JPS60200530A - 半導体ウエ−ハのエツチング停止方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体ウェーハ（以下ウェーハという）、特
にシリコンウェーハのエツチング終了時のエツチング反
応を急速に停止する方法に関する。

従来、ウェーハのエツチングを終了し、工、ンチング反
応を停止する場合は、第１図に示すごとく・１′ツチン
グ槽１中に、例え＋ｆ、ＨＮＯ３−ＨＦ系のエツチング
液約２Ｌを入れ、ウェーハを約２０枚装慎したホルダー
２を該エツチング槽１中に入れ、ホルダー２を手動で上
下に揺動して、エツチング反応を進め、所定の時間が経
過し、所定のウェーハ表面の取代が得られた後、エツチ
ング反応の停止を行なうため、５〜６ｔの純水の入った
水槽を両手で抱えて、エツチング槽１の上から急激に注
水し、反応の停止を行なっていた。

然しなから、このような工、ツテング停止方法ではエツ
チング槽１の土から手動で一度に急激に水を注入するた
めに、注入できる水のｆＫ限度があり、安定した反応停
止を行なうためには、一度にエツチングできるウェーハ
は最大２０枚で直径は３“以下に限られる。多（のウェ
ーハをエツチングするときは、何回もエツチングをする
必要かあるため、エツチング液作成作粟、反応停止作業
を反覆する必要があり、作業能率が低下し、又疲労が甚
しくなる。

本発明の目的は、前記のごとき従来技術の欠点を解決し
、大径のウェーハを一度に人世にエツチング処理し、急
速確実にエツチング反応停止を行うことにある。

本発明は、エツチングを終了したエツチング槽を、水槽
中に急速に沈下させること洸より、エツチング反応を急
速に停止させることを要旨とするものである。

以下、本発明を図面で示す一実施例に従って、詳細に説
明する。

第２図、第３図および第４図は、本発明によるエツチン
グ反応急速停止の一実施例を示す図である。第２図はエ
ツチング槽１１を水槽７ににセリトシた状態を示す斜視
図であり、第３図は第２図Ａ−Ａ断面にウェーッ・ホル
ダ６、腕９、自動揺動装置８をセットした図であり、エ
ンチング反応中を示している。

第４図は同じく反応停止状態を示している。

エツチング槽ｌｌ中に、例えばＮＨＯ３＋　ＨＦ系のエ
ツチング液４を１５を入れ、ウェーハ５を充填した通常
のウェーハホルダー６を浸漬して、純水を入れた水槽７
に浮べる。該エツチング槽１１は半円筒形であり、エツ
チング液は約１５を入り、ウェーハ直径は５又は６　が
可能であり、一度にエツチングできるウェーッ・枚数は
約１００枚である。次に、ウェーハを装填したウェーハ
ホルダー６は自動揺動装置８（機構は図示せず）に接続
し、上下に自動揺動を行ない、エツチング反応を進める
。所定のウェーハ表面の取代が得られた後、自動揺動装
置８に取付けられている腕９を伸ばす。腕９を伸ばす方
法として、例えば腕９を細棒とパイプの組合せとし、途
中にフックを設けておいて、エツチング時間に合わせた
タイマーにより、エツチング終了時に、自動的にフック
を外し、細棒をバイア中より延出させることにより、腕
９を伸ばすことができる。この結果、ウェーハホルダ６
がエツチング槽１１の底部を押し、ストッパー１０が外
ね、エツチング槽１１およびウェーハを装填したウェー
ハホルダ６が水槽７中に沈下する。

第４図はこのようにして沈下した状態を示している。

かくして、エツチング反応を急速に停止させることがで
きる。

本実施例では腕９を伸ばすことによりストッパー１０を
外したか、ストッパー１０を手動又は所定エツチング時
間終了に合わせたタイマーにより自動的に外すことによ
り、エツチング反応を急速に停止することもできる。

又、腕９をウェーハホルダー６と自動揺動機８に固定と
し、エツチング終了後、ストッパーを手動もしくはタイ
マーにより自動的に外し、エツチング［１１のみを水槽
７中に沈下させ、ウェーハホルダー６およびウェー）Ｓ
　５の位置をそのま〜として、エツチング反応を急速に
停止させることも可能である。

岡、ストッパー１０のエツチング槽１１とは反対側にバ
ランスを持たせるためのｌす１３を設置しである。

以上の各方法により種々実験の結果、前述のごと（直径
５又は６０ウェーッ・を一度に約１００枚エツチングす
ること、およびエツチングの急速な停止をすることか可
能となり、従来より大径で大量のウェーハのエツチング
作業ができるようになり、又、良好なウェーッ・表面か
安定して得られるようになった。

閘、大量のエツチング作業を行なう場合、作業効率が格
段に向上し、安全で、作業の疲労も軽減することができ
るようになった。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来実施されているエツチング反応停止装置の
概念図。第２図は本発明による一実施例の部分斜視図。 第３図第４図は本発明による一実施例の部分断面図。 ４・・・・・・・・・エツチング液、５・・・・・・・
・・ウェーハ、６・・・・・・ウェーハホルダー、７・
・・・・・水槽８・・・・・・自動揺動機、９・・・・
・・腕、１０・・・・・・ストツバ−１１１・・・・・
・エツチング種、１２・・・・・・回転支持棒 特許出願人　小松電子金九株式会社 第７　図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、半導体ウェーハのエツチング反応を終了し、該エツ
   チング反応を停止させる方法において、エツチング槽を
   水槽中に急速に沈下することにより、該エツチング反応
   を急速に停止させることを特徴とするエツチング反応停
   止方法。 ２、腕９を伸はすことにより、ストッパー１０を外し、
   エツチング４１１１およびウェーハホルダー６を水槽７
   中に急速に沈下させることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項のエツチング反応停止方法。 ３、腕９をタイマーにより、自動的に伸ばすことにより
   、ストッパー１０を外し、エツチング槽１１およびウェ
   ーハホルダー６を水４１＃７中に急速に沈下させること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項のエツチング停止装
   置。