JPS601980A - 固体撮像素子 - Google Patents

固体撮像素子

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Publication number
JPS601980A
JPS601980A JP58109161A JP10916183A JPS601980A JP S601980 A JPS601980 A JP S601980A JP 58109161 A JP58109161 A JP 58109161A JP 10916183 A JP10916183 A JP 10916183A JP S601980 A JPS601980 A JP S601980A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
solid
substrate
photodiode
state image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58109161A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiki Suzuki
鈴木 敏樹
Mitsuru Tada
満 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58109161A priority Critical patent/JPS601980A/ja
Publication of JPS601980A publication Critical patent/JPS601980A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/18Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は固体撮像素子、特に短波長領域の感度を向上さ
せた固体撮像素子に関するものである。
〔発明の背景〕
第1図は従来の固体撮像素子の一例を示す要部断面描成
図であり、特に光電変換部となるpn接合、垂直信号線
に信号を読み出すMOS)ランジスタおよび垂直信号V
から構成される1画素の断面構造を示したものである。
同図において、例えばp形S1基板1の表面にはn十拡
散層2が形成されてフォトダイオード3が構成され、さ
らにh+拡散層(ソース)2.n+拡散層(ドレイン)
4およびゲート酸化膜5を介してゲート電極6が形成さ
れてMOS)ランジスタフが構成されている。
そして、前記フォトダイオード3およびMOS)ランジ
スタフか7らなる各光電変換素子群は素子分離用酸化膜
8および層間絶縁膜9によって分離されており、n+拡
散層4はA7層からなる垂直信号線10に接続されてい
る。とこでMOS )ランジスタフはフォトダイオード
3に蓄積された外部光による信号電荷を垂直信号線10
を介して外部に読み出すスイッチとして用いられてい゛
る。
しかしながら、前記構成による固体撮像素子は、フォト
ダイオード3を形成するp ”−n十接合領域において
、81基板1とこのSi基板1の表面に形成される極め
て薄い81(h膜(図示せず)との間に該5102膜形
成時の熱膨張皐の差によってストレスが発生し、このス
トレスの蓄積によムSt基板10表面に結晶欠陥が生じ
るという問題があった。
このような結晶欠陥の発生は、フォトダイオード3に外
部から光が入射した場合、81基板10表面で光吸収さ
れ易い短波長側の青色光がn十拡散層2内で電子・正孔
対を形成しても、n十拡散層2と81基板1の表面に形
成される薄いs i、o 、膜との界面にトラップされ
、十分な信号電荷とはなシ得ず、青色光に対応する信号
感度が低下するという問題があった。
〔発明の目的〕
したがって本発明の目的は、青色光に対する信号感度を
向上させた固体撮像素子を提供することにある。
〔発明の概要〕
このような目的整達成するために本発明は、フォトダイ
オードのn十層上にp” 層を設けたものである。
〔発明の実施例〕
次に図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第2図は本発明による固体撮像素子の一例を示す前記第
1図に和尚する断面構成図でおシ、第1図と同記号は同
一要素となるのでその説明は省略する。同図において、
フォトダイオード3およびのn十拡散層2上には高濃度
で膜厚の薄いp+十層11が形成され、さらにこのp+
十層11の一部には分離用酸化膜8上にまたがってこの
p+十層11に所要の電圧を印加するポリシリコン電極
12が形成されている。
このような描成によれば、SS基板1とポリシリコン電
極12との間にn十拡散層2が平電田となるようにp+
+ 層11にブレークダウン艇発生しない範囲で数Vな
いし数十Vの電圧を印加しておくことによって、n十拡
散層2とp++f’f11との間に電界が生じ、この場
合、p+十層11は極めて薄いため、p+十層11はす
べて空乏化する。したがって、SS基板1とその表面の
5iO1膜との界面で発生した電子・正孔対のうち、電
子はこの電界に引かれてp−n+接合部へ達し、信号電
荷として蓄えられる。この結果、光吸収がほとんどSS
基板1の表面でなされる青色光に対する感度が大幅に向
上し、S/N比の高い信号電荷が得られる。また、この
p++層11に印加する電圧を可変することによシ、官
色光のみに対応する感度を可変することができるととも
に、目の感度に合わせることも可能となる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、青色光に対する信
号感度を大幅に向上させることができるので、カラー信
号をとシ出すときの光の三原色の一つである背合が高い
Sハ比で得られ、したがって色再現性の極めて良好な固
体カメラが得られるという極めて優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の固体撮像素子の一例を示す要部断面構成
図、第2図は本発明による固体撮像素子の一例を示す要
部断面(7,?成因である。 1・・・・St基板、2・・・・n十拡散層(ソース)
、3・・・・フォトダイオード、4・・・・n+拡散層
(ドレイン)、5・・・・ゲーート酸化膜、6・・・・
ゲート電極、7・・・・MOS)ランジスタ、8・・・
・分離用酸化)摸、9・・・・ffi開絶開腹縁膜0・
・・・垂直信号線、11・・・・、p+十層、12・・
・・ポリシリコン電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. St基板上にp−n+ダイオードからなる光電変換部を
    備えた固体撮像素子において、前記n十層上にp+十層
    を設けたことを特徴とする固体撮像素子。
JP58109161A 1983-06-20 1983-06-20 固体撮像素子 Pending JPS601980A (ja)

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JP58109161A JPS601980A (ja) 1983-06-20 1983-06-20 固体撮像素子

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JPS601980A true JPS601980A (ja) 1985-01-08

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ID=14503186

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JP58109161A Pending JPS601980A (ja) 1983-06-20 1983-06-20 固体撮像素子

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JP (1) JPS601980A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04315470A (ja) * 1991-04-15 1992-11-06 Nec Corp 固体撮像装置の製造方法
JP2007110162A (ja) * 1995-04-13 2007-04-26 Eastman Kodak Co ピン止め光ダイオードと集積されたアクティブ画素センサー
US7342269B1 (en) 1999-08-05 2008-03-11 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion device, and process for its fabrication

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04315470A (ja) * 1991-04-15 1992-11-06 Nec Corp 固体撮像装置の製造方法
JP2007110162A (ja) * 1995-04-13 2007-04-26 Eastman Kodak Co ピン止め光ダイオードと集積されたアクティブ画素センサー
US7342269B1 (en) 1999-08-05 2008-03-11 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion device, and process for its fabrication
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