JPS60201905A - セラミツク泥漿の製造方法 - Google Patents

セラミツク泥漿の製造方法

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JPS60201905A
JPS60201905A JP5897184A JP5897184A JPS60201905A JP S60201905 A JPS60201905 A JP S60201905A JP 5897184 A JP5897184 A JP 5897184A JP 5897184 A JP5897184 A JP 5897184A JP S60201905 A JPS60201905 A JP S60201905A
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JP
Japan
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weight
parts
slip
added
ceramic
Prior art date
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Pending
Application number
JP5897184A
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English (en)
Inventor
秀秋 上原
弘 和田
上山 守
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Preparation Of Clay, And Manufacture Of Mixtures Containing Clay Or Cement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の属する技術分野) 本発明はセラミック泥漿(以下スリップという)の製造
方法に関する。
(従来技術とその問題点) 電子部品の小型高性能化にともない、それらに使用され
るセラミック配線板、ICチップキャリア、サーマルプ
リントヘッド等に施す配線の微細化が要求されている。
同時に配線の微細化を行なう為にセラミック基板の表面
平滑性の向上が必要となってきた。特にCVDなどによ
る薄膜形成法による超微細配線を施す際にセラミック基
板に要求される表面粗さはRaで0.1μm以下であり
、その特性を満足するセラミック基板を得るにはサブミ
クロンオーダーのセラミック原料粉末を用い。
低温で粒成長を極力おさえて焼成を行なえるような製造
技術が必要となってきた。
一般にセラミック基板に用いられるセラミック原料粉末
は主にアルミナが用いられ、それを低温で粒成長をおさ
えながら焼成するだめには5i02゜CaO、MgO、
cr2o3. T iOz等、又はLa2O3゜CeO
2等の希土類の酸化物の添加剤を極く少量添加するとよ
いとされている。従来ミクロンオーダーのアルミナに上
記の添加剤を十分に分散させるにはボールミルなど通常
の混合機によシ粉体同士を十分に分散させればよかった
。しかし従来の分散技術ではアルミナがサブミクロンオ
ーダーになった場合、多くとも1重量−程度の添加剤を
十分に分散させることができない。
(発明の目的) 本発明は上記の欠点のないスリップおよびスリツブの製
造方法を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するだめの手段) 本発明者らは上記の欠点について種々検討した結果+ 
Si+ Mg、 Ca+ Cr、 Co、Ti 、 L
ay Ca笠の有機金属錯体、特にアルコキシドが、ス
リップを製造するのに用いる有機溶剤によく溶け、かつ
少量の水分を加えることによりコロイド状の酸化物が形
成されることに注目し、そしてこの現象を用いて少量の
添加剤をスリップ中に十分に分散させることができるこ
とを確認した。詳しくは所定量のSi、 Mg+ Ca
、 Cr、 Co、 Ti等、又はLa。
Ce等のインプロポキシド、エトキシド等の有機金属錯
体をスリップを製造するのに用いる有機溶剤中に溶解し
9次に溶解している有機金属錯体を分解しコロイド状の
酸化物の粒子を析出させるのに十分な水分を加えて酸化
物コロイド溶液とし。
これにセラミック原料粉末、有機バインダ、可塑剤等を
加えボールミル等で混合することによシ添加剤をスリッ
プ中に十分に分散させることができることを確認した。
卒発弊a講或# 本発明は有機金属錯体を有機溶剤中に溶解する工程、適
量の水分を加える工程、セラミック原料粉末、有機バイ
ンダーおよび可塑剤を加えて混合する工程を含むスリッ
プの製造方法に関する。
(材料例) なお本発明において有機金属錯体としては、アルコキシ
ドが好ましく、アルコキシドとしてsi。
Mg+ Ca+ Cr、 Co、 T+等、又は工、a
、ce等の希土類のイングロポキシド、エトキシド、メ
トキシド。
ブトキシド等の加水分解をおこし易いものを用いること
が好ましい。有機金属錯体の含有】は酸化物換算でセラ
ミック原料粉末100n量部に対し0.01重量部〜1
重量部であることが好ましい。
有機溶剤としては、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、グロパノール、n−7”l/−ルウトリクロルエチ
レン、トルエン、酢酸メチル、酢酸エチル等およびそれ
らの共沸混合物が用いられる。
またセラミック原料粉末としては、アルミナ。
ガラスフリット等が用いられ、有機バインダーとしては
、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂。
ポリビニルアルコール等が用いられ、可塑剤としては、
DOP、DBP、l3BP等の7タル酸エステル、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール笠のグリ
コールエステルが用いられる。
水分は緯加剤の有機金属錯体を分解してコロイド状の酸
化物とするのに十分な量で、かつセラミック原料粉末の
分散性を落とさず有機バインダーの溶解性に悪影響を与
えない量加えればよく特に制限はないが9例えばSiの
有機金属錯体を用いた場合、Siの有機金属錯体と加え
る水分の量のモル比は1:2以上1:3以下であること
が好ましく。
またCaの有機金属錯体を用いた場合、 Caの有機金
属錯体と加える水分の量のモル比は1:1以上1:2以
下であることが好ましい。なお水分は有機金属錯体を有
機溶剤中に溶解した後に加えることが好ましいが1本発
明ではセラミック原料粉末。
有機バインダーおよび可塑剤の混合と同時に加えてもよ
く、溶解した有機金属錯体とセラミック原料粉末、有機
バインダーおよび可塑剤とを混合した後加えてもよく特
に制限はない。
本発明は上記組成物の他に必要に応じ分散剤。
消泡剤等が添加される。
(実施例) 以下実施例によシ本発明を説明する。
実施例1 メチルアルコールとトリクロルエチレンとの共沸化合物
80重量部にS i (OC2H5)41.732重量
部を加えてS i (OC2H5)4を溶解した後、水
t−0,3重量部加えてコロイド状シリカを含む溶液を
得た。
次に前記コロイド状シリカを含む溶液に平均粒径0.6
μm(7)アルミナ粉末99.5重証部、ポリビニルブ
チラール10重倉部およびBBP 5重量部を加えてボ
ールミルにて20時間混合してスリップを得た。
実施例2 メチルアルコールとトリクロルエチレンとの共沸化合物
80重量部にMg (OC2H5)21.418 li
量部を加えテMg (0Czl−1s )2 全溶解し
た後、水e0.23重量部加えてコロイド状マグネシア
を含む溶液を得だ。以下実施例1と同様の工程を経てス
リップを得た。
実施例3 メチルアルコールとトリクロルエチレンとの共沸化合物
80重量部にS i (OCzHs)41.039重量
部を加えてS i (OCgHs)4を溶解した後、水
を0.18重量部加えてコロイド状シリカを含む溶液を
得た。
以下実施例1と同様の工程を経てスリップを得だ。
実施例4 メチルアルコールとトリクロルエチレンとの共沸化合物
80重量部にMg (OC2H5)20.851重量部
を加えてMg (OCzHs)zを溶解した後、水を0
.14重量部加えてコロイド状シリカを含む溶液を得た
以下実施例1と同様の工程を経てスリップを得た。
比較例1 平均粒径0.6μInのアルミナ粉末99.5重量部。
平均粒径0.4μmのS i (h O,3重量部、メ
チルアルコールとトリクロルエチレンとの共沸化合物8
0重量部、ポリビニルブチラール10重量部およびBB
P 5重量部をボールミルにて20時間混合してスリッ
プを得た。
比較例2 Si02の代わシにMgOを0.3重量部加えた以外は
実施例1と同組成配合でかつ実施例1と同様の工程を経
てスリップを得た。
比較例3 S iOzを0.5重量部加えた以外は実施例1と同組
成配合でかつ実施例1と同様の工程を経てスリップを得
た。
比較例4 Si02の代わシにMgOを0.5重置部加えた以外は
実施例1と同組成配合でかつ実施例1と同様の工程を経
てスリップを得た。
次に各実施例および比較例で得たスリップをドクターブ
レード法によるキャスティング装置を用い0.9閣の厚
さにシート化しセラミックグリーンシートを得た。その
後前記セラミックグリーンシートを50X50mmの寸
法に切断しアルミナ質耐火物セッター上にのせ電気炉で
大気雰囲気中、温度1520℃で1時間焼成してアルミ
ナセラミック基板を得た。得られたアルミナセラミック
基板の特性を第1表に示す。
第1表 第1表から明らかな如く本発明の実施例になるスリップ
を用いたアルミナセラミック基板の特性は比較例のスリ
ップを用いたアルミナセラミック基板の特性よシ優れる
ことが示される。
またスリップの状態を確認したところ本発明の実施例に
なるスリップは添加剤がスリップ中に十分に分散してい
たが、比較例のスリップは分散が不十分であった。
なお本発明の実施例ではアルミナセラミック基板用スリ
ップについて説明したが成形用スリップに関しても同様
の効果が得られる。
また本発明の実施例ではボールミルにて混合したものに
ついて説明したが播潰機その他の混合法などによっても
同様の効果が得られる。
(発明の効果) 本発明になるスリップは有機金属錯体を有機溶剤中に溶
解する工程、適量の水分を加える工程。
セラミック原料粉末、有機バインダーおよび可塑剤を加
えて混合する工程とから製造されるので。
添加剤を十分に分散させることができ、また本発明にな
るスリップを用いれば緻密で焼結密度が大きく9曲げ強
さに優れ、かつ表面平滑性の向上したアルミナセラミッ
ク基板などを得ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、有機金属錯体を有機溶剤中に溶解する工程。 適量の水分を加える工程、セラミック原料粉末。 有機バインダーおよび可塑剤を加えて混合する工程を含
    むことを特徴とするセラミック泥漿の製造方法。
JP5897184A 1984-03-27 1984-03-27 セラミツク泥漿の製造方法 Pending JPS60201905A (ja)

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JP5897184A JPS60201905A (ja) 1984-03-27 1984-03-27 セラミツク泥漿の製造方法

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JPS60201905A true JPS60201905A (ja) 1985-10-12

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ID=13099730

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JP5897184A Pending JPS60201905A (ja) 1984-03-27 1984-03-27 セラミツク泥漿の製造方法

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