JPS60200847A - α型半水セツコウの製造方法 - Google Patents
α型半水セツコウの製造方法Info
- Publication number
- JPS60200847A JPS60200847A JP5879084A JP5879084A JPS60200847A JP S60200847 A JPS60200847 A JP S60200847A JP 5879084 A JP5879084 A JP 5879084A JP 5879084 A JP5879084 A JP 5879084A JP S60200847 A JPS60200847 A JP S60200847A
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- JP
- Japan
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- ceracola
- type
- temperature
- gypsum
- type hemihydrate
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- Pending
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- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は改良されたα型半水セツコウの製造方法、さら
に詳しくいえば、開放型容器中において三水セラコラを
水蒸気と接触させて、経済的有利にα型手水セッコウに
変換する方法に関するものである。
に詳しくいえば、開放型容器中において三水セラコラを
水蒸気と接触させて、経済的有利にα型手水セッコウに
変換する方法に関するものである。
半水セラコラには、結晶構造は極めて類似しているが、
水の結合状態や結晶の外形が異なシ、かつその水利特性
が著しく異なるα形とβ型が存在する。第１表に、α型
半水セッコウとβ型半水セツコウにおけろ水和特性の相
違についてその１例を示す。
水の結合状態や結晶の外形が異なシ、かつその水利特性
が著しく異なるα形とβ型が存在する。第１表に、α型
半水セッコウとβ型半水セツコウにおけろ水和特性の相
違についてその１例を示す。
第１表
この表から分るように、α型半水セツコウはβ型半水セ
ッコウに比べて少ない混水量で使用され、かつ凝結時間
も短かく、しかも得られた凝結体は極めて強度が大きい
という特徴を有している。したがって、α型半水セツコ
ウは、β型半水セツコウがセラコラボード、塗装用プラ
スター、陶磁器型材などに用いられているのに対し、主
として歯科用精密賦形型用や鋳造用鋳型接合材などに使
用されている。
ッコウに比べて少ない混水量で使用され、かつ凝結時間
も短かく、しかも得られた凝結体は極めて強度が大きい
という特徴を有している。したがって、α型半水セツコ
ウは、β型半水セツコウがセラコラボード、塗装用プラ
スター、陶磁器型材などに用いられているのに対し、主
として歯科用精密賦形型用や鋳造用鋳型接合材などに使
用されている。
このα型半水セツコウは、従来、オートクレーブ中にお
いて、通常径２〜３αの塊状二水セツコウを温度１２０
〜１４０℃、水蒸気圧２〜４気圧の条件で５〜８時間処
理する加圧水蒸気法、オートクレーブ中において、粉末
状三水セラコラを水溶液中で温度１２０〜１４０℃、圧
２〜４気圧の条件下１〜４時間処理する加圧水溶液法、
粉末状三水セラコラを常圧下、硫酸塩、塩酸塩、アンモ
ニウム塩などの無機塩水溶液中において、該水溶液の沸
点に近い温度で処理する常圧水溶液法などの方法によっ
て製造されている。
いて、通常径２〜３αの塊状二水セツコウを温度１２０
〜１４０℃、水蒸気圧２〜４気圧の条件で５〜８時間処
理する加圧水蒸気法、オートクレーブ中において、粉末
状三水セラコラを水溶液中で温度１２０〜１４０℃、圧
２〜４気圧の条件下１〜４時間処理する加圧水溶液法、
粉末状三水セラコラを常圧下、硫酸塩、塩酸塩、アンモ
ニウム塩などの無機塩水溶液中において、該水溶液の沸
点に近い温度で処理する常圧水溶液法などの方法によっ
て製造されている。
しかしながら、前記の加圧水蒸気法や加圧水溶液法にお
いては、耐圧容器を必要とするため工業的方法として不
利であシ、また常圧水溶液法においては、耐圧容器を必
要としないものの、無機塩を用いるためコスト的に不利
であり、しかも廃水問題が生じるという欠点があって、
これらの方法は必ずしも満足しうるものではなかった。
いては、耐圧容器を必要とするため工業的方法として不
利であシ、また常圧水溶液法においては、耐圧容器を必
要としないものの、無機塩を用いるためコスト的に不利
であり、しかも廃水問題が生じるという欠点があって、
これらの方法は必ずしも満足しうるものではなかった。
ところで、加圧水蒸気法及び加圧水溶液法におけるα型
手水セッコウの生成機構についてｔｊ、従来、三水セラ
コラがまず液体水又は飽和水蒸気の存在下で溶解して過
飽和状態を呈し、次に高温で安定なα型手水セッコウが
析出するという、いわゆる溶解析出機構が定説となって
いる。また無機塩水溶液中で処理する常圧水溶液法にお
いても、加圧水蒸気法や加圧水溶液法と同様に、三水セ
ラコラがまず溶解し、次にα型半水セッコウが析出する
という溶解析出機構に基づいたものであるが、α型半水
セッコウの析出温度、すなわち転移温度が無機塩の存在
で１００°Ｃ以下に低下するため、常圧においてもα型
半水セッコウがその転移温度以上であれば、無機塩水溶
液中で安定に存在しうるとされている。
手水セッコウの生成機構についてｔｊ、従来、三水セラ
コラがまず液体水又は飽和水蒸気の存在下で溶解して過
飽和状態を呈し、次に高温で安定なα型手水セッコウが
析出するという、いわゆる溶解析出機構が定説となって
いる。また無機塩水溶液中で処理する常圧水溶液法にお
いても、加圧水蒸気法や加圧水溶液法と同様に、三水セ
ラコラがまず溶解し、次にα型半水セッコウが析出する
という溶解析出機構に基づいたものであるが、α型半水
セッコウの析出温度、すなわち転移温度が無機塩の存在
で１００°Ｃ以下に低下するため、常圧においてもα型
半水セッコウがその転移温度以上であれば、無機塩水溶
液中で安定に存在しうるとされている。
このように、α型半水セッコウの生成は、従来の６方法
とも溶解析出機構に基づくとされており、したがって、
α型半水セッコウの生成には、液体水又は飽和水蒸気の
存在が必要であると考えられていた。
とも溶解析出機構に基づくとされており、したがって、
α型半水セッコウの生成には、液体水又は飽和水蒸気の
存在が必要であると考えられていた。
本発明者らは、α型半水セッコウを経済的に有利に製造
する方法について鋭意研究を重ねた結果、驚くべきこと
に、開放型容器中において水蒸気の存在下で三水セラコ
ラを処理することによりα型半水セツコウが容易に得ら
れることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
する方法について鋭意研究を重ねた結果、驚くべきこと
に、開放型容器中において水蒸気の存在下で三水セラコ
ラを処理することによりα型半水セツコウが容易に得ら
れることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
すなわち、本発明は、開放型容器中において、三水セラ
コラを、分圧６００〜７６０１１１１Ｈ９の水蒸気の存
在下、温度１１０〜１５０℃で処理することを特徴とす
るα型半水セッコウの製造方法を提供するものである。
コラを、分圧６００〜７６０１１１１Ｈ９の水蒸気の存
在下、温度１１０〜１５０℃で処理することを特徴とす
るα型半水セッコウの製造方法を提供するものである。
本発明方法において、原料として用いる三水セラコラは
化学式〇 ａ Ｓ Ｑ４°２Ｈ２０で示され、このもの
には天然セラコラと、合成又は副生によって得られる化
学セラコラとがある。天然セラコラには無色透明板状結
晶の透セッコウ、純白微細な結晶の雪化セラコラ、絹糸
光沢の繊維セラコラ、その細葉片状、粒状、生状のもの
がある。一方、化学セラコラには、例えばリン酸セッコ
ウ、チタンセラコラ、フン酸セッコウ、あるいは重油の
脱硫や排煙脱硫などによって得られるセラコラなどの副
生セラコラ、及び合成セラコラがある。
化学式〇 ａ Ｓ Ｑ４°２Ｈ２０で示され、このもの
には天然セラコラと、合成又は副生によって得られる化
学セラコラとがある。天然セラコラには無色透明板状結
晶の透セッコウ、純白微細な結晶の雪化セラコラ、絹糸
光沢の繊維セラコラ、その細葉片状、粒状、生状のもの
がある。一方、化学セラコラには、例えばリン酸セッコ
ウ、チタンセラコラ、フン酸セッコウ、あるいは重油の
脱硫や排煙脱硫などによって得られるセラコラなどの副
生セラコラ、及び合成セラコラがある。
本発明方法においては、これらの三水セラコラいずれも
用いることができ、また使用に当っては塊状でも粉末状
でもよいし、乾燥状態であっても、湿潤状態であっても
よい。
用いることができ、また使用に当っては塊状でも粉末状
でもよいし、乾燥状態であっても、湿潤状態であっても
よい。
本発明の特徴は、前記の三水セラコラを塊状又７１（
は粉末状にして開放型容器に入れ、該二次セラコラを分
圧３００〜７６０ｍｒｔｔＨｊｊの水蒸気を用いて１１
０〜１５０°Ｃの温度範囲で処理する点にある。処理温
度が１１０℃未満ではα型半水セッコウが生成しにくく
、処理に長時間を要して実用的でなく、一方１５０°Ｃ
を超えると得られた手水セラコラ中にβ型が多く含まれ
好ましくない。水蒸気の分圧が１００１１Ｍ Ｈｇ未満
では、α型半水セッコウは生成しにくく、β型半水セン
コウが多く生成する。なお、開放型容器中で処理を行う
ため、水蒸気の分圧は７６０ｍＭＨｇを超えることはな
い。処理時間は水蒸気の分圧及び処理温度に左右される
が、一般に１〜２４０時間程度である。
圧３００〜７６０ｍｒｔｔＨｊｊの水蒸気を用いて１１
０〜１５０°Ｃの温度範囲で処理する点にある。処理温
度が１１０℃未満ではα型半水セッコウが生成しにくく
、処理に長時間を要して実用的でなく、一方１５０°Ｃ
を超えると得られた手水セラコラ中にβ型が多く含まれ
好ましくない。水蒸気の分圧が１００１１Ｍ Ｈｇ未満
では、α型半水セッコウは生成しにくく、β型半水セン
コウが多く生成する。なお、開放型容器中で処理を行う
ため、水蒸気の分圧は７６０ｍＭＨｇを超えることはな
い。処理時間は水蒸気の分圧及び処理温度に左右される
が、一般に１〜２４０時間程度である。
また、処理方法については、例えば水蒸気発生装置と連
通している処理容器に塊状又は粉末状の三水セラコラを
入れ、・水蒸気の分圧が所望の値になるように水蒸気発
生装置の加熱温度を調節し、かつ所望の処理温度になる
ように該処理容器を加熱することによって処理する方法
、あるいは塔式の処理容器に塊状又は粉末状の工水セラ
コラを充填し、−力水蒸気の分圧が所望の値になるよう
に水蒸気発生装置で水蒸気を発生させ、該水蒸気を空気
や窒素ガスなどを用いて担送し、このものを処理の温度
に加熱して該処理容器に導入することによ多処理する方
法などを用いることができる。
通している処理容器に塊状又は粉末状の三水セラコラを
入れ、・水蒸気の分圧が所望の値になるように水蒸気発
生装置の加熱温度を調節し、かつ所望の処理温度になる
ように該処理容器を加熱することによって処理する方法
、あるいは塔式の処理容器に塊状又は粉末状の工水セラ
コラを充填し、−力水蒸気の分圧が所望の値になるよう
に水蒸気発生装置で水蒸気を発生させ、該水蒸気を空気
や窒素ガスなどを用いて担送し、このものを処理の温度
に加熱して該処理容器に導入することによ多処理する方
法などを用いることができる。
このようにして得られたα型半水セツコウは六方晶系で
あり、その水和して得られた凝結体は極めて強度及び硬
度が太きいために、歯科用精密賦形型用や鋳造用鋳接合
材などに用いられる。
あり、その水和して得られた凝結体は極めて強度及び硬
度が太きいために、歯科用精密賦形型用や鋳造用鋳接合
材などに用いられる。
本発明方法によると、従来のα型半水セツコウの製法の
ように耐圧容器や無機塩水溶液を用いる必要がなく、し
たがって経済的に有利であシ、かつ廃水問題などが生ぜ
ず、本発明方法は実用的価値の高いものである。
ように耐圧容器や無機塩水溶液を用いる必要がなく、し
たがって経済的に有利であシ、かつ廃水問題などが生ぜ
ず、本発明方法は実用的価値の高いものである。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
なお、得られた半水セラコラ中のα型のものの含有量は
次の方法に従ってめた。
次の方法に従ってめた。
すなわち、α型半水セツコウ（六方晶系）は１９０°Ｃ
近辺に、またβ型手水セツコウ（六方晶系）は６５０℃
近辺に斜方晶系への転移点が存在するため、得られた半
水セラコラを２００°Ｃの温度で２４時間加熱してＸ線
回折によシ斜方晶系への転移率を測定し、この値よりα
型半水セツコウの含有量をめた。
近辺に、またβ型手水セツコウ（六方晶系）は６５０℃
近辺に斜方晶系への転移点が存在するため、得られた半
水セラコラを２００°Ｃの温度で２４時間加熱してＸ線
回折によシ斜方晶系への転移率を測定し、この値よりα
型半水セツコウの含有量をめた。
実施例１
装置として、１ｏｏｃｃ枝付フラスコの上部に玉入冷却
管（長さ５ｏｃｍ）を取シ付け、一方該フラスコの枝の
先にアダプター及びナス型フラスコを取υ付け、開口部
を該フラスコ上部の冷却管のみとしたものを用いた。
管（長さ５ｏｃｍ）を取シ付け、一方該フラスコの枝の
先にアダプター及びナス型フラスコを取υ付け、開口部
を該フラスコ上部の冷却管のみとしたものを用いた。
枝付ンラスコに約５０ ｃｃの水と沸騰石を入れ、枝の
先のナス型フラスコには約２ｃｃの水が入った５ｃｃ容
器と約１ｏｇの三水セラコラ粉末を入れた。この装置の
玉入冷却管の冷却部のみを外部に出し、その他の部分は
すべて乾燥器（４０×４０Ｘ４０ＣＩｎ、１００Ｖ、１
０１’、）中に入れ、ナス型フラスコ内が所定の温度に
なるように、乾燥器の温度を調節した。なお、ナス型フ
ラスコ内の温度は、予め封入している熱電対によシ測定
した。
先のナス型フラスコには約２ｃｃの水が入った５ｃｃ容
器と約１ｏｇの三水セラコラ粉末を入れた。この装置の
玉入冷却管の冷却部のみを外部に出し、その他の部分は
すべて乾燥器（４０×４０Ｘ４０ＣＩｎ、１００Ｖ、１
０１’、）中に入れ、ナス型フラスコ内が所定の温度に
なるように、乾燥器の温度を調節した。なお、ナス型フ
ラスコ内の温度は、予め封入している熱電対によシ測定
した。
また、乾燥器内の温度はナス型フラスコ内の温度よシ約
１０〜１５°Ｃ高いため、枝付フラスコ内の水は常に沸
騰状態にあシ、したがって系内の水蒸気圧は加熱温度の
変化にかかわらず、常に７６０ｍｍ１−Ｊを保持してい
る。
１０〜１５°Ｃ高いため、枝付フラスコ内の水は常に沸
騰状態にあシ、したがって系内の水蒸気圧は加熱温度の
変化にかかわらず、常に７６０ｍｍ１−Ｊを保持してい
る。
このようにして得られた半水セラコラ中のα型及びβ型
半水セッコウの含有割合をめ、その結果を第２表に示す
。
半水セッコウの含有割合をめ、その結果を第２表に示す
。
実施例２
実施例１で用いた装置と同じものを用い、該装置の板付
フラスコ部とナス型フラスコ部全別々の乾燥器に入れて
実験？行った。
フラスコ部とナス型フラスコ部全別々の乾燥器に入れて
実験？行った。
ナス型フラスコ部の乾燥器は、該ナス型フラスコ内の温
度が１１０〜１３０ ℃の湿度になるように調節し、−
万板付フラスコ部の乾燥器は、水蒸気分圧が５００ｍｍ
ＨＩＦになるように調節した。
度が１１０〜１３０ ℃の湿度になるように調節し、−
万板付フラスコ部の乾燥器は、水蒸気分圧が５００ｍｍ
ＨＩＦになるように調節した。
このようにして得られた半水セラコラ中のα型及びβ型
半水セツコウの含有割合全求め、その結果を第３表に示
す。
半水セツコウの含有割合全求め、その結果を第３表に示
す。
第 ３ 表
注２）温度はナス型フラスコ内の温度である。
Claims (1)
- １ 開放型容器中において、三水セラコラを分圧３００
〜７６０ ｆｌｍＨｌｌの水蒸気の存在下、温度１１０
〜１５０℃で処理することを特徴とするα型半水セツコ
ウの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5879084A JPS60200847A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | α型半水セツコウの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5879084A JPS60200847A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | α型半水セツコウの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200847A true JPS60200847A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13094364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5879084A Pending JPS60200847A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | α型半水セツコウの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200847A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105084791A (zh) * | 2015-08-17 | 2015-11-25 | 太原理工大学 | 一种用于生产3d打印的半水石膏纳米材料的装置和方法 |
| CN105481275A (zh) * | 2015-12-23 | 2016-04-13 | 盐城市富仕环保科技有限公司 | 一种利用工业脱硫副产石膏生产建筑石膏的系统及方法 |
| CN111003723A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-14 | 武汉工程大学 | 一种利用化学石膏制备α-半水石膏的方法及由其制备得到的α-半水石膏 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5043096A (ja) * | 1973-08-20 | 1975-04-18 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5879084A patent/JPS60200847A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5043096A (ja) * | 1973-08-20 | 1975-04-18 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105084791A (zh) * | 2015-08-17 | 2015-11-25 | 太原理工大学 | 一种用于生产3d打印的半水石膏纳米材料的装置和方法 |
| CN105481275A (zh) * | 2015-12-23 | 2016-04-13 | 盐城市富仕环保科技有限公司 | 一种利用工业脱硫副产石膏生产建筑石膏的系统及方法 |
| CN111003723A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-14 | 武汉工程大学 | 一种利用化学石膏制备α-半水石膏的方法及由其制备得到的α-半水石膏 |
| CN111003723B (zh) * | 2019-12-18 | 2021-06-15 | 武汉工程大学 | 一种利用化学石膏制备α-半水石膏的方法及由其制备得到的α-半水石膏 |
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