JPS60201591A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPS60201591A JPS60201591A JP59056027A JP5602784A JPS60201591A JP S60201591 A JPS60201591 A JP S60201591A JP 59056027 A JP59056027 A JP 59056027A JP 5602784 A JP5602784 A JP 5602784A JP S60201591 A JPS60201591 A JP S60201591A
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- signal
- output
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/01—Modifications for accelerating switching
- H03K19/017—Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits
- H03K19/01728—Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits in synchronous circuits, i.e. by using clock signals
- H03K19/01735—Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits in synchronous circuits, i.e. by using clock signals by bootstrapping, i.e. by positive feed-back
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、CMO3(相補型MO3)回路によって構成された
ブートストラップ回路を内蔵する半導体集積回路装置に
利用して有効な技術に関するものである。
ば、CMO3(相補型MO3)回路によって構成された
ブートストラップ回路を内蔵する半導体集積回路装置に
利用して有効な技術に関するものである。
本願出願人においては、例えば、ダイナミック型RAM
(ランダム・アクセス・メモリ)に使用される第1図
に示すようなタイミング発生回路を先に開発した。この
タイミング発生回路においては、入力タイミング信号φ
1nとその反転遅延信号を利用して、プートストラップ
電圧を形成することにより、電源電圧側の出力MO3F
ETQ55を駆動して電源電圧レベルの出力信号を得る
ものである。このタイミング発生回路にあっては、上記
入力タイミング信号φinがハイレベルになってからそ
の反転遅延信号がロウレベルになるまでの遅延時間に、
駆動段及び出力段におけるプッシュプル形態のMO3F
ETQ53.Q54及び出力MO3FETQ55.Q5
6が共にオン状態のときに、所定の出力ロウレベルを形
成するものであるため、比較的大きな貫通電流を流すこ
とになり、その消費電流が大きくなるという欠点がある
。また、出力端子にブートストラレプ容量CB2を設け
て、出力信号を電源電圧Vcc以上の高レベルとする場
合、高レベルの出力信号による出力MO3FETQ56
の耐圧を確保するため、そのゲートに電源電圧Vccが
定常的に供給されたMO3FF。
(ランダム・アクセス・メモリ)に使用される第1図
に示すようなタイミング発生回路を先に開発した。この
タイミング発生回路においては、入力タイミング信号φ
1nとその反転遅延信号を利用して、プートストラップ
電圧を形成することにより、電源電圧側の出力MO3F
ETQ55を駆動して電源電圧レベルの出力信号を得る
ものである。このタイミング発生回路にあっては、上記
入力タイミング信号φinがハイレベルになってからそ
の反転遅延信号がロウレベルになるまでの遅延時間に、
駆動段及び出力段におけるプッシュプル形態のMO3F
ETQ53.Q54及び出力MO3FETQ55.Q5
6が共にオン状態のときに、所定の出力ロウレベルを形
成するものであるため、比較的大きな貫通電流を流すこ
とになり、その消費電流が大きくなるという欠点がある
。また、出力端子にブートストラレプ容量CB2を設け
て、出力信号を電源電圧Vcc以上の高レベルとする場
合、高レベルの出力信号による出力MO3FETQ56
の耐圧を確保するため、そのゲートに電源電圧Vccが
定常的に供給されたMO3FF。
TQ57を設けるものである。したがって、回路の接地
電位側の出力MO3FETがMO3FETQ56.Q5
7のように直列形態とされ、かつ、電源電圧側のMO3
FETQ55とのコンダクタンスと上記直列形態のMO
3FETQ56.Q57との合成コンダクタンス特性と
の比を大きく設定して、上記のような出力ロウレベルを
形成するため、上記回路の接地電位側の出力MO3FE
TQ56.Q57のサイズが極めて大きく形成する必要
があり、比較的大きなレイアウト面積を必要とするとい
う欠点がある。
電位側の出力MO3FETがMO3FETQ56.Q5
7のように直列形態とされ、かつ、電源電圧側のMO3
FETQ55とのコンダクタンスと上記直列形態のMO
3FETQ56.Q57との合成コンダクタンス特性と
の比を大きく設定して、上記のような出力ロウレベルを
形成するため、上記回路の接地電位側の出力MO3FE
TQ56.Q57のサイズが極めて大きく形成する必要
があり、比較的大きなレイアウト面積を必要とするとい
う欠点がある。
ダイナミック型RAMについては、特開昭57−822
82号公報及び特願昭57−164831号に詳しく述
べられている。
82号公報及び特願昭57−164831号に詳しく述
べられている。
この発明の目的は、低消費電力化を図ったプートストラ
ップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することにあ
る。
ップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することにあ
る。
この発明の他の目的は、高集積度を実現したプートスト
ラップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することに
ある。
ラップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することに
ある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明・らかになるで
あろう。
この明細書の記述および添付図面から明・らかになるで
あろう。
・本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、入力タイミング信号がそのゲートに供給され
、そのソースが電源電圧端子に接続された第1導電型の
MO3FETQ60と、このMO3FETQ60と直列
形態に接続された第2導電型のMO3FETQ61とに
より電源電圧側の出力回路を構成し、上記MO3FET
Q61のゲートにプートストラップ起動タイミング信号
と同期した信号を受けるCMOSインバータ回路の出力
信号を容量カット用の第2導電型の伝送ゲー)MO3F
ETQ64を介して伝え、上記入力タイミング信号がそ
のゲートに接続された第2導電型の接地電位側の出力回
路を構成するMO3FETQ63を設けて、上記MO5
FETQ61の’/−スに一方の電極が接続され、他力
の電極にプートストラップ起動タイミング信号が供給さ
れたプートストラップ容量CBを設けてプートストラッ
プ回路を構成するものである。
、そのソースが電源電圧端子に接続された第1導電型の
MO3FETQ60と、このMO3FETQ60と直列
形態に接続された第2導電型のMO3FETQ61とに
より電源電圧側の出力回路を構成し、上記MO3FET
Q61のゲートにプートストラップ起動タイミング信号
と同期した信号を受けるCMOSインバータ回路の出力
信号を容量カット用の第2導電型の伝送ゲー)MO3F
ETQ64を介して伝え、上記入力タイミング信号がそ
のゲートに接続された第2導電型の接地電位側の出力回
路を構成するMO3FETQ63を設けて、上記MO5
FETQ61の’/−スに一方の電極が接続され、他力
の電極にプートストラップ起動タイミング信号が供給さ
れたプートストラップ容量CBを設けてプートストラッ
プ回路を構成するものである。
第2図には、この発明をメモリアレイM−ARYをダイ
ナミック型メモリセルにより構成し、その周辺回路をC
MOSスタティック型回路により構成した半導体記憶装
置に適用した一実施例の回路図が示されている。同図の
各回路素子は、公知のMO5集積回路の製造技術によっ
て、1個のシリコンのような半導体基板上において形成
される。
ナミック型メモリセルにより構成し、その周辺回路をC
MOSスタティック型回路により構成した半導体記憶装
置に適用した一実施例の回路図が示されている。同図の
各回路素子は、公知のMO5集積回路の製造技術によっ
て、1個のシリコンのような半導体基板上において形成
される。
以下の説明において、特に説明しない場合、MOSFE
T (絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)はNチャン
ネル型のものである。
T (絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)はNチャン
ネル型のものである。
メモリアレイM−ARYは、その一対の行が代表として
示されており、一対の平行に配置された相補データ線り
、Dに、アドレス選択用MO3FETQ15ないしQ1
8と情報記憶用MO3容量とで構成された複数のメモリ
セルのそれぞれの入出力ノードが同図に示すように所定
の規則性をもって配分されて結合されている。
示されており、一対の平行に配置された相補データ線り
、Dに、アドレス選択用MO3FETQ15ないしQ1
8と情報記憶用MO3容量とで構成された複数のメモリ
セルのそれぞれの入出力ノードが同図に示すように所定
の規則性をもって配分されて結合されている。
プリチャージ回路PCIは、特に制限されないが、代表
として示されたMOSFETQI4のように、相補デー
タ線り、D間に設けられたスイッチMO3FETQI
4により構成される。
として示されたMOSFETQI4のように、相補デー
タ線り、D間に設けられたスイッチMO3FETQI
4により構成される。
センスアンプSAは、代表として示されたPチャンネル
MO3FETQ7.Q9と、NチャンネルMO3FET
Q6.QBとからなる0MO3(相補型MO3)ラッチ
回路で構成され、その一対の入出力ノードが上記相補デ
ータ線り、 Dに結合されている。また、上記ラッチ回
路には、特に制限されないが、並列形態のPチャンネル
MO3FETQI 2.Ql 3を通して電源電圧Vc
cが供給され、並列形態のNチャンネルMO3FETQ
I0、Qllを通して回路の接地電圧Vssが供給され
る。これらのパワースイッチMO3FETQIO,Ql
l及びMOSFETQI2.Q13は、他の同様な行に
設けられたセンスアンプSAに対して共通に用いられる
。
MO3FETQ7.Q9と、NチャンネルMO3FET
Q6.QBとからなる0MO3(相補型MO3)ラッチ
回路で構成され、その一対の入出力ノードが上記相補デ
ータ線り、 Dに結合されている。また、上記ラッチ回
路には、特に制限されないが、並列形態のPチャンネル
MO3FETQI 2.Ql 3を通して電源電圧Vc
cが供給され、並列形態のNチャンネルMO3FETQ
I0、Qllを通して回路の接地電圧Vssが供給され
る。これらのパワースイッチMO3FETQIO,Ql
l及びMOSFETQI2.Q13は、他の同様な行に
設けられたセンスアンプSAに対して共通に用いられる
。
上記MO3FETQI O,Ql 2のゲートには、セ
ンスアンプSAを活性化させる相補タイミングパルスφ
pal 、φpalが印加され、MO3’FETQll
、Q13のゲートには、上記タイミングパルスφpal
、φpalより遅れた、相補タイミングパルスφpa
2 、φpa2が印加される。この理由は、メモリセル
からの微小読み出し電圧でセンスアンプSAを動作させ
たとき、データ線のレベル落ち込みを比較的小さなコン
ダクタンス特性のMOSFETQIO,Q12によって
電流制限を行うことにより防止する。上記増幅動作によ
って相補データ線電位の差を大きくした後、比較的大き
なコンダクタンス特性のMOSFETQI 1.Ql
3をオン状態にして、その増幅動作を速くする。このよ
うに2段階に分けて、センスアンプSAの増幅動作を行
わせることによって、相補データ線のハイレベル側の落
ち込みを防止しつつ、高速読み出しを行うことができる
。
ンスアンプSAを活性化させる相補タイミングパルスφ
pal 、φpalが印加され、MO3’FETQll
、Q13のゲートには、上記タイミングパルスφpal
、φpalより遅れた、相補タイミングパルスφpa
2 、φpa2が印加される。この理由は、メモリセル
からの微小読み出し電圧でセンスアンプSAを動作させ
たとき、データ線のレベル落ち込みを比較的小さなコン
ダクタンス特性のMOSFETQIO,Q12によって
電流制限を行うことにより防止する。上記増幅動作によ
って相補データ線電位の差を大きくした後、比較的大き
なコンダクタンス特性のMOSFETQI 1.Ql
3をオン状態にして、その増幅動作を速くする。このよ
うに2段階に分けて、センスアンプSAの増幅動作を行
わせることによって、相補データ線のハイレベル側の落
ち込みを防止しつつ、高速読み出しを行うことができる
。
ロウデコーダR−DCRは、その1回路分(ワード線4
本分)が代表として示されており、例えばアドレス信号
i2〜丁6を受けるNチャンネルMOSFETQ32〜
Q36及びPチャンネル、MOSFETQ37〜Q41
て構成されたCMOS回路によるNAND (ナンド)
回路で上記4本分のワード線選択信号が形成される。
本分)が代表として示されており、例えばアドレス信号
i2〜丁6を受けるNチャンネルMOSFETQ32〜
Q36及びPチャンネル、MOSFETQ37〜Q41
て構成されたCMOS回路によるNAND (ナンド)
回路で上記4本分のワード線選択信号が形成される。
このNAND回路の出力は、CMOSインバータIv1
で反転され、力y )MO3FETQ28〜Q31を通
して、MO3FETQ24〜Q27のゲートに伝えられ
る。
で反転され、力y )MO3FETQ28〜Q31を通
して、MO3FETQ24〜Q27のゲートに伝えられ
る。
また、特に制限されないが、2ビツトの相補アドレス信
号五〇、i1で形成されたデコード信号と、ワード線選
択タイミング信号φXとの組合せで形成された4通りの
ワード線選択タイミンク1信号φx00ないしφxll
が上記MO3FETQ24〜Q27を介して各ワード線
に伝えられる。
号五〇、i1で形成されたデコード信号と、ワード線選
択タイミング信号φXとの組合せで形成された4通りの
ワード線選択タイミンク1信号φx00ないしφxll
が上記MO3FETQ24〜Q27を介して各ワード線
に伝えられる。
ここで、非反転アドレス信号aOと反転アドレス信号丁
0とを合わせて相補アドレス信号lOのように表すもの
である。他の相補アドレス信号についても同様に表すも
のである。
0とを合わせて相補アドレス信号lOのように表すもの
である。他の相補アドレス信号についても同様に表すも
のである。
また、各ワード線と接地電位との間には、MO3FET
Q20〜Q23が設けられ、そのゲートに上記NAND
回路の出力が印加されることによって、非選択時のワー
ド線を接地電位に固定させるものである。上記ワード線
には、リセット用のMOSFETQIないしQ4が設け
られており、リセットパルスφpwを受けてこれらのM
OSFETQI−Q4がオン状態となることによって、
選択されたワード線が接地レベルにリセットされる。
Q20〜Q23が設けられ、そのゲートに上記NAND
回路の出力が印加されることによって、非選択時のワー
ド線を接地電位に固定させるものである。上記ワード線
には、リセット用のMOSFETQIないしQ4が設け
られており、リセットパルスφpwを受けてこれらのM
OSFETQI−Q4がオン状態となることによって、
選択されたワード線が接地レベルにリセットされる。
カラムスイッチC−5Wは、代表として示されているM
O3FETQ42.Q43のように、相補データ線り、
Dと共通相補データ線CD、 CDを選択的に結合さ
せる。これらのMO3FETQ42、Q43のゲートに
は、カラムデコーダC−DCRからの選択信号が供給さ
れる。
O3FETQ42.Q43のように、相補データ線り、
Dと共通相補データ線CD、 CDを選択的に結合さ
せる。これらのMO3FETQ42、Q43のゲートに
は、カラムデコーダC−DCRからの選択信号が供給さ
れる。
上記共通相補データ線CD、CD間には、上記同様なプ
リチャージ回路PC2を構成するプリチャージMO5F
ETQ44が設けられている。この共通相補データ線C
D、CDには、上記センスアンプSAと同様な回路構成
のメインアンプMAの一対の入出力ノードが結合されて
いる。
リチャージ回路PC2を構成するプリチャージMO5F
ETQ44が設けられている。この共通相補データ線C
D、CDには、上記センスアンプSAと同様な回路構成
のメインアンプMAの一対の入出力ノードが結合されて
いる。
同図において、DIBはデータ人カバソファであり、D
OBはデータ出力バッファである。
OBはデータ出力バッファである。
自動リフレッシュ回路REFは、特に制限されないが、
リフレッシュアドレス信号を形成するアドレスカウンタ
と、タイマー回路とを含んでいる。
リフレッシュアドレス信号を形成するアドレスカウンタ
と、タイマー回路とを含んでいる。
このタイマー回路は、外部端子からのリフレッシュ制御
信号RESHをロウレベルにすることにより起動される
。すなわち、チップ選択信号C3がハイレベルのときに
リフレッシュ制御信号RE SHをロウレベルにすると
、マルチプレクサM P Xの切り替え信号φrefを
出力して、マルチブし・フサMPXを上記アドレスカウ
ンタ側に切り替えて、このアドレスカウンタで形成され
た内部相補アドレス信号ao〜a8をアドレスデコーダ
R−DCRに伝えて一本のワード線選択動作によるリフ
レッシュ動作(オートリフレッシュ)を行う。上記リフ
レッシュ制御信号RESHの入力毎にアドレスカウンタ
の歩道動作が行われるので、ワード線数だけ上記動作を
繰り返すことにより、全メモリセルをリフレッシュさせ
ることができる。また、上記リフレッシュ制御信号RE
SHをロウレベルにしつづけると、タイマー回路が作動
して、一定時間毎にパルスを発生するので、アドレスカ
ウンタが歩進させられて、この間連続的なリフレッシュ
動作をおこなう。
信号RESHをロウレベルにすることにより起動される
。すなわち、チップ選択信号C3がハイレベルのときに
リフレッシュ制御信号RE SHをロウレベルにすると
、マルチプレクサM P Xの切り替え信号φrefを
出力して、マルチブし・フサMPXを上記アドレスカウ
ンタ側に切り替えて、このアドレスカウンタで形成され
た内部相補アドレス信号ao〜a8をアドレスデコーダ
R−DCRに伝えて一本のワード線選択動作によるリフ
レッシュ動作(オートリフレッシュ)を行う。上記リフ
レッシュ制御信号RESHの入力毎にアドレスカウンタ
の歩道動作が行われるので、ワード線数だけ上記動作を
繰り返すことにより、全メモリセルをリフレッシュさせ
ることができる。また、上記リフレッシュ制御信号RE
SHをロウレベルにしつづけると、タイマー回路が作動
して、一定時間毎にパルスを発生するので、アドレスカ
ウンタが歩進させられて、この間連続的なリフレッシュ
動作をおこなう。
この実施例のRAMにおいては、相補アドレスfi%工
0〜a8.a9〜見14の変化が、アドレス信号変化検
出回路EGによりて検出され、このアドレス信号変化検
出回路EGから出力された検出信号φと、ライトイネー
ブル信号WEと、チップ選択信号C8とにもとすいて、
書込み、読み出し及びリフレッシュ動作に必要な内部タ
イミング信号を全てタイミング発生回路TGが形成する
ものである。したがって、外部からのタイミング制御が
簡素化できるため、スタティック型RAMと同様に扱い
昌(することができる。そして、メモリセルはダイナミ
ック型の1MO3型を用いているので大メモリ容量化を
実現することができる。
0〜a8.a9〜見14の変化が、アドレス信号変化検
出回路EGによりて検出され、このアドレス信号変化検
出回路EGから出力された検出信号φと、ライトイネー
ブル信号WEと、チップ選択信号C8とにもとすいて、
書込み、読み出し及びリフレッシュ動作に必要な内部タ
イミング信号を全てタイミング発生回路TGが形成する
ものである。したがって、外部からのタイミング制御が
簡素化できるため、スタティック型RAMと同様に扱い
昌(することができる。そして、メモリセルはダイナミ
ック型の1MO3型を用いているので大メモリ容量化を
実現することができる。
また、メモリアレイのプリチャージ動作を一対の相補デ
ータ線、共通相補データ線を単に短絡させることによっ
て、約Vcc/2の中間レベルにした場合には、0ボル
トからVccレベルまでチャージアップするものに比べ
、そのレベル変化量が小さく、プリチャージMO3FE
Tのゲート電圧を通常の論理レベル(Vcc)を用いて
も十分に非飽和状態でオンさせることが出来るからプリ
チャージ動作を高速に、しかも低消費電力の下に行うこ
とができる。このように、プリチャージレベルを約Vc
c/2の中間レベルとした場合には、メモリセルの読み
出し時においても、メモリセルのアドレス選択用MOS
F ETのゲート電圧(ワード線選択電圧)として通
常の論理レベル(Vcc)を用いても十分に非飽和状態
でオンさせることが出来るから、メモリセルの高速読み
出しが可能となる。
ータ線、共通相補データ線を単に短絡させることによっ
て、約Vcc/2の中間レベルにした場合には、0ボル
トからVccレベルまでチャージアップするものに比べ
、そのレベル変化量が小さく、プリチャージMO3FE
Tのゲート電圧を通常の論理レベル(Vcc)を用いて
も十分に非飽和状態でオンさせることが出来るからプリ
チャージ動作を高速に、しかも低消費電力の下に行うこ
とができる。このように、プリチャージレベルを約Vc
c/2の中間レベルとした場合には、メモリセルの読み
出し時においても、メモリセルのアドレス選択用MOS
F ETのゲート電圧(ワード線選択電圧)として通
常の論理レベル(Vcc)を用いても十分に非飽和状態
でオンさせることが出来るから、メモリセルの高速読み
出しが可能となる。
また、読み出し基準電圧は、メモリセルが選択されない
一方のデータ線のプリチャージレベルを利用しているの
で、読み出し基準電圧を形成するダミーセルは必ずしも
必要とされない。
一方のデータ線のプリチャージレベルを利用しているの
で、読み出し基準電圧を形成するダミーセルは必ずしも
必要とされない。
しかしながら、上記の選択されたメモリセルに対する再
書込みにおいて、ワード線のレベルが電源電圧Vccレ
ベルのままでは、アドレス選択用のMO3FETQ15
等のしきい値電圧分だけ情報記憶用キャパシタへの書込
みレベルが低下してしまう。そのため、上記読み出し後
の再書込み動作において、上記ワード線選択レベルを電
源電圧Vcc以上の高レベルにする必要がある。
書込みにおいて、ワード線のレベルが電源電圧Vccレ
ベルのままでは、アドレス選択用のMO3FETQ15
等のしきい値電圧分だけ情報記憶用キャパシタへの書込
みレベルが低下してしまう。そのため、上記読み出し後
の再書込み動作において、上記ワード線選択レベルを電
源電圧Vcc以上の高レベルにする必要がある。
第3図には、上記ワード線選択タイミング発生回路等の
タイミング信号を電源電圧以上の高レベルにするために
用いられるブートストラップ回路の一実施例の回路図が
示されている。
タイミング信号を電源電圧以上の高レベルにするために
用いられるブートストラップ回路の一実施例の回路図が
示されている。
この実施例では、特に制限されないが、入力タイミング
信号φinは、CMOSインバータ回路■v2により反
転されて、次のブートストラップ回路の入力信号として
供給される。すなわち、上記反転されて入力タイミング
信号は、電源電圧側の出力回路を構成するPチャンネル
MO3FETQ60のゲートに供給される。また、上記
MO3FETQ60には、直列形態にされたNチャンネ
ルMO3FETQ61が設けられ、上記電源電圧側の出
力回路を構成する。上記NチャンネルMO3FETQ6
1のソースと回路の接地電位点との間には、接地電位側
の出力回路を構成するNチャンネルMO3FETQ62
.Q63が直列形態に設けられる。上記MO3FETQ
62のゲートには、電源電圧Vccが定常的に供給され
、接地電位側の出力MO3FETQ63のドレイン耐圧
の向上を図るものである。すなわち、後述するように、
上記MO3FETQ61のソースから得られる出力信号
φoutにブートストラップをかけて電源電圧Vcc以
上の高レベルにした時、MO3FETQ63のドレイン
電圧を電源電圧Vcc −V th (M O5FET
Q62のしきい値電圧)までの上昇に抑える作用をさせ
るものである。上記出力MO3FETQ63のゲートに
は、上記反転された入力タイミング信号が供給される。
信号φinは、CMOSインバータ回路■v2により反
転されて、次のブートストラップ回路の入力信号として
供給される。すなわち、上記反転されて入力タイミング
信号は、電源電圧側の出力回路を構成するPチャンネル
MO3FETQ60のゲートに供給される。また、上記
MO3FETQ60には、直列形態にされたNチャンネ
ルMO3FETQ61が設けられ、上記電源電圧側の出
力回路を構成する。上記NチャンネルMO3FETQ6
1のソースと回路の接地電位点との間には、接地電位側
の出力回路を構成するNチャンネルMO3FETQ62
.Q63が直列形態に設けられる。上記MO3FETQ
62のゲートには、電源電圧Vccが定常的に供給され
、接地電位側の出力MO3FETQ63のドレイン耐圧
の向上を図るものである。すなわち、後述するように、
上記MO3FETQ61のソースから得られる出力信号
φoutにブートストラップをかけて電源電圧Vcc以
上の高レベルにした時、MO3FETQ63のドレイン
電圧を電源電圧Vcc −V th (M O5FET
Q62のしきい値電圧)までの上昇に抑える作用をさせ
るものである。上記出力MO3FETQ63のゲートに
は、上記反転された入力タイミング信号が供給される。
また、上記出力MO3FETQ61のゲートには、その
ゲートに電源電圧Vccが定常的に供給ささたNチャン
ネル伝送ゲートMO3FETQ64を通して、ブートス
トラップ起動タイミング信号φbと同期した信号φb1
1を受けるCMOSインバータ回路の出力信号が供給さ
れる。ブートストラップ起動タイミング信号φbは、特
に制限されないが、上記信号φbII+が供給された遅
延回路DLから出力される。すなわち、上記ブートスト
ラップ起動タイミング信号φbは、上記信号φha+に
対して遅延された信号である。上記CMOSインバータ
回路は、PチャンネルMO3FETQ65とNチャンネ
ルMO5FETQ66とにより構成されるものである。
ゲートに電源電圧Vccが定常的に供給ささたNチャン
ネル伝送ゲートMO3FETQ64を通して、ブートス
トラップ起動タイミング信号φbと同期した信号φb1
1を受けるCMOSインバータ回路の出力信号が供給さ
れる。ブートストラップ起動タイミング信号φbは、特
に制限されないが、上記信号φbII+が供給された遅
延回路DLから出力される。すなわち、上記ブートスト
ラップ起動タイミング信号φbは、上記信号φha+に
対して遅延された信号である。上記CMOSインバータ
回路は、PチャンネルMO3FETQ65とNチャンネ
ルMO5FETQ66とにより構成されるものである。
特に制限されないが、この実施例では、上記CMOSイ
ンバータ回路を構成するPチャンネルMO8FETQ6
5と電源電圧端子Vccとの間に、上記反転された入力
タイミング信号を受けるインバータ回路IV3の出力信
号を受けるPチャンネルMO3FETQ67が設けられ
る。
ンバータ回路を構成するPチャンネルMO8FETQ6
5と電源電圧端子Vccとの間に、上記反転された入力
タイミング信号を受けるインバータ回路IV3の出力信
号を受けるPチャンネルMO3FETQ67が設けられ
る。
このPチャンネルMO8FETQ67は、ブートストラ
ップ起動タイミング信号φbに同期した信号φbmが入
力タイミング信号φinより早くロウレベルに復旧した
時、ブートストランプ電圧が電源電圧Vcc側に引き抜
かれてしまうのを防止するためのものである。このこと
は、後述する動作説明より明らかになるであろう。また
、上記出力MO3FETQ61のソース側から出力タイ
ミング信号φoutを得るものである。この出力タイミ
ングφoutを電源電圧Vcc以上の高レベルに昇圧す
るため、一方の電極が上記出力端子に接続され、他方の
電極に上記ブートストラップ起動タイミング信号φbが
供給されたブートストラップ容量CBが設けられるもの
である。
ップ起動タイミング信号φbに同期した信号φbmが入
力タイミング信号φinより早くロウレベルに復旧した
時、ブートストランプ電圧が電源電圧Vcc側に引き抜
かれてしまうのを防止するためのものである。このこと
は、後述する動作説明より明らかになるであろう。また
、上記出力MO3FETQ61のソース側から出力タイ
ミング信号φoutを得るものである。この出力タイミ
ングφoutを電源電圧Vcc以上の高レベルに昇圧す
るため、一方の電極が上記出力端子に接続され、他方の
電極に上記ブートストラップ起動タイミング信号φbが
供給されたブートストラップ容量CBが設けられるもの
である。
次に、第4図の動作タイミング図に従って、第3図に示
したブートストラップ回路の動作を説明する。
したブートストラップ回路の動作を説明する。
入力タイミング信号φinとブートストラップ起動タイ
ミング信号φb(及びタイミング信号φb+++)が共
にロウレベルの時、上記入力タイミング信号φinの反
転信号(ノードNl)のハイレベルによって、回路の接
地電位側の出力MO3FETQ63がオン状態に、回路
の電源電圧側のPチャンネルMO3FETQ60がオフ
状態になっている。
ミング信号φb(及びタイミング信号φb+++)が共
にロウレベルの時、上記入力タイミング信号φinの反
転信号(ノードNl)のハイレベルによって、回路の接
地電位側の出力MO3FETQ63がオン状態に、回路
の電源電圧側のPチャンネルMO3FETQ60がオフ
状態になっている。
これにより、出力タイミング信号φout (ノードN
3)はロウレベルになる。また、インバータ回路IV3
の出力信号がロウレベルになってPチャンネルMO3F
ETQ67がオン状態になっているので、ブートストラ
ップ起動タイミング信号φbと同期したロウレベルの信
号φbI11を受けるCMOSインバータ回路の出力信
号がハイレベルになる。これにより、伝送ゲートMO3
FETQ64を通してNチャンネルMO3FETQ61
のゲートにVcc −Vthの電圧が供給される。これ
により、MO8FETQ61がオン状態となり、その基
板にはノードN3のロウレベルが供給されるのでゲート
と基板(チャンネル)間のゲート容量にはプリチャージ
がなされる。なお、特に制限されないが、この実施例に
おいては、ノードN2をプリチャージするために上述し
たもの以外にNチャンネル型のプリチャージMO3FE
TQ6Bが電源端子VccとノードN2に設けられてい
る。
3)はロウレベルになる。また、インバータ回路IV3
の出力信号がロウレベルになってPチャンネルMO3F
ETQ67がオン状態になっているので、ブートストラ
ップ起動タイミング信号φbと同期したロウレベルの信
号φbI11を受けるCMOSインバータ回路の出力信
号がハイレベルになる。これにより、伝送ゲートMO3
FETQ64を通してNチャンネルMO3FETQ61
のゲートにVcc −Vthの電圧が供給される。これ
により、MO8FETQ61がオン状態となり、その基
板にはノードN3のロウレベルが供給されるのでゲート
と基板(チャンネル)間のゲート容量にはプリチャージ
がなされる。なお、特に制限されないが、この実施例に
おいては、ノードN2をプリチャージするために上述し
たもの以外にNチャンネル型のプリチャージMO3FE
TQ6Bが電源端子VccとノードN2に設けられてい
る。
次に、入力タイミング信号φinがハイレベルになると
、ノードN1がロウレベルに変化する。これにより、N
チャンネルMO3FETQ63がオフ状態に、Pチャン
ネルMO3FETQ60がオン状態に切り替わる。この
MO3FRTQ6Gのオン状態により、上記オン状態な
っているNチャンネルMO5FETQ61を通してノー
ドN3(出力タイミング信号φout )がハイレベル
なる。
、ノードN1がロウレベルに変化する。これにより、N
チャンネルMO3FETQ63がオフ状態に、Pチャン
ネルMO3FETQ60がオン状態に切り替わる。この
MO3FRTQ6Gのオン状態により、上記オン状態な
っているNチャンネルMO5FETQ61を通してノー
ドN3(出力タイミング信号φout )がハイレベル
なる。
この場合、NチャンネルMO3FETQ61のゲート電
圧であるノードN2のレベルは、そのセルフブートスト
ラップ作用によって、電源電圧以上の高レベル(約2V
cc−Vth)に昇圧されるので、ノードN3を電源電
圧Vccレベルまで上昇させられるものである。なお、
この時、MO3FETQ64がオフ状態にされるので、
上記昇圧されたノードN2の電位が電源電圧Vce側に
抜けてしまうこはない。
圧であるノードN2のレベルは、そのセルフブートスト
ラップ作用によって、電源電圧以上の高レベル(約2V
cc−Vth)に昇圧されるので、ノードN3を電源電
圧Vccレベルまで上昇させられるものである。なお、
この時、MO3FETQ64がオフ状態にされるので、
上記昇圧されたノードN2の電位が電源電圧Vce側に
抜けてしまうこはない。
上記の出力タイミング信号φoutのハイレベルにより
、ブートストラップ容量CBには、電源電圧Vccによ
るプリチャージが行われる。
、ブートストラップ容量CBには、電源電圧Vccによ
るプリチャージが行われる。
次いで、タイミング信号φbmがハイレベルに変化し、
これによりブートストラップ起動タイミング信号φbが
ハイレベルに変化すると、出力タイミング信号φout
は、上記ブートストラップ容量CBの容量値と図示しな
い負荷容量の容量比に従った電源電圧Vcc以上の高レ
ベルに昇圧される。
これによりブートストラップ起動タイミング信号φbが
ハイレベルに変化すると、出力タイミング信号φout
は、上記ブートストラップ容量CBの容量値と図示しな
い負荷容量の容量比に従った電源電圧Vcc以上の高レ
ベルに昇圧される。
タイミング信号φbmによって上記CMOSインバータ
回路を構成するNチャンネルMO3FETQ66がオン
状態にされるため、伝送ゲートMO3FETQ64を通
して上記出力MO3FETQ61のゲート電圧がロウレ
ベルにされ、このMO3FETQ61がオフ状態にされ
る。これにより、上記出力タイミング信号φoutの昇
圧されたレベルが電源電圧Vce側への逆流によって低
下してしまうことを防止することができる。
回路を構成するNチャンネルMO3FETQ66がオン
状態にされるため、伝送ゲートMO3FETQ64を通
して上記出力MO3FETQ61のゲート電圧がロウレ
ベルにされ、このMO3FETQ61がオフ状態にされ
る。これにより、上記出力タイミング信号φoutの昇
圧されたレベルが電源電圧Vce側への逆流によって低
下してしまうことを防止することができる。
なお、上記ブートス■・ラップ起動タイミング信号φb
に同期した信号φbmが、入力タイミング信号φinよ
り早くロウレベルになった時、CMOSインバータ回路
の出力信号によって上記NチャンネルMO3FETQ6
1が早くオン状態され、これにより、上記昇圧レベルが
低下されてしまうのを防ぐために、PチャンネルMO3
FETQ67は、入力タイミング信号φinと同相の信
号によって制御されるようにされている。
に同期した信号φbmが、入力タイミング信号φinよ
り早くロウレベルになった時、CMOSインバータ回路
の出力信号によって上記NチャンネルMO3FETQ6
1が早くオン状態され、これにより、上記昇圧レベルが
低下されてしまうのを防ぐために、PチャンネルMO3
FETQ67は、入力タイミング信号φinと同相の信
号によって制御されるようにされている。
(11CM OS出力を用いることにより、Pチャンネ
ル出力MOS F ETとNチャンネル出力M OS
FE!とが同時にオ′状態!0なることがな6゛から・
大きな駆動電流を形成する出力回路での貫通電流の発生
を防止することができる。これにより、低消費電力化を
図ったブートストラップ回路を得ることができるという
効果が得られる。
ル出力MOS F ETとNチャンネル出力M OS
FE!とが同時にオ′状態!0なることがな6゛から・
大きな駆動電流を形成する出力回路での貫通電流の発生
を防止することができる。これにより、低消費電力化を
図ったブートストラップ回路を得ることができるという
効果が得られる。
(2)上記(11により、出力MOS F ETが相補
的にオン状態なって、ハイレベルとロウレベルの出力信
号を形成するものである。このため、出力MO3FET
は、必要な駆動電流を形成するために必要最少なコンダ
クタンス特性に設定できるから、0M03回路を用いて
いるにもかかわらず、そのレイアウト面積を小さくする
ことができるという効果が得られる。ちなみに、本願発
明者の試算にとよれば、第1図の回路に比べ第3図の回
路では、約90%のサイズにより形成することができる
。
的にオン状態なって、ハイレベルとロウレベルの出力信
号を形成するものである。このため、出力MO3FET
は、必要な駆動電流を形成するために必要最少なコンダ
クタンス特性に設定できるから、0M03回路を用いて
いるにもかかわらず、そのレイアウト面積を小さくする
ことができるという効果が得られる。ちなみに、本願発
明者の試算にとよれば、第1図の回路に比べ第3図の回
路では、約90%のサイズにより形成することができる
。
(31メモリアレイM−ARYがダイナミック型メモリ
セルにより構成され、その周辺回路がCMOSスタティ
ック型回路により構成された半導体記憶装置におけるワ
ード線選択タイミング信号又はデータ線選択タイミング
信号等のようなタイミング発生回路に、この発明に係る
ブートストラップ回路を適用することにより、上記(1
)と(2)とにより、低消費電力化と高集積化とを実現
できるという効果が得られる。
セルにより構成され、その周辺回路がCMOSスタティ
ック型回路により構成された半導体記憶装置におけるワ
ード線選択タイミング信号又はデータ線選択タイミング
信号等のようなタイミング発生回路に、この発明に係る
ブートストラップ回路を適用することにより、上記(1
)と(2)とにより、低消費電力化と高集積化とを実現
できるという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、耐圧向上のた
めのMOSFETは、他の高耐圧化の構造ないし回路に
置き換えることができるものである。また、入力タイミ
ング信号は、反転信号として形成すれば、インバータ回
路IV2を省略できるものである。さらに、ブートスト
ラップ起動タイミング信号φbに同期した信号b+wを
入力タイミング信号φinの遅延信号として形成した場
合には、この信号φb−が早くロウレベルになることが
ないから、PチャンネルMO3FETQ67とその制御
信号を形成するインバータ回路IV3とは、省略するこ
とができるものである。また、第3図の実施例回路にお
けるMOSFETの導電型は、NチャンネルMOS F
ETをPチャンネルMO3FETに、PチャンネルM
O3FETをNチャンネルMOS F ETにそれぞれ
置き換えるものであってもよい。また、この場合の電源
電圧Vccの極性は、上記実施例の場合と逆に構成する
ものとすればよい。また、上記タイミング信号φbとし
て、上記タイミング信号φbw+を使うことも可能であ
る。この場合、遅延回路DLを省略することが可能であ
り、素子数を少なくすることが可能となる。
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、耐圧向上のた
めのMOSFETは、他の高耐圧化の構造ないし回路に
置き換えることができるものである。また、入力タイミ
ング信号は、反転信号として形成すれば、インバータ回
路IV2を省略できるものである。さらに、ブートスト
ラップ起動タイミング信号φbに同期した信号b+wを
入力タイミング信号φinの遅延信号として形成した場
合には、この信号φb−が早くロウレベルになることが
ないから、PチャンネルMO3FETQ67とその制御
信号を形成するインバータ回路IV3とは、省略するこ
とができるものである。また、第3図の実施例回路にお
けるMOSFETの導電型は、NチャンネルMOS F
ETをPチャンネルMO3FETに、PチャンネルM
O3FETをNチャンネルMOS F ETにそれぞれ
置き換えるものであってもよい。また、この場合の電源
電圧Vccの極性は、上記実施例の場合と逆に構成する
ものとすればよい。また、上記タイミング信号φbとし
て、上記タイミング信号φbw+を使うことも可能であ
る。この場合、遅延回路DLを省略することが可能であ
り、素子数を少なくすることが可能となる。
以上の説明では本願発明者によってなされた発明をその
背景となった技術分野であるRAM等の半導体記憶装置
におけるプートストラップ回路に適用した場合ついて説
明したが、これに限定されるものではなく、0M03回
路により構成され、電源電圧Vcc以上の高レベルを形
成するプートストラップ回路として各種半導体集積回路
装置に広く利用できるものである。
背景となった技術分野であるRAM等の半導体記憶装置
におけるプートストラップ回路に適用した場合ついて説
明したが、これに限定されるものではなく、0M03回
路により構成され、電源電圧Vcc以上の高レベルを形
成するプートストラップ回路として各種半導体集積回路
装置に広く利用できるものである。
第1図は、この発明に先立って開発されたタイミング発
生回路の一例を示す回路図、 第2図は、この発明が適用される半導体記憶装置の一実
施例を示す回路図、 第3図は、そのタイミング発生回路として用いられるプ
ートストラップ回路の一実施例を示す回路図、 第4図は、その動作を説明するためのタイミング図であ
る。 M−ARY・・メモリアレイ、pci・・プリチャージ
回路、SA・・センスアンプ、C−5W・・カラムスイ
ッチ、R−DCR・・ロウアドレスデコーダ、C−DC
R・・カラムアドレスデコーダ、PO2・・プリチャー
ジ回路、MA・・メインアンプ、EG・・変化検出回路
、TG・・タイミング発生回路、REF・・自動リフレ
ッシュ回路、DOB・・データ出力バッファ、DIB・
・データ入カバソファ、MPX・・マルチプレクサ 代理人弁理士 高欄 明夫 第 1 図 第 3 図 第 4 図 手続補正書(自発) 昭和59年特許願第 56027 号 発明の名称 半導体集積回路装置 補IFをする者 II+1との1鮒 特許出願人 rllll: t510111式会1. 0 立 製
作 所代 理 人 居 甫 〒100東京都千代田区丸の内−丁目5番1号
株式会ン1日立製作所内 電U: J悄・212忙11
11 +大代表)含丁正明 細 書 発明の名称 半導体集積回路装置 特許請求の範囲 1、入力タイミング信号がそのゲートに供給され、その
ソースが電源電圧端子に接続された第1導電型のMO8
FETQ60と、このMO8FETQ60と直列形態に
接続された第2導電型のMO8FETQ6】と、上記M
O8FETQ61のゲートとブートストラップ起動タイ
ミング信号と同期した信号を受けるCMOSインバータ
回路の出力点との間に設けられ、そのゲートが上記電源
電圧端子に接続された第2導電型の伝送グー)MO8F
ETQ64と、上記MO8FETQ61のソースと回路
の接地電位点との間に設けられ、上記入力タイミング信
号がそのゲートに接続された第2導電型のM08FET
Q63と、上記MO8FETQ61のソースに一方の電
極が接続され、他方の電極にブートストラップ起動タイ
ミング信号が供給されたブートストラップ容量CBとを
含むプートストラップ回路を内蔵することを特徴とする
半導体集積回路装置。 2/上記CMOSインバータ回路の電源電圧側MO8F
ETと電源電圧端子との間には、上記入力タイミングの
反転信号が供給された第1導電型のMO8FETQ67
が設けられるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、その周辺回路が0M0
8回路によって構成され、そのメモリアレイがダイナミ
ック型メモリセルで構成された擬似スタティック型RA
Mであり、プートストラップ回路は、ワード線、データ
線の選択タイミング信号を形成するものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体集
積回路装置。 発明の詳細な説明 〔技術分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、CMO8(相補型MO8)回路によって構成された
プートストラップ回路を内蔵する半導体集積回路装置に
利用して有効な技術に関するものである。 〔背景技術〕 本願出願人においては、例えば、ダイナミック型RAM
(ランダム・アクセス・メモリ)に使用される第1図に
示すようなタイミング発生回路を先に開発した。このタ
イミング発生回路においては、入力タイミング信号φi
nとその反転遅延信号を利用して、ブートスト2.ツブ
電圧を形成することにより、電源電圧側の出力MO8F
ETQ55を駆動して電源電圧レベルの出力信号を得る
ものである。このタイミング発生回路にあっては、上記
入力タイミング信号φinがハイレベルになってからそ
の反転遅延信号がロウレベルになるまでの遅延時間に、
駆動段及び出力段におけるプッシュプル形態のMO8F
ET’Q53 、Q54及び出力MO8FETQ55.
Q56が共にオン状態のときに、所定の出力ロウレベル
を形成するものであるため、比較的大きな貫通電流を流
すことになり、その消費電流が大きくなるという欠点が
ある。また、出力端子にプートストラップ容1icB2
を設けて、出力信号を電源電圧Vcc以上の高レベルと
する場合、高レベルの出力信号による出力MO8FET
Q56の耐圧を確保するため、そのゲートに電1源電圧
Vccが定常的に供給されたMO8FETQ57を設け
るものである。したがって、回路の接地電位側の出力M
O8FETがMO8FETQ56.Q57のように直列
形態とされ、かつ、電源電圧側のMO8FETQ55と
のコンダクタンスと上記直列形態のMO8FETQ56
.Q57トノ合成コンダクタンス特性との比を大きく設
定して、上記のような出力ロウレベルを形成するため、
上記回路の接地電位側の出力MO8FETQ56、Q5
7のサイズが極めて大きく形成する必要があり、比較的
大きなレイアウト面積を必要とするという欠点がある。 ダイナミック型RAMについては、特開昭57−822
82号公報及び特願昭57−164831 号に詳しく
述べられている。 〔発明の目的〕 この発明の目的は、低消費電力化を図ったプートストラ
ップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することにあ
る。 この発明の他の目的は、高集積度を実現したプートスト
ラップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することに
ある。 この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。 〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的な実施例の概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、
プートストラップ回路は、入力タイミング信号がそのゲ
ートに供給され、そのソースが電源電圧端子に接続され
たQ60のような第1導電型の第1M08FETを持つ
。プートストラップ回路は、また、第1M08FETが
逆バイアス状態にされてしまうことを防ぐためのスイッ
チング素子もしくは禁止素子を含む。このスイッチング
素子もしくは禁止素子は、この第1MO8により構成さ
れ、その周辺回路がCMOSスタテイ゛ツク型回路型上
路構成された半導体記憶装置に適用した一実施例の回路
図が示されている。同図の各回路素子は、公知のMO8
集積回路の製造技術によって、1個のシリコンのような
半導体基板上において、形成される。 実施例において、NチャンネルMO8FETは、単結晶
シリコンからなるP型半導体基板上に形成され、Pチャ
ンネルMO8FETは、半導体基板上に形成されたN型
ウェル領域上に形成される。 それらは、選択酸化技術及びセルフアライメント技術の
ような技術の利用によって形成される。半導体基板は、
NチャンネルMO8FETの共通基体ゲートを構成し、
回路のアース電位(第1基準電位)に維持される。N型
ウェル領域は、PチャンネルMO8FETの基体ゲート
を構成し、回路の電源電圧ycc(約+5V)に維持さ
れる。 以下の説明において、特に説明しない場合、MOSFE
T(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)はNチャンネ
ル型のものである。 FETQ60と直列形態に接続されかつMO8FETQ
60とともに電源電圧側の出力回路を構成するQ61の
ような第2導電型のMOSFETから構成することがで
きる。上記MO8FETQ61のゲートには、ブートス
トラップ起動タイミング信号と同期した信号を受けるC
MOSインバータ回路の出力信号が容量カット用の第2
導電型の伝送ゲートM08FETQ64を介して伝えら
れる。 上記入力タイミング信号がそのゲートに供給される接地
電位側の出力回路を構成する第2導電型のQ63のよう
なMOSFETが設けられ、そのMO8FETQ63の
一方の電極が上記MO8FETQ61のソースに接続さ
れ、他方の電極にブートストラップ起動タイミング信号
が供給されたブートストラップ容量CBを設けられる。 他の実施例は、他の代替可能なスイッチ素子もしくは1
流禁止素子を含む。 〔実施例〕 第2A図及び第2B図には、この発明を、メモ11丁レ
イM−ARYがダイナミック型メモリセルメモリアレイ
M−ARYは、その一対の行が代表として示されており
、一対の平行に配置された相補データ線り、Dに、アド
レス選択用MO8FETQI 5ないしQ18と情報記
憶用MO8容量とで構成された複数のメモリセルのそれ
ぞれの入出力ノードが第2A図及び第2B図に示すよう
に所定の規則性をもって配分されて結合されている。 プリチャージ回路PCIは、特に制限されないが、代表
として示されたMO8FETQ14のように、相補デー
タ線り、D間に設けられたスイッチMO8FETQI
4により構成される。 センスアンプSAは、代表として示されたPチャンネル
MO8FETQ7 、Q9と、NチャンネルMO8FE
TQ6.Q8とからなる0MO8(相補型MO8)ラッ
チ回路で構成され、その一対の入出力ノードが上記相補
データ線り、Dに結合されている。また、上記ラッチ回
路には、特に制限されないが、並列形態のPチャンネル
MO8F E T Q 12 、 Q 13ヲAL、テ
[原電圧V9cが供給され、並列形態のNチャンネルM
O8FETQ10、Qllを通して回路の接地電圧Vs
sが供給される。これらのパワースイッチMO8FET
Q10、Qll及びMO8FETQI 2 、Ql 3
は、他の同様な行に設けられたセンスアンプSAに対し
て共通に用いられる。 上記MO8FETQI O、Ql 2のゲートには、セ
ンスアンプSAを活性化させる相補タイミングパルスφ
pal 、φpalが印加され、MO8FETQ11、
Q13のゲートには、上記タイミングパルスφpal
、φpalより遅れた、相補タイミングパルスφpa2
.φpa2が印加される。この理由は、メモリセルから
の微小読み出し電圧でセンスアンプSAを動作させたと
き、データ線のレベル落ち込みを比較的小さなコンダク
タンス特性のMO8FETQI O、Ql 2によって
電流制限を行うことにより防止する。上記増幅動作によ
って相補データ線電位の差を太き(した後、比較的大き
なコンダクタンス特性のMO8FETQI 1 、Ql
3をオン状態にして、その増幅動作を速くする。この
ように2段階に分けて、センスアンプSAの増幅動作を
行わせることによって、相補データ線のハイレベル側の
落ち込みを防止しつつ、高速読み出しを行うことができ
る。 ロウデコーダR−DCRは、その1回路分(ワード線4
本分)が代表として示されており、例えばアドレス信号
a2〜a6を受けるNチャンネルMO8FETQ32〜
Q36及びPチャンネルMO8FETQ37〜Q41で
構成された0M08回路によるNAND(ナンド)回路
で上記4本分のワード線選択信号が形成される。 とのNAND回路の出力は、CMOSインバータIvl
で反転され、カットMO8FETQ28〜Q31を通し
て、MO8FETQ24〜Q27のゲートに伝えられる
。 また、*に制限されないが、2ビツトの相補アドレス信
号aoIalで形成されたデコード信号と、ワード線選
択タイミング信号φXとの組合せで形成された4通りの
ワード線選択タイミング信号φxoOないしφxllが
上記MO8FETQ24〜Q27を介して各ワード線に
伝えられる。 ここで、非反転アドレス信号aOと反転アドレス信号a
Oとを合わせて相補アドレス信号aOのように表わすも
のである。他の相補アドレス信号についても同様に表す
ものである。信号φx00〜φXllは、内部相補アド
レス信号aO+ao*al及び石をデコードし、ワード
線選択タイミング信号φXに同期してそれらの信号φx
00〜φXllを出力するプリデコーダPDCHによっ
て形成される。プリデコーダPDCRの詳細は、第5図
に示されている。 第5図において、特に制限されないが、ブリデ:7−/
FDCut、デコーダ部分DcR(CM。 Sナンド回路G]〜G4及びCMOSインバータIVI
O〜IV]3)、Nチャンネル型のカットMO8FE
TQI OO〜QI Oa、Nチャンネル型のトランス
ファMO8FETQ1o4〜Q1o7、Nチャンネル型
のリセットMO8FETQ 108〜Q111、及びC
MOSインバータIv14から構成゛されている。 第5図のプリデコーダPDCRの回路動作は、次のよう
になる。 先ず、ワード線選択信号φXがロウレベルに維持されて
いるなら、選択線SLI〜SL4の出力信号φxoo〜
φxllは、インバータIVI 4から出力されるノ・
イレベル出力(約電源電圧Vcc)によってリセットM
O8FETQlOs〜Q1】1がオン状態にされるので
、ロウレベルに維持される。 次に、信号φXがノ・イレベルに立上げられると、それ
に応じて出力信号φx00〜φxllのうちの1つがハ
イレベルに立上げられる。すなわち、もしも内部アドレ
ス信号aOとa】がノ〜イレベル(約VCC)なら、ト
ランスファMO8FETQ104がオン状態にされ、信
号φXがMO8FETQ104を介して線SLIに転送
される。これに応じて信号φxoOはノ・イレペルにさ
れる。残 7りの信号φxO1〜φxllは、MO8F
ETQ105〜Q107がデコーダ部分DCHによって
オフ状態に駆動されているので、ロウレベルに維持され
る。 ここで、オン状態のMO8FETQI 04は、そのゲ
ート電極とそのゲート電極の下の半導体基板表面に誘導
されるチャンネル領域との間に比較的大きいゲート容量
を持つようになる。このゲート容量は、いわばセルフブ
ートストラップ容量として作用する。それ故に、信号φ
Xがノ・イレペルにされると、MO8FETQI O4
のゲートはより大きいハイレベルにブーストされ、信号
φXは、実質的に電圧損失を受けることなく、線SLl
に転送される。このとき、カットM08FETQ100
は、MO8FETQI O4の昇圧されたゲート電圧に
よって自動的にオフ状態にされる。残りのMO8FET
QI 05〜Q107は、デコーダ部分DCHのロウレ
ベル出力によってそれぞれのゲート電極の下にチャンネ
ル領域が誘導されないので、小さいゲート容量しか持た
ない。 第2A図及び第2B図において、各ワード線と接地電位
との間には、MO8FETQ20〜Q23が設けられ、
そのゲートに上記NAND回路の出力が印加されること
によって、非選択時のワード線を接地電位に固定させる
ものである。上記ワード線には、リセット用のMO8F
ETQ】ないしQ4が設けられており、リセットパルス
φpwを受けてこれらのMO8FETQI〜Q4がオン
状態となることによって、選択されたワード線が接地レ
ベルにリセットされる。 カラムスイッチC−5Wは、代表として示されているM
O8FETQ42.Q43のように、相補データ線り、
Dと共通相補データ線CD、CDを選択的に結合させる
。これらのMO8FETQ42、Q43のゲートには、
カラムデコーダC−DCRからの選択信号が供給される
。カラムデコーダC−DCRは、入力アドレス信号A9
〜A14を受けるところの力2ムアドレスバックアY−
ADBから電力される信号a9〜a14を受け、それを
デコードする。 上記共通相補データ1sCD、CD間には、上記同様な
プリチャージ回路PC2を構成するプリチャージMO8
FETQ44が設けられている。この共通相補データ線
CD、CDには、上記センスアンプSAと同様な回路構
成のメインアンプMAの一対の入出力ノードが結合され
ている。 同図において、DIBはデータ人力バッファであり、D
OBはデータ出力バッ7アである。 自動リフレッシュ回路REFは、特に制限されないが、
リフレッシュアドレス信号を形成するアドレスカウンタ
と、タイマー回路とを含んでいる。 このタイマー回路は、外部端子からのりフレッシュ制御
信号RESHをロウレベルにすることにより起動される
。すなわち、チップ選択信号C8がハイレベルのときに
リフレッシュ制御信号RESHをロウレベルにすると、
マルチプレクサMPXの切り替え信号φrefを出力し
て、マルチプレクサMPXを上記アドレスカウンタ側に
切り替えて、このアドレスカウンタで形成された内部相
補アドレス信号aO−a8をアドレスデコーダR−DC
Rに伝えて一本のワード線選択動作によるリフレッシュ
動作(オートリフレッシュ)を行う。上記リフレッシュ
制御信号RESHの入力毎にアドレスカウンタの歩道動
作が行われるので、ワード線数だけ上記動作を繰り返す
ことにより、全メモリセルをリフレッシヱさせることが
できる。また、上記−リフレッシュ制御信号RESHを
ロウレベルにしつづけると、タイマー回路が動作して、
一定時間毎にパルスを発生するので、アドレスカウンタ
が歩進させられて、この間連続的なリフレッシュ動作を
おこなう。 この実施例のRAMにおいては、相補アドレス信号ao
−a8.a9〜a14の変化が、アドレス信号変化検出
回路EGによって検出され、このアドレス信号変化検出
回路EGから出力された検出信号φと、ライトイネーブ
ル信号WEと、チップ選択信号C8とにもとづいて、書
込み、読み出し及びリフレッシュ動作に必要な内部タイ
ミング信号を全てタイミング発生回路TGが形成するも
のである。したがって、外部からのタイミング制御が簡
素化できるため、スタティック型RAMと同様に扱い易
くすることができる。そして、メモリセルはダイナミッ
ク型の1MO8型を用いているので大メモリ容量化を実
現することができる。 また、メモリアレイのプリチャージ動作を一対の相補デ
ータ線、共通相補データ線を単に短絡させることによっ
て、約Vcc/2の中間レベルにした場合には、0ボル
トからVccレベルまでチャージアップするものに比べ
、そのレベル変化量が小さく、プリチャージMO8FE
Tのゲート電圧を通常の論理レベル(Vcc )を用い
ても十分に非飽和状態でオンさせることが出来るからプ
リチャージ動作を高速に、しかも低消費電力の下に行う
ことができる。このよう罠、プリチャージレベルを約V
cc/2の中間レベルとした場合には、メモリセルの読
み出し時においても、メモリセルのアドレス選択用MO
8FETのゲート電圧(ワード線選択電圧)として通常
の論理レベル(Vcc )を用いても十分に非飽和状態
でオンさせることが出来るから、メモリセルの高速読み
出しが可能となる。また、読み出し基準電圧は、メモリ
セルが選択されない一方のデータ線のプリチャージレベ
ルを利用しているので、読み出し基準電圧を形成するダ
ミーセルは必ずしも必要とされない。 しかしながら、上記の選択されたメモリセルに対する再
書込みにおいて、ワード線のレベルが電源−圧Vccレ
ベルのままでは、アドレス選択用のM08FETQ15
等のしきい値電圧分だけ情報記憶用キャパシタへの書込
みレベルが低下してしまう。そのため、上記読み出し後
の再書込み動作において、上記ワード線選択レベルを電
源篭手Vcc以上の高レベルにする必要がある。 第3図には、上記ワード線選択タイミング信号φX等の
タイミング信号を電源電圧以上の高レベルにするために
用いられるブートストラップ回路の一実施例の回路図が
示されている。 この実施例では、特に制限されないが、入力タイミング
信号φinは、CMOSインバータ回路IV2により反
転されて、次のブートストラップ回路の入力信号として
供給される。すなわち、上記反転されて入力タイミング
信号は、電源電圧側の出力回路を構成するPチャンネル
MO8FETQ60のゲートに供給される。また、上記
MO8FETQ60には、直列形態にされたNチャンネ
ルMO8FETQ61が設けられ、上記電源電圧側の出
力回路を構成する。上記NチャンネルMO8FETQ6
1のソースと回路の接地電位点との間には、接地電位側
の出力回路を構成するNチャンネルM08FETQ62
.Q63が直列形態に設けられる。上記MO8FETQ
62のゲートには、電源電圧Vccが定常的に供給され
、接地電位側の出力MO8FETQ63のドレイン耐圧
の向上を図るものである。すなわち、後述するように、
上記MO8FETQ61のソースから得られる出力信号
φoutにブートストラップをかけて電源電圧Vcc以
上の高レベルにした時、MO8FETQ63のドVイア
電圧’を電源電圧Vcc −Vth (M OS F
E TQ62のしきい値電圧)までの上昇に抑える作用
をさせるものである。上記出力MOS F E TQ6
3のゲートには、上記反転された入力タイミング信号が
供給される。 また、上記出力MO8FBTQ61のゲートには、その
ゲートに電源電圧Vccが定常的に供給されたNチャン
ネル伝送ゲートMO8FETQ64を通して、ブートス
トラップ起動タイミング信号φbと同期した信号φbm
を受けるCMOSインバータ回路の出力信号が供給され
る。ブートストラップ起動タイミング信号φbは、特に
制限されないが、上記信号φbmが供給された遅延回路
DLから出力される。すなわち、上記ブートストラップ
起動タイミング信号φbは、上記信号φbmに対して遅
延された信号である。上記CMOSインノく一タ回路は
、PチャンネルMO8FETQ65とNチャンネルM0
8FETQ66とにより構成されるものである。特に制
限されないが、この実施例では、上記CMOSインバー
タ回路を構成するPチャンネルMO8FETQ65と電
源電圧端子VCCとの間に、上記反転された入力タイミ
ング信号を受けるインバータ回路IV3の出力信号を受
けるPチャンネルMO8FETQ67が設けられる。 このPチャンネルMO8FETQ67は、ブートストラ
ップ起動タイミング信号φbに同期した信号φbmが入
力タイミング信号φinより早くロウレベルに復旧した
時、ブートストラップ電圧が電源電圧Vce側に引き抜
かれてしまうのを防止するためのものである。このこと
は、後述する動作説明より明らかになるであろう。また
、上記出力MO8FETQ61のソース側から出力タイ
ミング信号φoutを得るものである。この出力タイミ
ングφoutを電源電圧Vcc以上の高レベルに昇圧す
るため、一方の電極が上記出力端子に接続され、他方の
電極に上記ブートストラップ起動タイミング信号φbが
供給されたブートストラップ容fcBが設けられたもの
である。ブートストラップ容量CBは、MO8FETQ
60及びQ61を介して充電され、MO8FETQ62
及びQ63を介して放電される。 次に、第4図の動作タイミング図に従って、第3図に示
したブートストラップ回路の動作を説明する。 入力タイミング信号φinとブートストラップ起動タイ
ミング信号φb(及びタイミング信号φbm)が共にロ
ウレベルの時、上記入力タイミング信号φinの反転信
号(ノードNl)のハイレベルによって、回路の接地電
位側の出力MO8FETQ63がオン状態に、回路の電
源電圧側のPチャンネルMO8FETQ60がオフ状態
になっている。これにより、出力タイミングφout(
ノードN3)はロウレベルになる。また、インバータ回
路IV3の出力信号がロウレベルになってPチャンネル
MO8FETQ67がオン状態になっているので、ブー
トストラップ起動タイミング信号φbと同期したロウレ
ベルの信号φbmを受けるCMOSインバータ回路の出
力信号がハイレベルになる。これにより、伝送ゲートM
O8FETQ64を通してNチャンネルMO8FETQ
61(7)ゲー)KVCC−vthの電圧が供給される
。これにより、MO8FETQ61がオン状態となり、
その基板にはノードN3のロウレベルが供給されるので
ゲートと基板(チャンネル)間のゲート容量にはプリチ
ャージがなされる。なお、特に制限されないが、この実
施例においては、ノードN2をプリチャージするために
上述したもの以外にNチャンネル型のプリチャージMO
8FETQ68が’[源118 子Vc cとノードN
2に設けられている。 次に、入力タイミング信号φinがハイレベルになると
、ノードN1がロウレベルに変化する。これにより、N
チャンネルMO8FETQ63がオフ状態に、Pチャン
ネルMO8FETQ60がオン状態に切り替わる。との
MO8FETQ60のオン状態により、上記オン状態に
なっているNチャンネルMO8FETQ61を通してノ
ードN3(出力タイミング信号φout)がハイレベル
になる。 この場合、NチャンネルMO8F、ETQ61のゲート
電圧であるノードN2のレベルは、そのセルフブートス
トラップ作用によって、電源電圧以上ノ高1/ヘル(約
2Vcc−Vth)に昇圧されるので、ノードN3を電
源電圧Vccレベルまで上昇させられるものである。な
お、この時、MO8FETQ64がオフ状態にされるの
で、上記昇圧されたノードN2の電位が電源電圧Vcc
側に抜けてしまうことはない。 上記の出力タイミング信号φoutのハイレペA/によ
り、ブートストラップ容量CBには、電源電圧Vccに
よるプリチャージが行われる。 次いで、タイミング信号φbmがハイレベルに変化し1
これによりブートストラップ起動タイミング信号φbが
ハイレベルに変化すると、出力タイミング信号φout
け、上記ブートストラップ容量CBの容量値と図示しな
い負荷容量の容量比に従った電源電圧Vcc以上の高レ
ベルに昇圧される。 タイミング信号φbmによって上記CMOSインバータ
回路を構成するNチャンネルMO8FETQ66がオン
状態にされるため、伝送ゲー)MO8FETQ64を通
して上記出力MO8FETQ61のゲート電圧がロウレ
ベル圧され、このMO8FETQ61がオフ状態にされ
る。これにより、上記出力タイミング信号φoutの昇
圧されたレベルが電源電圧Vcc側への逆流によって低
下してしまうことを防止することができる。 なお、上記ブートストラップ起動タイミング信号φbに
同期した信号φbmが、入力タイミング信号φinより
早くロウレベルになった時、CMOSインバータ回路の
出力信号によりて上記NチャンネルMO8FETQ61
が早くオン状態され、これにより、上記昇圧レベルが低
下されてしまうのを防ぐために、PチャンネルMO8F
ETQ67は、入力タイミング信号φinと同相の信号
によって制御されるようにされている。 以上の説明において、本発明が、消費電力を減小させる
ため及び電源電圧を越える高出力電圧を得るために、0
M08回路と、ブートストラップ容量との結合罠向けら
れていることを注意されたい。もしも0M08回路が単
なるありきたりの0MO8構成から成るなら、ブートス
トラップ容量CBK蓄積された電荷は、ブースト期間に
おいて、電源端子と0M08回路の出力端子との間に設
けられたMO8FETQ60を介して放電されてしまう
であろう。ブートストラップ容fcBのこのような放電
を防ぐために、MO8FETQ60の逆バイアス状態を
防ぐためのスイッチ素子としてのMO8FETQ61が
MO8FETQ60と直列接続される。 MO8FETQ60の逆バイアスの防止の理解を容易に
するため、及び他の例を示すため、第6図ないし第12
図に他の実施例が示されている。 こ庇らの図面において、第3図と同じ素子には、第3図
のそれと同じ符号が付けられている。 第6図は、トランジスタQ60の導電流を防ぐために、
ダイオードDかうなる電流禁止素子CIを用いた回路を
示している。この回路は、第3図の実施例のように効果
的ではないが、充電用MO8FETの逆バイアス電流を
防ぐための基本となるところの、CMO8出力回路とブ
ートストラップ容量との組み合せ構成である。 第7図は、第6図の電流禁止回路CIのダイオードDが
Nチャンネル型MO8FETQ61に置き換えられた第
1の変形例を示している。第8図ないし第11図は、ト
ランジスタQ61の位置が変更された例、及びNチャン
ネルMO8FETにかえてl)チャンネルMO8FET
Q61が使用された例をそれぞれ示している。 第8図において、NチャンネルMO8FETQ61は、
MO8FETQ60と電源端子との間に設けられている
。この例においては、PチャンネルMO8FETの基体
ゲートが電源ラインから分離されていること忙注意する
必要があるしすなわち、PチャンネルMO8FETは、
NWウェル領域に形成される。第9図〜第11図は、P
チャンネルMO8FETQ61の3つの配置例を示して
いる。 第8図の回路において、ブートストラップ容量CBの放
電は、Q61の使用によって防止される。 しかしながら、この例においては、PチャンネルMO8
FETQ60がNチャンネルMO8FETQ61とQ6
3との間に置かれるので、Q63のドレインQ61のソ
ースを共通の半導体領域をもって形成することはできな
い。第7図の回路においては、Q63のドレインとQ6
1のソースとを共通の半導体領域によって形成すること
ができるので、回路素子の面積を減小させることができ
る。 第7図及び第8図において、電圧損失もしくはしきい値
電圧vthがQ61のドレイン・ソース間に生ずるので
、容量CBのプリチャージレベルがVcc −Vthに
減少される。 第12図は、第7図の変形例を示す。この例において、
ブートストラップ容量CBのプリチャージレベルが改善
される。この例において、トランジスタQ61を駆動す
るために、カットMO8FETと、信号φbを受けるC
MOSインバータとからなる駆動回路DRCが設けられ
ている。この構成に従うと、容量CBのプリチャージレ
ベルは、トランジスタQ6]のゲート容fCGがブート
ストラップ容量として働くので、改善される。すなわち
、Q61のゲート電位は、Vccよりも大きいレベルに
上昇される。 第3図は、第12図の実施例の改良を示している。すな
わち、トランジスタQ65とQ66とからなるCMOS
インバータとトランスファMO8FETQ64とからな
る第12図の駆動回路DRCが、信号φbに同期された
信号φbmによって駆動される。第3図においては、ま
た、種々の改良のために、遅延素子DLのような種々の
追加素子が設けられている。 〔効 果〕 (1) CM OS出力を用いることにより、Pチャン
ネル出力MO8FETとNチャンネル出力MO8FET
とが同時にオン状態になることがないから、大きな駆動
電流を形成する出力回路での貫通電流の発生を防止する
ことができる。これにより、低消費電力化を図ったブー
トストラップ回路を得ることができるという効果が得ら
れる。 (2)上記(1)により、出力MO8FETが相補的に
オン状態なって、ハイレベルとロウレベルの出力信号を
形Xjるものである。このため、出力MO8FETは、
必要な駆動電流を形成するために必要最少なコンダクタ
ンス特性に設定できるから、0M08回路を用いている
にもかかわらず、そのレイアウト面積を小さくすること
ができるという効果が得られる。ちなみに、本願発明者
の試算によれば、第1図の回路に比べ第3図の回路では
、約90%のサイズにより形成することができる。 (3)メモリアレイM−ARYがダイナばツク型メモリ
セルにより構成され、その周辺回路がCMOSスタティ
ック型回路により構成された半導体記憶表置圧おけるワ
ード線選択タイミング信号又はデータ線選択タイミング
信号等のようなタイミング発生回路に、この発明に係る
ブートストラップ回路を適用することにより、上記(1
)と(2)とにより、低消費電力化と高集積化とを実現
できるという効果が得られる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、耐圧向上のた
めのMOSFETは、他の高耐圧化の構造ないし回路に
置き換えることができるものである。また、入力タイミ
ング信号は、反転信号として形成すれば、インバータ回
路IV2を省略できるものである。さらに、第13図の
ような回路によってプートストラップ起動タイミング信
号φbに同期した信号bmを入力タイミング信号φin
の遅延信号として形成した場合には、この信号φbmが
早くロウレベルになることがないから、PチャンネルM
O8FETQ67とその制御信号を形成するインバータ
回路IV3とは、省略することができるものである。ま
た、第3図の実施例回路におけるMOSFETの導電型
は、NチャンネルMO8FETをPチャンネルMO8F
ETに、PチャンネルMO8FETをNチャンネルMO
8FETにそれぞれ置き換えるものであってもよい。ま
た、この場合の電源電圧Vccの極性は、上記実施例の
場合と逆圧構成するものとすればよい。また、上記タイ
ミング信号φbとして、上記タイミング信号φbmを使
うことも可能である。 この場合、遅延回路DLを省略することが可能であり、
素子数を少なくすることが可能となる。 〔利用分野〕 以上の説明では本願発明者によってなされた発明をその
背景となった技術分野であるRAM等の半導体記憶装置
におけるブートストラップ回路に適用した場合について
説明したが、これに限定されるものではな(,0M08
回路により構成され、電源電圧Vcc以上の高レベルを
形成するブートストラップ回路として各種半導体集積回
路装置に広く利用できるものである。 図面の簡単な説明 第1図は、この発明に先立って開発されたタイミング発
生回路の一例を示す回路図、 第2A図及び第2B図は、この発明が適用される半導体
記憶装置の一実施例を示す回路図、第3図は、そのタイ
ミング発生回路として用いられるブートストラップ回路
の一実施例を示す回路図、 第4図は、その動作を説明するためのタイミング図、 第5図は、第2A図の回路PDCRの具体的な回路図、 第6図ないし第13図は、他の実施例の回路図である。 M−ARY・・・メモリアレイ、PCI・・・プリチャ
ージ回路、SA・・・センスアンプ、C−5W・・・カ
ラムスイッチ、R−DCR・・・ロウアドレスデコーダ
、C−DCR・・・カラムアドレスデコーダ、PC2・
・・プリチャージ回路、MA・・・メインアンプ、EG
・・・変化検出回路、TG・・・タイミング発生回路、
REF・・・自動リフレッシュ回路、DOB・・・デー
タ出力バッファ、DIR・・・データ入カハッファ、M
PX・・・マルチプレクサ。 第 1 図 第 3 ・図 第 4 図 第−2A図 第2E図 第 5 図 1)(!? Pl)CR 第12図 第 13図
生回路の一例を示す回路図、 第2図は、この発明が適用される半導体記憶装置の一実
施例を示す回路図、 第3図は、そのタイミング発生回路として用いられるプ
ートストラップ回路の一実施例を示す回路図、 第4図は、その動作を説明するためのタイミング図であ
る。 M−ARY・・メモリアレイ、pci・・プリチャージ
回路、SA・・センスアンプ、C−5W・・カラムスイ
ッチ、R−DCR・・ロウアドレスデコーダ、C−DC
R・・カラムアドレスデコーダ、PO2・・プリチャー
ジ回路、MA・・メインアンプ、EG・・変化検出回路
、TG・・タイミング発生回路、REF・・自動リフレ
ッシュ回路、DOB・・データ出力バッファ、DIB・
・データ入カバソファ、MPX・・マルチプレクサ 代理人弁理士 高欄 明夫 第 1 図 第 3 図 第 4 図 手続補正書(自発) 昭和59年特許願第 56027 号 発明の名称 半導体集積回路装置 補IFをする者 II+1との1鮒 特許出願人 rllll: t510111式会1. 0 立 製
作 所代 理 人 居 甫 〒100東京都千代田区丸の内−丁目5番1号
株式会ン1日立製作所内 電U: J悄・212忙11
11 +大代表)含丁正明 細 書 発明の名称 半導体集積回路装置 特許請求の範囲 1、入力タイミング信号がそのゲートに供給され、その
ソースが電源電圧端子に接続された第1導電型のMO8
FETQ60と、このMO8FETQ60と直列形態に
接続された第2導電型のMO8FETQ6】と、上記M
O8FETQ61のゲートとブートストラップ起動タイ
ミング信号と同期した信号を受けるCMOSインバータ
回路の出力点との間に設けられ、そのゲートが上記電源
電圧端子に接続された第2導電型の伝送グー)MO8F
ETQ64と、上記MO8FETQ61のソースと回路
の接地電位点との間に設けられ、上記入力タイミング信
号がそのゲートに接続された第2導電型のM08FET
Q63と、上記MO8FETQ61のソースに一方の電
極が接続され、他方の電極にブートストラップ起動タイ
ミング信号が供給されたブートストラップ容量CBとを
含むプートストラップ回路を内蔵することを特徴とする
半導体集積回路装置。 2/上記CMOSインバータ回路の電源電圧側MO8F
ETと電源電圧端子との間には、上記入力タイミングの
反転信号が供給された第1導電型のMO8FETQ67
が設けられるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、その周辺回路が0M0
8回路によって構成され、そのメモリアレイがダイナミ
ック型メモリセルで構成された擬似スタティック型RA
Mであり、プートストラップ回路は、ワード線、データ
線の選択タイミング信号を形成するものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体集
積回路装置。 発明の詳細な説明 〔技術分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、CMO8(相補型MO8)回路によって構成された
プートストラップ回路を内蔵する半導体集積回路装置に
利用して有効な技術に関するものである。 〔背景技術〕 本願出願人においては、例えば、ダイナミック型RAM
(ランダム・アクセス・メモリ)に使用される第1図に
示すようなタイミング発生回路を先に開発した。このタ
イミング発生回路においては、入力タイミング信号φi
nとその反転遅延信号を利用して、ブートスト2.ツブ
電圧を形成することにより、電源電圧側の出力MO8F
ETQ55を駆動して電源電圧レベルの出力信号を得る
ものである。このタイミング発生回路にあっては、上記
入力タイミング信号φinがハイレベルになってからそ
の反転遅延信号がロウレベルになるまでの遅延時間に、
駆動段及び出力段におけるプッシュプル形態のMO8F
ET’Q53 、Q54及び出力MO8FETQ55.
Q56が共にオン状態のときに、所定の出力ロウレベル
を形成するものであるため、比較的大きな貫通電流を流
すことになり、その消費電流が大きくなるという欠点が
ある。また、出力端子にプートストラップ容1icB2
を設けて、出力信号を電源電圧Vcc以上の高レベルと
する場合、高レベルの出力信号による出力MO8FET
Q56の耐圧を確保するため、そのゲートに電1源電圧
Vccが定常的に供給されたMO8FETQ57を設け
るものである。したがって、回路の接地電位側の出力M
O8FETがMO8FETQ56.Q57のように直列
形態とされ、かつ、電源電圧側のMO8FETQ55と
のコンダクタンスと上記直列形態のMO8FETQ56
.Q57トノ合成コンダクタンス特性との比を大きく設
定して、上記のような出力ロウレベルを形成するため、
上記回路の接地電位側の出力MO8FETQ56、Q5
7のサイズが極めて大きく形成する必要があり、比較的
大きなレイアウト面積を必要とするという欠点がある。 ダイナミック型RAMについては、特開昭57−822
82号公報及び特願昭57−164831 号に詳しく
述べられている。 〔発明の目的〕 この発明の目的は、低消費電力化を図ったプートストラ
ップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することにあ
る。 この発明の他の目的は、高集積度を実現したプートスト
ラップ回路を含む半導体集積回路装置を提供することに
ある。 この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。 〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的な実施例の概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、
プートストラップ回路は、入力タイミング信号がそのゲ
ートに供給され、そのソースが電源電圧端子に接続され
たQ60のような第1導電型の第1M08FETを持つ
。プートストラップ回路は、また、第1M08FETが
逆バイアス状態にされてしまうことを防ぐためのスイッ
チング素子もしくは禁止素子を含む。このスイッチング
素子もしくは禁止素子は、この第1MO8により構成さ
れ、その周辺回路がCMOSスタテイ゛ツク型回路型上
路構成された半導体記憶装置に適用した一実施例の回路
図が示されている。同図の各回路素子は、公知のMO8
集積回路の製造技術によって、1個のシリコンのような
半導体基板上において、形成される。 実施例において、NチャンネルMO8FETは、単結晶
シリコンからなるP型半導体基板上に形成され、Pチャ
ンネルMO8FETは、半導体基板上に形成されたN型
ウェル領域上に形成される。 それらは、選択酸化技術及びセルフアライメント技術の
ような技術の利用によって形成される。半導体基板は、
NチャンネルMO8FETの共通基体ゲートを構成し、
回路のアース電位(第1基準電位)に維持される。N型
ウェル領域は、PチャンネルMO8FETの基体ゲート
を構成し、回路の電源電圧ycc(約+5V)に維持さ
れる。 以下の説明において、特に説明しない場合、MOSFE
T(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)はNチャンネ
ル型のものである。 FETQ60と直列形態に接続されかつMO8FETQ
60とともに電源電圧側の出力回路を構成するQ61の
ような第2導電型のMOSFETから構成することがで
きる。上記MO8FETQ61のゲートには、ブートス
トラップ起動タイミング信号と同期した信号を受けるC
MOSインバータ回路の出力信号が容量カット用の第2
導電型の伝送ゲートM08FETQ64を介して伝えら
れる。 上記入力タイミング信号がそのゲートに供給される接地
電位側の出力回路を構成する第2導電型のQ63のよう
なMOSFETが設けられ、そのMO8FETQ63の
一方の電極が上記MO8FETQ61のソースに接続さ
れ、他方の電極にブートストラップ起動タイミング信号
が供給されたブートストラップ容量CBを設けられる。 他の実施例は、他の代替可能なスイッチ素子もしくは1
流禁止素子を含む。 〔実施例〕 第2A図及び第2B図には、この発明を、メモ11丁レ
イM−ARYがダイナミック型メモリセルメモリアレイ
M−ARYは、その一対の行が代表として示されており
、一対の平行に配置された相補データ線り、Dに、アド
レス選択用MO8FETQI 5ないしQ18と情報記
憶用MO8容量とで構成された複数のメモリセルのそれ
ぞれの入出力ノードが第2A図及び第2B図に示すよう
に所定の規則性をもって配分されて結合されている。 プリチャージ回路PCIは、特に制限されないが、代表
として示されたMO8FETQ14のように、相補デー
タ線り、D間に設けられたスイッチMO8FETQI
4により構成される。 センスアンプSAは、代表として示されたPチャンネル
MO8FETQ7 、Q9と、NチャンネルMO8FE
TQ6.Q8とからなる0MO8(相補型MO8)ラッ
チ回路で構成され、その一対の入出力ノードが上記相補
データ線り、Dに結合されている。また、上記ラッチ回
路には、特に制限されないが、並列形態のPチャンネル
MO8F E T Q 12 、 Q 13ヲAL、テ
[原電圧V9cが供給され、並列形態のNチャンネルM
O8FETQ10、Qllを通して回路の接地電圧Vs
sが供給される。これらのパワースイッチMO8FET
Q10、Qll及びMO8FETQI 2 、Ql 3
は、他の同様な行に設けられたセンスアンプSAに対し
て共通に用いられる。 上記MO8FETQI O、Ql 2のゲートには、セ
ンスアンプSAを活性化させる相補タイミングパルスφ
pal 、φpalが印加され、MO8FETQ11、
Q13のゲートには、上記タイミングパルスφpal
、φpalより遅れた、相補タイミングパルスφpa2
.φpa2が印加される。この理由は、メモリセルから
の微小読み出し電圧でセンスアンプSAを動作させたと
き、データ線のレベル落ち込みを比較的小さなコンダク
タンス特性のMO8FETQI O、Ql 2によって
電流制限を行うことにより防止する。上記増幅動作によ
って相補データ線電位の差を太き(した後、比較的大き
なコンダクタンス特性のMO8FETQI 1 、Ql
3をオン状態にして、その増幅動作を速くする。この
ように2段階に分けて、センスアンプSAの増幅動作を
行わせることによって、相補データ線のハイレベル側の
落ち込みを防止しつつ、高速読み出しを行うことができ
る。 ロウデコーダR−DCRは、その1回路分(ワード線4
本分)が代表として示されており、例えばアドレス信号
a2〜a6を受けるNチャンネルMO8FETQ32〜
Q36及びPチャンネルMO8FETQ37〜Q41で
構成された0M08回路によるNAND(ナンド)回路
で上記4本分のワード線選択信号が形成される。 とのNAND回路の出力は、CMOSインバータIvl
で反転され、カットMO8FETQ28〜Q31を通し
て、MO8FETQ24〜Q27のゲートに伝えられる
。 また、*に制限されないが、2ビツトの相補アドレス信
号aoIalで形成されたデコード信号と、ワード線選
択タイミング信号φXとの組合せで形成された4通りの
ワード線選択タイミング信号φxoOないしφxllが
上記MO8FETQ24〜Q27を介して各ワード線に
伝えられる。 ここで、非反転アドレス信号aOと反転アドレス信号a
Oとを合わせて相補アドレス信号aOのように表わすも
のである。他の相補アドレス信号についても同様に表す
ものである。信号φx00〜φXllは、内部相補アド
レス信号aO+ao*al及び石をデコードし、ワード
線選択タイミング信号φXに同期してそれらの信号φx
00〜φXllを出力するプリデコーダPDCHによっ
て形成される。プリデコーダPDCRの詳細は、第5図
に示されている。 第5図において、特に制限されないが、ブリデ:7−/
FDCut、デコーダ部分DcR(CM。 Sナンド回路G]〜G4及びCMOSインバータIVI
O〜IV]3)、Nチャンネル型のカットMO8FE
TQI OO〜QI Oa、Nチャンネル型のトランス
ファMO8FETQ1o4〜Q1o7、Nチャンネル型
のリセットMO8FETQ 108〜Q111、及びC
MOSインバータIv14から構成゛されている。 第5図のプリデコーダPDCRの回路動作は、次のよう
になる。 先ず、ワード線選択信号φXがロウレベルに維持されて
いるなら、選択線SLI〜SL4の出力信号φxoo〜
φxllは、インバータIVI 4から出力されるノ・
イレベル出力(約電源電圧Vcc)によってリセットM
O8FETQlOs〜Q1】1がオン状態にされるので
、ロウレベルに維持される。 次に、信号φXがノ・イレベルに立上げられると、それ
に応じて出力信号φx00〜φxllのうちの1つがハ
イレベルに立上げられる。すなわち、もしも内部アドレ
ス信号aOとa】がノ〜イレベル(約VCC)なら、ト
ランスファMO8FETQ104がオン状態にされ、信
号φXがMO8FETQ104を介して線SLIに転送
される。これに応じて信号φxoOはノ・イレペルにさ
れる。残 7りの信号φxO1〜φxllは、MO8F
ETQ105〜Q107がデコーダ部分DCHによって
オフ状態に駆動されているので、ロウレベルに維持され
る。 ここで、オン状態のMO8FETQI 04は、そのゲ
ート電極とそのゲート電極の下の半導体基板表面に誘導
されるチャンネル領域との間に比較的大きいゲート容量
を持つようになる。このゲート容量は、いわばセルフブ
ートストラップ容量として作用する。それ故に、信号φ
Xがノ・イレペルにされると、MO8FETQI O4
のゲートはより大きいハイレベルにブーストされ、信号
φXは、実質的に電圧損失を受けることなく、線SLl
に転送される。このとき、カットM08FETQ100
は、MO8FETQI O4の昇圧されたゲート電圧に
よって自動的にオフ状態にされる。残りのMO8FET
QI 05〜Q107は、デコーダ部分DCHのロウレ
ベル出力によってそれぞれのゲート電極の下にチャンネ
ル領域が誘導されないので、小さいゲート容量しか持た
ない。 第2A図及び第2B図において、各ワード線と接地電位
との間には、MO8FETQ20〜Q23が設けられ、
そのゲートに上記NAND回路の出力が印加されること
によって、非選択時のワード線を接地電位に固定させる
ものである。上記ワード線には、リセット用のMO8F
ETQ】ないしQ4が設けられており、リセットパルス
φpwを受けてこれらのMO8FETQI〜Q4がオン
状態となることによって、選択されたワード線が接地レ
ベルにリセットされる。 カラムスイッチC−5Wは、代表として示されているM
O8FETQ42.Q43のように、相補データ線り、
Dと共通相補データ線CD、CDを選択的に結合させる
。これらのMO8FETQ42、Q43のゲートには、
カラムデコーダC−DCRからの選択信号が供給される
。カラムデコーダC−DCRは、入力アドレス信号A9
〜A14を受けるところの力2ムアドレスバックアY−
ADBから電力される信号a9〜a14を受け、それを
デコードする。 上記共通相補データ1sCD、CD間には、上記同様な
プリチャージ回路PC2を構成するプリチャージMO8
FETQ44が設けられている。この共通相補データ線
CD、CDには、上記センスアンプSAと同様な回路構
成のメインアンプMAの一対の入出力ノードが結合され
ている。 同図において、DIBはデータ人力バッファであり、D
OBはデータ出力バッ7アである。 自動リフレッシュ回路REFは、特に制限されないが、
リフレッシュアドレス信号を形成するアドレスカウンタ
と、タイマー回路とを含んでいる。 このタイマー回路は、外部端子からのりフレッシュ制御
信号RESHをロウレベルにすることにより起動される
。すなわち、チップ選択信号C8がハイレベルのときに
リフレッシュ制御信号RESHをロウレベルにすると、
マルチプレクサMPXの切り替え信号φrefを出力し
て、マルチプレクサMPXを上記アドレスカウンタ側に
切り替えて、このアドレスカウンタで形成された内部相
補アドレス信号aO−a8をアドレスデコーダR−DC
Rに伝えて一本のワード線選択動作によるリフレッシュ
動作(オートリフレッシュ)を行う。上記リフレッシュ
制御信号RESHの入力毎にアドレスカウンタの歩道動
作が行われるので、ワード線数だけ上記動作を繰り返す
ことにより、全メモリセルをリフレッシヱさせることが
できる。また、上記−リフレッシュ制御信号RESHを
ロウレベルにしつづけると、タイマー回路が動作して、
一定時間毎にパルスを発生するので、アドレスカウンタ
が歩進させられて、この間連続的なリフレッシュ動作を
おこなう。 この実施例のRAMにおいては、相補アドレス信号ao
−a8.a9〜a14の変化が、アドレス信号変化検出
回路EGによって検出され、このアドレス信号変化検出
回路EGから出力された検出信号φと、ライトイネーブ
ル信号WEと、チップ選択信号C8とにもとづいて、書
込み、読み出し及びリフレッシュ動作に必要な内部タイ
ミング信号を全てタイミング発生回路TGが形成するも
のである。したがって、外部からのタイミング制御が簡
素化できるため、スタティック型RAMと同様に扱い易
くすることができる。そして、メモリセルはダイナミッ
ク型の1MO8型を用いているので大メモリ容量化を実
現することができる。 また、メモリアレイのプリチャージ動作を一対の相補デ
ータ線、共通相補データ線を単に短絡させることによっ
て、約Vcc/2の中間レベルにした場合には、0ボル
トからVccレベルまでチャージアップするものに比べ
、そのレベル変化量が小さく、プリチャージMO8FE
Tのゲート電圧を通常の論理レベル(Vcc )を用い
ても十分に非飽和状態でオンさせることが出来るからプ
リチャージ動作を高速に、しかも低消費電力の下に行う
ことができる。このよう罠、プリチャージレベルを約V
cc/2の中間レベルとした場合には、メモリセルの読
み出し時においても、メモリセルのアドレス選択用MO
8FETのゲート電圧(ワード線選択電圧)として通常
の論理レベル(Vcc )を用いても十分に非飽和状態
でオンさせることが出来るから、メモリセルの高速読み
出しが可能となる。また、読み出し基準電圧は、メモリ
セルが選択されない一方のデータ線のプリチャージレベ
ルを利用しているので、読み出し基準電圧を形成するダ
ミーセルは必ずしも必要とされない。 しかしながら、上記の選択されたメモリセルに対する再
書込みにおいて、ワード線のレベルが電源−圧Vccレ
ベルのままでは、アドレス選択用のM08FETQ15
等のしきい値電圧分だけ情報記憶用キャパシタへの書込
みレベルが低下してしまう。そのため、上記読み出し後
の再書込み動作において、上記ワード線選択レベルを電
源篭手Vcc以上の高レベルにする必要がある。 第3図には、上記ワード線選択タイミング信号φX等の
タイミング信号を電源電圧以上の高レベルにするために
用いられるブートストラップ回路の一実施例の回路図が
示されている。 この実施例では、特に制限されないが、入力タイミング
信号φinは、CMOSインバータ回路IV2により反
転されて、次のブートストラップ回路の入力信号として
供給される。すなわち、上記反転されて入力タイミング
信号は、電源電圧側の出力回路を構成するPチャンネル
MO8FETQ60のゲートに供給される。また、上記
MO8FETQ60には、直列形態にされたNチャンネ
ルMO8FETQ61が設けられ、上記電源電圧側の出
力回路を構成する。上記NチャンネルMO8FETQ6
1のソースと回路の接地電位点との間には、接地電位側
の出力回路を構成するNチャンネルM08FETQ62
.Q63が直列形態に設けられる。上記MO8FETQ
62のゲートには、電源電圧Vccが定常的に供給され
、接地電位側の出力MO8FETQ63のドレイン耐圧
の向上を図るものである。すなわち、後述するように、
上記MO8FETQ61のソースから得られる出力信号
φoutにブートストラップをかけて電源電圧Vcc以
上の高レベルにした時、MO8FETQ63のドVイア
電圧’を電源電圧Vcc −Vth (M OS F
E TQ62のしきい値電圧)までの上昇に抑える作用
をさせるものである。上記出力MOS F E TQ6
3のゲートには、上記反転された入力タイミング信号が
供給される。 また、上記出力MO8FBTQ61のゲートには、その
ゲートに電源電圧Vccが定常的に供給されたNチャン
ネル伝送ゲートMO8FETQ64を通して、ブートス
トラップ起動タイミング信号φbと同期した信号φbm
を受けるCMOSインバータ回路の出力信号が供給され
る。ブートストラップ起動タイミング信号φbは、特に
制限されないが、上記信号φbmが供給された遅延回路
DLから出力される。すなわち、上記ブートストラップ
起動タイミング信号φbは、上記信号φbmに対して遅
延された信号である。上記CMOSインノく一タ回路は
、PチャンネルMO8FETQ65とNチャンネルM0
8FETQ66とにより構成されるものである。特に制
限されないが、この実施例では、上記CMOSインバー
タ回路を構成するPチャンネルMO8FETQ65と電
源電圧端子VCCとの間に、上記反転された入力タイミ
ング信号を受けるインバータ回路IV3の出力信号を受
けるPチャンネルMO8FETQ67が設けられる。 このPチャンネルMO8FETQ67は、ブートストラ
ップ起動タイミング信号φbに同期した信号φbmが入
力タイミング信号φinより早くロウレベルに復旧した
時、ブートストラップ電圧が電源電圧Vce側に引き抜
かれてしまうのを防止するためのものである。このこと
は、後述する動作説明より明らかになるであろう。また
、上記出力MO8FETQ61のソース側から出力タイ
ミング信号φoutを得るものである。この出力タイミ
ングφoutを電源電圧Vcc以上の高レベルに昇圧す
るため、一方の電極が上記出力端子に接続され、他方の
電極に上記ブートストラップ起動タイミング信号φbが
供給されたブートストラップ容fcBが設けられたもの
である。ブートストラップ容量CBは、MO8FETQ
60及びQ61を介して充電され、MO8FETQ62
及びQ63を介して放電される。 次に、第4図の動作タイミング図に従って、第3図に示
したブートストラップ回路の動作を説明する。 入力タイミング信号φinとブートストラップ起動タイ
ミング信号φb(及びタイミング信号φbm)が共にロ
ウレベルの時、上記入力タイミング信号φinの反転信
号(ノードNl)のハイレベルによって、回路の接地電
位側の出力MO8FETQ63がオン状態に、回路の電
源電圧側のPチャンネルMO8FETQ60がオフ状態
になっている。これにより、出力タイミングφout(
ノードN3)はロウレベルになる。また、インバータ回
路IV3の出力信号がロウレベルになってPチャンネル
MO8FETQ67がオン状態になっているので、ブー
トストラップ起動タイミング信号φbと同期したロウレ
ベルの信号φbmを受けるCMOSインバータ回路の出
力信号がハイレベルになる。これにより、伝送ゲートM
O8FETQ64を通してNチャンネルMO8FETQ
61(7)ゲー)KVCC−vthの電圧が供給される
。これにより、MO8FETQ61がオン状態となり、
その基板にはノードN3のロウレベルが供給されるので
ゲートと基板(チャンネル)間のゲート容量にはプリチ
ャージがなされる。なお、特に制限されないが、この実
施例においては、ノードN2をプリチャージするために
上述したもの以外にNチャンネル型のプリチャージMO
8FETQ68が’[源118 子Vc cとノードN
2に設けられている。 次に、入力タイミング信号φinがハイレベルになると
、ノードN1がロウレベルに変化する。これにより、N
チャンネルMO8FETQ63がオフ状態に、Pチャン
ネルMO8FETQ60がオン状態に切り替わる。との
MO8FETQ60のオン状態により、上記オン状態に
なっているNチャンネルMO8FETQ61を通してノ
ードN3(出力タイミング信号φout)がハイレベル
になる。 この場合、NチャンネルMO8F、ETQ61のゲート
電圧であるノードN2のレベルは、そのセルフブートス
トラップ作用によって、電源電圧以上ノ高1/ヘル(約
2Vcc−Vth)に昇圧されるので、ノードN3を電
源電圧Vccレベルまで上昇させられるものである。な
お、この時、MO8FETQ64がオフ状態にされるの
で、上記昇圧されたノードN2の電位が電源電圧Vcc
側に抜けてしまうことはない。 上記の出力タイミング信号φoutのハイレペA/によ
り、ブートストラップ容量CBには、電源電圧Vccに
よるプリチャージが行われる。 次いで、タイミング信号φbmがハイレベルに変化し1
これによりブートストラップ起動タイミング信号φbが
ハイレベルに変化すると、出力タイミング信号φout
け、上記ブートストラップ容量CBの容量値と図示しな
い負荷容量の容量比に従った電源電圧Vcc以上の高レ
ベルに昇圧される。 タイミング信号φbmによって上記CMOSインバータ
回路を構成するNチャンネルMO8FETQ66がオン
状態にされるため、伝送ゲー)MO8FETQ64を通
して上記出力MO8FETQ61のゲート電圧がロウレ
ベル圧され、このMO8FETQ61がオフ状態にされ
る。これにより、上記出力タイミング信号φoutの昇
圧されたレベルが電源電圧Vcc側への逆流によって低
下してしまうことを防止することができる。 なお、上記ブートストラップ起動タイミング信号φbに
同期した信号φbmが、入力タイミング信号φinより
早くロウレベルになった時、CMOSインバータ回路の
出力信号によりて上記NチャンネルMO8FETQ61
が早くオン状態され、これにより、上記昇圧レベルが低
下されてしまうのを防ぐために、PチャンネルMO8F
ETQ67は、入力タイミング信号φinと同相の信号
によって制御されるようにされている。 以上の説明において、本発明が、消費電力を減小させる
ため及び電源電圧を越える高出力電圧を得るために、0
M08回路と、ブートストラップ容量との結合罠向けら
れていることを注意されたい。もしも0M08回路が単
なるありきたりの0MO8構成から成るなら、ブートス
トラップ容量CBK蓄積された電荷は、ブースト期間に
おいて、電源端子と0M08回路の出力端子との間に設
けられたMO8FETQ60を介して放電されてしまう
であろう。ブートストラップ容fcBのこのような放電
を防ぐために、MO8FETQ60の逆バイアス状態を
防ぐためのスイッチ素子としてのMO8FETQ61が
MO8FETQ60と直列接続される。 MO8FETQ60の逆バイアスの防止の理解を容易に
するため、及び他の例を示すため、第6図ないし第12
図に他の実施例が示されている。 こ庇らの図面において、第3図と同じ素子には、第3図
のそれと同じ符号が付けられている。 第6図は、トランジスタQ60の導電流を防ぐために、
ダイオードDかうなる電流禁止素子CIを用いた回路を
示している。この回路は、第3図の実施例のように効果
的ではないが、充電用MO8FETの逆バイアス電流を
防ぐための基本となるところの、CMO8出力回路とブ
ートストラップ容量との組み合せ構成である。 第7図は、第6図の電流禁止回路CIのダイオードDが
Nチャンネル型MO8FETQ61に置き換えられた第
1の変形例を示している。第8図ないし第11図は、ト
ランジスタQ61の位置が変更された例、及びNチャン
ネルMO8FETにかえてl)チャンネルMO8FET
Q61が使用された例をそれぞれ示している。 第8図において、NチャンネルMO8FETQ61は、
MO8FETQ60と電源端子との間に設けられている
。この例においては、PチャンネルMO8FETの基体
ゲートが電源ラインから分離されていること忙注意する
必要があるしすなわち、PチャンネルMO8FETは、
NWウェル領域に形成される。第9図〜第11図は、P
チャンネルMO8FETQ61の3つの配置例を示して
いる。 第8図の回路において、ブートストラップ容量CBの放
電は、Q61の使用によって防止される。 しかしながら、この例においては、PチャンネルMO8
FETQ60がNチャンネルMO8FETQ61とQ6
3との間に置かれるので、Q63のドレインQ61のソ
ースを共通の半導体領域をもって形成することはできな
い。第7図の回路においては、Q63のドレインとQ6
1のソースとを共通の半導体領域によって形成すること
ができるので、回路素子の面積を減小させることができ
る。 第7図及び第8図において、電圧損失もしくはしきい値
電圧vthがQ61のドレイン・ソース間に生ずるので
、容量CBのプリチャージレベルがVcc −Vthに
減少される。 第12図は、第7図の変形例を示す。この例において、
ブートストラップ容量CBのプリチャージレベルが改善
される。この例において、トランジスタQ61を駆動す
るために、カットMO8FETと、信号φbを受けるC
MOSインバータとからなる駆動回路DRCが設けられ
ている。この構成に従うと、容量CBのプリチャージレ
ベルは、トランジスタQ6]のゲート容fCGがブート
ストラップ容量として働くので、改善される。すなわち
、Q61のゲート電位は、Vccよりも大きいレベルに
上昇される。 第3図は、第12図の実施例の改良を示している。すな
わち、トランジスタQ65とQ66とからなるCMOS
インバータとトランスファMO8FETQ64とからな
る第12図の駆動回路DRCが、信号φbに同期された
信号φbmによって駆動される。第3図においては、ま
た、種々の改良のために、遅延素子DLのような種々の
追加素子が設けられている。 〔効 果〕 (1) CM OS出力を用いることにより、Pチャン
ネル出力MO8FETとNチャンネル出力MO8FET
とが同時にオン状態になることがないから、大きな駆動
電流を形成する出力回路での貫通電流の発生を防止する
ことができる。これにより、低消費電力化を図ったブー
トストラップ回路を得ることができるという効果が得ら
れる。 (2)上記(1)により、出力MO8FETが相補的に
オン状態なって、ハイレベルとロウレベルの出力信号を
形Xjるものである。このため、出力MO8FETは、
必要な駆動電流を形成するために必要最少なコンダクタ
ンス特性に設定できるから、0M08回路を用いている
にもかかわらず、そのレイアウト面積を小さくすること
ができるという効果が得られる。ちなみに、本願発明者
の試算によれば、第1図の回路に比べ第3図の回路では
、約90%のサイズにより形成することができる。 (3)メモリアレイM−ARYがダイナばツク型メモリ
セルにより構成され、その周辺回路がCMOSスタティ
ック型回路により構成された半導体記憶表置圧おけるワ
ード線選択タイミング信号又はデータ線選択タイミング
信号等のようなタイミング発生回路に、この発明に係る
ブートストラップ回路を適用することにより、上記(1
)と(2)とにより、低消費電力化と高集積化とを実現
できるという効果が得られる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、耐圧向上のた
めのMOSFETは、他の高耐圧化の構造ないし回路に
置き換えることができるものである。また、入力タイミ
ング信号は、反転信号として形成すれば、インバータ回
路IV2を省略できるものである。さらに、第13図の
ような回路によってプートストラップ起動タイミング信
号φbに同期した信号bmを入力タイミング信号φin
の遅延信号として形成した場合には、この信号φbmが
早くロウレベルになることがないから、PチャンネルM
O8FETQ67とその制御信号を形成するインバータ
回路IV3とは、省略することができるものである。ま
た、第3図の実施例回路におけるMOSFETの導電型
は、NチャンネルMO8FETをPチャンネルMO8F
ETに、PチャンネルMO8FETをNチャンネルMO
8FETにそれぞれ置き換えるものであってもよい。ま
た、この場合の電源電圧Vccの極性は、上記実施例の
場合と逆圧構成するものとすればよい。また、上記タイ
ミング信号φbとして、上記タイミング信号φbmを使
うことも可能である。 この場合、遅延回路DLを省略することが可能であり、
素子数を少なくすることが可能となる。 〔利用分野〕 以上の説明では本願発明者によってなされた発明をその
背景となった技術分野であるRAM等の半導体記憶装置
におけるブートストラップ回路に適用した場合について
説明したが、これに限定されるものではな(,0M08
回路により構成され、電源電圧Vcc以上の高レベルを
形成するブートストラップ回路として各種半導体集積回
路装置に広く利用できるものである。 図面の簡単な説明 第1図は、この発明に先立って開発されたタイミング発
生回路の一例を示す回路図、 第2A図及び第2B図は、この発明が適用される半導体
記憶装置の一実施例を示す回路図、第3図は、そのタイ
ミング発生回路として用いられるブートストラップ回路
の一実施例を示す回路図、 第4図は、その動作を説明するためのタイミング図、 第5図は、第2A図の回路PDCRの具体的な回路図、 第6図ないし第13図は、他の実施例の回路図である。 M−ARY・・・メモリアレイ、PCI・・・プリチャ
ージ回路、SA・・・センスアンプ、C−5W・・・カ
ラムスイッチ、R−DCR・・・ロウアドレスデコーダ
、C−DCR・・・カラムアドレスデコーダ、PC2・
・・プリチャージ回路、MA・・・メインアンプ、EG
・・・変化検出回路、TG・・・タイミング発生回路、
REF・・・自動リフレッシュ回路、DOB・・・デー
タ出力バッファ、DIR・・・データ入カハッファ、M
PX・・・マルチプレクサ。 第 1 図 第 3 ・図 第 4 図 第−2A図 第2E図 第 5 図 1)(!? Pl)CR 第12図 第 13図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、入力タイミング信号がそのゲートに供給され、その
ソースが電源電圧端子に接続された第1導電型のMO3
FETQ60と、このMO3FETQ60と直列形態に
接続された第2導電型のMO3FETQ61と、上記M
O3FETQ61のゲートとブートストラップ起動タイ
ミング信号と同期した信号を受けるCMOSインバータ
回路の出力点との間に設けられ、そのゲートが上記電源
電圧端子に接続された第2導電型の伝送ゲー)MO3F
ETQ64と、上記MO3FETQ61のソースと回路
の接地電位点との間に設けられ、上記入力タイミング信
号がそのゲートに接続された第2導電型のMO3FET
Q63と、上記MO3FETQ61のソースに一方の電
極が接続され、他方の電極にブートストラップ起動タイ
ミング信号が供給されたブートストラップ容量CBとを
含むブートストラップ回路を内蔵することを特徴とする
半導体集積回路装置。 2、上記CMOSインバータ回路の電源電圧側MO3F
ETと電源電圧端子との間には、上記入力タイミングの
反転信号が供給された第1導電型のMO3FETQ67
が設けられるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、その周辺回路がCMO
3回路によって構成され、そのメモリアレイがダイナミ
ック型メモリセルで構成された擬似スタティック型RA
Mであり、ブートストラップ回路は、ワード線、データ
線の選択タイミング信号を形成するものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体集
積回路装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056027A JPS60201591A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 半導体集積回路装置 |
| GB08506105A GB2156617B (en) | 1984-03-26 | 1985-03-08 | Bootstrap driver |
| KR1019850001534A KR930006839B1 (ko) | 1984-03-26 | 1985-03-11 | 반도체 집적 회로장치 |
| US06/712,141 US4707625A (en) | 1984-03-26 | 1985-03-15 | Semiconductor integrated circuit device formed with a CMOS circuit and a boatstrap capacitor |
| HK400/90A HK40090A (en) | 1984-03-26 | 1990-05-24 | A semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056027A JPS60201591A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60201591A true JPS60201591A (ja) | 1985-10-12 |
Family
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Family Applications (1)
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