JPS6054965A - セラミツク粉体の製造方法 - Google Patents

セラミツク粉体の製造方法

Info

Publication number
JPS6054965A
JPS6054965A JP58165578A JP16557883A JPS6054965A JP S6054965 A JPS6054965 A JP S6054965A JP 58165578 A JP58165578 A JP 58165578A JP 16557883 A JP16557883 A JP 16557883A JP S6054965 A JPS6054965 A JP S6054965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
ceramic
organic binder
solvent
raw material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58165578A
Other languages
English (en)
Inventor
弘 和田
秀秋 上原
上山 守
久司 堂河内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP58165578A priority Critical patent/JPS6054965A/ja
Publication of JPS6054965A publication Critical patent/JPS6054965A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は緻密で焼結密度が大きく、焼成収縮率が安定し
、かつ表面平滑性の向上したセラミック基板を提供する
 セラミック粉 体の製造方法に関する。
電子機器の分野においては、プリント回路基板による方
法が採用され、小型化、低価格化及び信頼性の向上を可
能にしてきている。その中で特に厚膜印刷による配線板
用基板としては、セラミックグリーンシート(以下グリ
ーンシートという)を焼結1〜たセラミック基板が広く
用いられるようになってきている。このようなセラミッ
ク基板の製造方法としては1例えば次に示すようなプロ
セスが従来から採用されていた。すなわち微細なアルミ
ナ粉と焼結助剤としてのセラミック微粉9例えばマグネ
シア、シリカを重量比にしてほぼ96:4の割合でボー
ルミルで十分均一に混合し、これに有機結合剤、可塑剤
、溶剤などを適量加え更に混合しセラミック混合スリッ
プ(以下スリップという)を作る。このスリップをドク
ターブレード法等で0.2〜1.40程度の厚さの板状
としグリーンシートを得る。こうして得たグリーンシー
トを所望の形状に切断した後所定の温度で焼結してセラ
ミック基板とするが、従来は以下のような問題点があっ
た。
通常スリップはアルミナを水と共にポールミル等で湿式
粉砕し、水分を乾燥して除去l〜だ後これに有機結合剤
+ OJ−塑剤、溶剤を加えてボールミル等で均一に混
合して得ている。1〜かしこの方法によるとセラミック
原石の粉砕混合後の乾燥工程において1欠粒イが再凝集
をおこす。またかりに乾式粉砕であっても粉砕し走1次
粒子が小さいほど凝集しやすく、凝集したセラミック原
料に有機結合剤、可塑剤、溶剤を加え混合しても1次粒
子の状態で均一に分散さぜることtよ極めて困難である
したがって通常は部分的に弱い凝集を起こl−た甘まグ
リーンシートをりくり焼成している。したがって得られ
るセラミック基板の焼結密度が小さく。
焼成収縮率が不安定、−!九表面粗さが粗くなるという
欠点があった。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点を解消し − 
°セラミック原オ」を1次粒 子に1で十分に解粒1.たーヒラミツク粉体の製造方法
を提供するものである。
本発明者らはセラミック原石の粒子表面は親水性があり
、水やアルコール系に6非常に濡れやす〈トリクロール
エチレン、トルエン等には濡れに〈〈、捷た一般的にグ
リーンシートに使用される有機結合剤であるブチラール
樹脂にはアルコール系溶剤は良溶媒であることを見い出
し、溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラミック
原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ解粒
[7た粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤を
添加、混合1.てセラミック原料粉末が単一粒子に々る
まで解粒し、その後溶剤を除去17たセラミック粉体を
用いてセラミック基板を製造【7たところ」−記の欠点
が解消されることを確認した。
製造方法において、溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘
度がセラシック原料粉末の解粒を妨げない程度以下とな
る量でかつ解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の
有機結合剤を添加、混合してセラミック原料粉末が単一
粒子になるまで解粒し。
その後溶剤を除去してセラミック原料粉末の表面を有機
結合剤で被覆するセラミック粉体の製造方法に関する。
なお本発明においてセラミック原石粉末にはアルミナ、
ガラスフリット等が用いられ、必要に応じこの他にマグ
ネシア、カルンア、シリカ、ジルコニア等が用いられる
。有機結合剤にはブチラール樹脂、アクリル樹脂、酢酸
ビニルの共重合体。
ポリビニルアルコール、塩化ビニル、メタアクリレート
等が用いられる。可塑剤にはDOP、DBP等のフタル
酸エステル、トリエチレングリコール。
ポリアルキ17/グリコール等のグリコールエステルが
用いられる。溶剤にはトリクロールエチレン。
ブタノール、エチルアルコール、メチルアルコール等が
用いられる。
溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度は最大20P(ボ
イズ)であることが好ましく、IP〜3Pの範凹でめれ
ばさらに好ましい。また有機結合剤の添加量はセラミッ
ク原料粉末100重量部に対し0.5〜2.0重1部で
あることが好ましく、0.8〜1.8重1部であればさ
らに好ましい。
以下実施例により本発明を説明する。
5− 平均粒径1.2μmのアルミナ粉末と平均粒径1.0μ
mのマグネシア粉末及びシリカ粉末をそれぞれ96重量
%、1.5重量%、2.5重量%になるように秤量した
セラミック原料粉末100重量部に対し有機結合剤とし
てブチラール樹脂1.21i量部。
溶剤としてエタノールを40重量部秤量し、これらをボ
ールミルにて12時間混合してセラミック原料粉末を単
一粒子まで十分解粒した混合スリップ(A)を得た。次
に前記混合スリップ(A)から溶剤を乾燥して除去し、
有機結合剤によって被覆された脂4.8重量部、可塑剤
としてブチルベンジルフタレート3.0重量部、溶剤と
してエタノールとトリクロールエチレンとの共沸混合物
40,0重量部を加え、ボールミルにて12時間混合を
行ない混合スリップ(B)を得た。その後前記混合スリ
ップ(B)をドクターブレード法によるキャスティング
装置を用い、0.95nnnの厚さにシート化しグリー
ンシートを得た。次にこのグリーンシー)’t=95X
956− ■の寸法に切断しアルミナ質耐火物セツタ・−上にのせ
電気炉で水素雰囲気中、温度1550℃で1時間焼成1
.白色の高アルミナセラミック基板を得た。得られたセ
ラミック基板は焼結密度は3,83g 7cm3.焼成
収縮率は15,5士o、 1 ’% 、表面粗さは1゜
2μmRzであった。
これに対し比較例として前記実施例で使用したものと同
じセラミック原料粉末100重量部に対し結合剤として
ブチラール樹脂6.0重量部、可塑剤トシてブチルベン
ジルフタレート3重量部、溶り 剤としてエタノール7トリクロールエチレンとの共沸混
合物40重量部を加えボールミルにて24時時間分を行
ない前記実施例と同様の工程を経てセラミック基板を作
成したものは、焼結密度3,78g /am” で焼成
収縮率は16.2±0.3チであり。
表面粗さは1.5μm n zであった。
なお本発明の実施例ではボールミルにて混合l〜たもの
について説明したが摺潰機その他の混合法等によっても
同様の効果が得られる。
本発明は溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラミ
ック原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ
解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤
を添加、混合してセラミック原料粉末が単一粒子になる
まで解粒し、その後溶剤を除去してセラミック原料粉末
の表面を有機結合剤で被覆するので、緻密で焼結密度が
大きく。
焼成収縮率が安定し、かつ表面平滑性の向上したセラミ
ック基板を提供する セ ラミック粉体を製造することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、セラミック原料粉末、有機結合剤、溶剤及び可塑剤
    を混合するセラミック粉体の製造方法において、溶剤に
    有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラεツク原料粉末の
    解粒を妨げない程度以下となる量でかつ解粒した粒子が
    直接接触するのを妨げる量の有機結合剤を添加、混合し
    てセラミック原料粉末が単一粒子になるまで解粒し、そ
    の後溶剤を除去してセラミック原料粉末の表面を有機結
    合剤で被覆することを特徴とするセラミック粉体の製造
    方法。
JP58165578A 1983-09-07 1983-09-07 セラミツク粉体の製造方法 Pending JPS6054965A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58165578A JPS6054965A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 セラミツク粉体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58165578A JPS6054965A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 セラミツク粉体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6054965A true JPS6054965A (ja) 1985-03-29

Family

ID=15815014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58165578A Pending JPS6054965A (ja) 1983-09-07 1983-09-07 セラミツク粉体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6054965A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6365943A (ja) * 1986-09-05 1988-03-24 Orient Chem Ind Ltd 造粒方法
JPS6414142A (en) * 1987-07-07 1989-01-18 Mitsubishi Mining & Cement Co Production of ceramic powder

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS548362A (en) * 1977-06-22 1979-01-22 Mitsubishi Electric Corp Double-feed detector of sheet
JPS5429531A (en) * 1977-08-09 1979-03-05 Sharp Corp Sense circuit for cmos static random access memory

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS548362A (en) * 1977-06-22 1979-01-22 Mitsubishi Electric Corp Double-feed detector of sheet
JPS5429531A (en) * 1977-08-09 1979-03-05 Sharp Corp Sense circuit for cmos static random access memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6365943A (ja) * 1986-09-05 1988-03-24 Orient Chem Ind Ltd 造粒方法
JPS6414142A (en) * 1987-07-07 1989-01-18 Mitsubishi Mining & Cement Co Production of ceramic powder

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6054965A (ja) セラミツク粉体の製造方法
JPS6054964A (ja) セラミツク泥漿の製造方法
US5089194A (en) Process for producing ceramic film casting mixtures for thin-film circuits
JPS6054966A (ja) セラミツク焼結体の製造方法
JPS6060967A (ja) セラミツク泥漿の製造方法
JPS6060968A (ja) セラミツク焼結体の製造方法
JPS60239352A (ja) セラミツク焼結体の製造方法
JPS60192605A (ja) セラミツク泥漿の製造方法
JPS60231458A (ja) セラミツク誘電体の製造方法
JPS60229713A (ja) セラミツク誘電体用泥漿の製造方法
JPS60231456A (ja) セラミツク誘電体用粉体の製造方法
JP3117535B2 (ja) アルミナ基板の製造方法
JP2000007425A (ja) 高強度アルミナ基板およびその製造方法
JPS621808B2 (ja)
JP3419151B2 (ja) ガラスセラミックスグリーンシートの製造方法
JPS59203762A (ja) セラミツク基板の製造方法
JPS58204871A (ja) セラミツク組成物
JPH01114095A (ja) セラミツク基板
US2902380A (en) Slip casting method
JPH04293290A (ja) 平滑セラミック基板およびその製造方法
JPS6183693A (ja) セラミツクス用メタライズ粉体の製造方法
JPS6265979A (ja) 窒化アルミニウム焼結板の製法
JPH01172257A (ja) グリーンシートの製造方法
JP2574314B2 (ja) セラミックグリ−ンシ−ト用組成物
JPS63112470A (ja) 窒化アルミニウム磁器又は窒化珪素磁器の鋳込み成形方法