１０１部及びＮ−メチルピロリドン
１０００部の混合物に、水冷下にバレリアン酸クロリド
１２１部を添加し、溶液を室温で４時間攪拌したのち、
水５０００部中に添加する。生成した沈殿を吸引ｐ過し
、水洗したのち乾燥すると、融点１８５〜１８７℃のＮ
−（ｐ−ニトロベンゾイル）−Ｎ′−バレリルヒドラジ
ンが２５０部（理論値の９５％）得られる。

この化合物８０部、ｐ−ドルオールスルホン酸５部及び
キジロール８００部の混合物を、水分離器を用いて４時
間沸騰加熱する。次いで溶液を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液２０００部に添加し、有機相を分離し、３回水洗
する。ドルオール溶液を硫酸す）　ＩＪウムを用いて乾
燥したのち濾過し、Ｐ液を真空で蒸発乾固する。融点６
８〜７０℃の２−ブチル−５−（ｐ−ニトロフェニル）
−１，６，４−オキサジアゾ−シカ５２部（理論値の７
０％）得られる。

この化合物２４．７部、ラネーニッケル水懸濁液２．５
部及び氷酢酸２５０部の混合物を、室温で振盪しながら
水素化する。水素吸収の終了後、活性炭２．５部を添加
し、混合物を沢過し、ｐ液を飽和食塩水に添加する。生
成した沈殿を吸引濾過し、水洗したのち乾燥すると、融
点１２５°Ｃ（ドルオールから）の２−ブチル−５−（
ｐ−＝　２６− アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが１
６部（理論値の７４％）得られる。

この化合物１０．９部、氷酢酸７０部及びプロピオン酸
６０部の混合物に、５℃でニトロシル硫酸（６４％）１
８部を添加し、５℃で６時間攪拌する。次いでこのジア
ゾニウム塩溶液を、氷酢酸１００部中の２，５−ジメチ
ルアニリン６゜１部の混合物に氷冷しながら添加する。

この溶液を室温に放置し、生成した次式 の染料を水６００部の添加により沈殿させる。

沈殿を吸引濾過し、水及び濃酢酸ナトリウム水溶液で洗
浄し、さらに水で１回洗浄する。よく乾燥した吸引沢過
物を、氷酢酸１４０部及びプロピオン酸６０部の中に移
し、この溶液に５°Ｃでまず２６％亜硝酸ナトリウム水
溶液１５部を、次いで濃塩酸２０部を添加し、混合物を
５℃で　２４− ６時間攪拌する。得られたジアゾニウム塩溶液を沖過し
、ｐ液を水１００部及び苛性ソーダ液２部の中のｍ−ク
レゾール５．４部の溶液に氷冷しながら添加する。その
際１０％苛性ソーダ液の添加により、溶液のｐＨ価を７
に保つ。混合物を室温で一夜攪拌したのち、生成した染
料を吸引濾過し、水洗したのち乾燥すると、融点２４４
℃の次式 のビスアゾ染料が１７．８部（理論値の７６％）得られ
る。

こうして得られたビスアゾ染料４．７部、４−（４′−
エチルシクロヘキシル）−ベンジルクロリド２．４部、
炭酸カリウム１．４部及びジメチルホルムアミド４０部
の混合物を、１００　’Ｃで２時間攪拌したのち、水２
００部中に加入する。

生成した沈殿を吸引濾過し、水洗したのち乾燥すると、
表題の粗染料が５．９部（理論値の８４％）得うれ、こ
れをドルオールから再結晶して精製する。融点１６０℃
、λｍａｘ（ＣＨ２Ｃ１２）−４０ｎｍ０ 実施例２ Ｎ−メチルピロリドン９００部中のカリウムジチオカル
バモートカリウム９１部の懸濁液に、氷冷しなからｎ−
ブチルプロミド８５．９部を添加し、混合物を室温で２
時間攪拌する。次いでｐ−ニトロベンゾイルクロリド１
１６．７部を水冷下に添加し、さらに室温で２時間攪拌
したのち、混合物を氷水３０００部に添加する。まず油
状で生成するブチル−３−（ｐ−ニトロベンゾイル）−
ジチオカルバゼートを一夜放置して結晶させたのち、吸
引瀘過して水洗する。よく乾燥した吸引濾過物を濃硫酸
１０００部に加入し、混合物を５０℃で１時間攪拌した
のち、氷水５０００部に添加する。沈殿を吸引濾過し、
乾燥し、氷酢酸から再結晶すると、融点１４０℃の純粋
な２−ブチルチオ−５−（ｐ−ニトロフェニル）−Ｌ３
，４−チアジアゾールが１６０部（理論値の７０％）得
られる。

この化合物を実施例１と同様にして、２−ブチルチオ−
５−（ｐ−アミノフェニル）−１，３，４−チアジアゾ
ールにする。収率は理論値の７１％、融点は９１°Ｃ（
ドルオールから）である。

この化合物１６．６部を実施例１と同様に、氷酢酸７０
部及びプロピオン酸６０部中のニトロシル硫酸（６４％
）１８部を用いてジアゾ化し、氷酢酸１００部中で２，
５−ジメチルアニリン６゜１部とカップリングさせると
、次式 ％式％ のモノアゾ染料が得られる。これをよく乾燥した吸引濾
過物として、氷酢酸１４０部及びプロピオン酸５０部中
に懸濁させ、この混合物に５°Ｃでまず２６％亜硝酸す
）　ＩＪウム水溶液１５部を、続いて濃塩酸２０部を添
加し、混合物を５℃で４時間攪拌する。次いでジアゾニ
ウム塩溶液をＥ過し、涙液をＮ−ブチル−Ｎ−メチルア
ニリン８．２部、イソブタノール１５０部、飽和酢酸ナ
トリウム水溶液２００部及び氷１００部からの混合物に
添加する。混合物を一夜攪拌し、生成した染料を吸引沢
過し、水及びメタノールで、次いでさらに水で洗浄した
のち乾燥する。

粗製の表題の染料が１８部（理論値の６６％）得られ、
これをシリカゲル（メルク社製シリカゲル６０．０．０
６３−０．０２００　ｎｍ　）上で溶出剤としてドルオ
ール／酢酸エステル混合物（４０／１）を使用するクロ
マトグラフィにより、次いでドルオールからの再結晶に
より精製する。

融点１５０℃、’ｍａＸ　（ＣＨ２Ｃ１２）　：　５０
５　ｎｍ　。

２８− 第　１　表 第　２　表 　６６− 第１表に、実施例１．２及び４〜１２について、室温で
測定された等経度Ｓ、同じく室温で測定された溶解度り
及び使用したメルク社製の液晶混合物をまとめて示す。

同様に実施例１４〜１９について、ＺＬＩ　１９５７　
／　５又はＺＬＩ　２４５２中で室温で測定された等経
度Ｓ及び溶解度りをまとめて第２表に示ず。

等級Ｓは既知の次式 ％式％ により、市販の測定用セル中で均一な周縁配向（ポリイ
ミド）を用いて測定された。二色性ＣＲは、吸光度ｆ（
偏光のネマチック相の優先方向と平行に測定）及びＥｌ
（偏光のネマチック相の優先方向と垂直に測定）を測定
し、次式％式％： により定めた。この場合染料濃度は、Ｅ“が１と２の間
にあるように選んだ。測定はベックマン社の分光光度計
ＣＩを用いて行われた。

６４− 第１図に、実施例９の化合物に関するＺＬＩ　１８４０
における吸光度Ｅ“及びＥｌを示す。

溶解度は次のようにして測定した。染料各５３　ｍ９を
、室温で液晶１ｍｌに加えて１週間攪拌し、飽和溶液に
ついて残査を遠心除去したのち、吸光平衡により溶解度
を定めた。

各液晶中の染料の光安定性の測定は、測定用セル中で２
５℃での日光試験における溶液の急速照射により行われ
た。染料は、特に紫外線保護ワニスを使用する場合に良
好な光安定性を示した。第２図及び第６図に、実施例１
及び５の化合物の照射に対するＺＬ１１８４０中で測定
されたイノノ変化を％で示す。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例９の化合物の吸光度Ｅ“を示すグラフ、
第２図及び第６図は、それぞれ実施例５及び実施例１の
化合物の日光照射に対する吸光度の変化を示すグラフで
ある。 出願人　バス７・アクチェンゲゼルシャフト代理人　弁
理士　小　林　正　雄

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 （式中Ｘはオキザゾール系、オキサジアゾール系、チア
   ゾール系、チアジアゾール系、イミダゾール系又はトリ
   アゾール系の５員複素環残基、Ｙは次式 の基であり、ｉＡ、Ｂ及びＣはさらに置換されていても
   よく、そしてベンゾ環とオルト縮合していてもよ（、Ｒ
   １及びＲ２は水素原子、又は置換されていてもよいアル
   キル基、アルアルキル基又はシクロアルキル基、あるい
   は窒素原子と一緒になってピペリジノ基、ピロリジノ基
   又はモルホリノ基を形成してもよく、Ｒ３は水素原子、
   又は置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル
   基、アルアルキル基、アシル基、アルン コキシカルボニル基、アロキシカルボニル基又はアリル
   スルホニル基　Ｒ４は水素原子、アルキル基又はシクロ
   アルキル基である）で表わされる５員複素環を含有する
   アゾ染料。 （式中Ｚは酸素原子又は硫黄原子、Ｂ１は水素原子、又
   は置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキル基
   又はアリール基、又は置換されていてもよいアルキル−
   もしくはシクロアルキル−メルカプト基、Ｂ２及びＢ３
   は互いに無関係に水素原子又はメチル基、そｌ〜てＢ４
   はＣ１〜Ｃ３２−アルキル基、シクロヘキシル基、ベン
   ジル基、４−（ｃ、〜Ｃ７２−アルキル）−ベンジル基
   、４−シクロヘキシルベンジル基、４−（４’−Ｃ，〜
   Ｃ７−アルキルシクロヘキシル）−ベンジル基である）
   で表わされる特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ６、　次式 （式中Ｚ、Ｂ’、Ｂ２、Ｂ３及びＢ４は特許請求の範囲
   第２項に記載の意味を有する）で表わされる特許請求の
   範囲第１項に記載の化合物。 ４、　次式 （式中Ｚ、Ｂ’、Ｂ２及びＢ３は特許請求の範囲第２項
   に記載の意味を有し、Ｂ５及びＢ６は互いに無関係に水
   素原子、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基、２−フェニルエチル
   基、ベンジル基、４−（０１〜Ｃ１２−アルキル）−ベ
   ンジル基、４−シクロヘキシルベンジル基、４−（４’
   −Ｃ，〜Ｃ７−アルキルシクロヘキシル）−ベンジル基
   又はシクロヘキシル基であり、あるいは窒素原子と一緒
   になってピロリジノ基、ピペリジノ基又はモルホリノ基
   を形成してもよい）で表わされる特許請求の範囲第１項
   に記載の化合物。 ５、　次式 （式中Ｂｌ　、Ｂ２　、Ｂ３　、Ｂ５及びＢ６は特許請
   求の範囲第４項に記載の意味を有し、Ｂ７及びＢ８は互
   いに無関係に水素原子、臭素原子、塩素原子又はシアン
   基である）で表わされる特許請求の範囲第１項に記載の
   化合物。 ６、　次式 （式中Ｂ”　、　Ｂ２、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７及びＢ
   ８は特許請求の範囲第５項に記載の意味を有する）で表
   わされる特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 Ｚ　一般式 （式中Ｘはオキザゾール系、オキサジアゾール系、チア
   ゾール系、チアジアゾール系、イミダゾール系又はトリ
   アゾール系の５員複素環残基、Ｙは次式 の基であり１、環Ａ、Ｂ及びＣはさらに置換されていて
   もよく、そしてベンゾ環とオルト縮合していてもよく、
   Ｒ１及びＲ２は水素原子、又は置換されていてもよいア
   ルキル基、アルアルキル基又はシクロアルキル基、ある
   いは窒素原子と一緒になってピペリジノ基、ピロリジノ
   基又はモルホリノ基を形成してもよ＜、Ｒ３は水素原子
   、又は置換されていてもよいアルキル基、シクロアルキ
   ル基、アルアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニ
   ル基、アロキシカルボニル基又はアリルスルホニル基、
   Ｒ４は水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であ
   る）で表わされる５員複素環を含有するアゾ染料を、液
   晶媒質中の染料として又は合成重合体の染色に使用する
   方法。