JPS6054965A - セラミツク粉体の製造方法 - Google Patents
セラミツク粉体の製造方法Info
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- JPS6054965A JPS6054965A JP58165578A JP16557883A JPS6054965A JP S6054965 A JPS6054965 A JP S6054965A JP 58165578 A JP58165578 A JP 58165578A JP 16557883 A JP16557883 A JP 16557883A JP S6054965 A JPS6054965 A JP S6054965A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は緻密で焼結密度が大きく、焼成収縮率が安定し
、かつ表面平滑性の向上したセラミック基板を提供する
セラミック粉 体の製造方法に関する。
、かつ表面平滑性の向上したセラミック基板を提供する
セラミック粉 体の製造方法に関する。
電子機器の分野においては、プリント回路基板による方
法が採用され、小型化、低価格化及び信頼性の向上を可
能にしてきている。その中で特に厚膜印刷による配線板
用基板としては、セラミックグリーンシート(以下グリ
ーンシートという)を焼結1〜たセラミック基板が広く
用いられるようになってきている。このようなセラミッ
ク基板の製造方法としては1例えば次に示すようなプロ
セスが従来から採用されていた。すなわち微細なアルミ
ナ粉と焼結助剤としてのセラミック微粉9例えばマグネ
シア、シリカを重量比にしてほぼ96:4の割合でボー
ルミルで十分均一に混合し、これに有機結合剤、可塑剤
、溶剤などを適量加え更に混合しセラミック混合スリッ
プ(以下スリップという)を作る。このスリップをドク
ターブレード法等で0.2〜1.40程度の厚さの板状
としグリーンシートを得る。こうして得たグリーンシー
トを所望の形状に切断した後所定の温度で焼結してセラ
ミック基板とするが、従来は以下のような問題点があっ
た。
法が採用され、小型化、低価格化及び信頼性の向上を可
能にしてきている。その中で特に厚膜印刷による配線板
用基板としては、セラミックグリーンシート(以下グリ
ーンシートという)を焼結1〜たセラミック基板が広く
用いられるようになってきている。このようなセラミッ
ク基板の製造方法としては1例えば次に示すようなプロ
セスが従来から採用されていた。すなわち微細なアルミ
ナ粉と焼結助剤としてのセラミック微粉9例えばマグネ
シア、シリカを重量比にしてほぼ96:4の割合でボー
ルミルで十分均一に混合し、これに有機結合剤、可塑剤
、溶剤などを適量加え更に混合しセラミック混合スリッ
プ(以下スリップという)を作る。このスリップをドク
ターブレード法等で0.2〜1.40程度の厚さの板状
としグリーンシートを得る。こうして得たグリーンシー
トを所望の形状に切断した後所定の温度で焼結してセラ
ミック基板とするが、従来は以下のような問題点があっ
た。
通常スリップはアルミナを水と共にポールミル等で湿式
粉砕し、水分を乾燥して除去l〜だ後これに有機結合剤
+ OJ−塑剤、溶剤を加えてボールミル等で均一に混
合して得ている。1〜かしこの方法によるとセラミック
原石の粉砕混合後の乾燥工程において1欠粒イが再凝集
をおこす。またかりに乾式粉砕であっても粉砕し走1次
粒子が小さいほど凝集しやすく、凝集したセラミック原
料に有機結合剤、可塑剤、溶剤を加え混合しても1次粒
子の状態で均一に分散さぜることtよ極めて困難である
。
粉砕し、水分を乾燥して除去l〜だ後これに有機結合剤
+ OJ−塑剤、溶剤を加えてボールミル等で均一に混
合して得ている。1〜かしこの方法によるとセラミック
原石の粉砕混合後の乾燥工程において1欠粒イが再凝集
をおこす。またかりに乾式粉砕であっても粉砕し走1次
粒子が小さいほど凝集しやすく、凝集したセラミック原
料に有機結合剤、可塑剤、溶剤を加え混合しても1次粒
子の状態で均一に分散さぜることtよ極めて困難である
。
したがって通常は部分的に弱い凝集を起こl−た甘まグ
リーンシートをりくり焼成している。したがって得られ
るセラミック基板の焼結密度が小さく。
リーンシートをりくり焼成している。したがって得られ
るセラミック基板の焼結密度が小さく。
焼成収縮率が不安定、−!九表面粗さが粗くなるという
欠点があった。
欠点があった。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点を解消し −
°セラミック原オ」を1次粒 子に1で十分に解粒1.たーヒラミツク粉体の製造方法
を提供するものである。
°セラミック原オ」を1次粒 子に1で十分に解粒1.たーヒラミツク粉体の製造方法
を提供するものである。
本発明者らはセラミック原石の粒子表面は親水性があり
、水やアルコール系に6非常に濡れやす〈トリクロール
エチレン、トルエン等には濡れに〈〈、捷た一般的にグ
リーンシートに使用される有機結合剤であるブチラール
樹脂にはアルコール系溶剤は良溶媒であることを見い出
し、溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラミック
原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ解粒
[7た粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤を
添加、混合1.てセラミック原料粉末が単一粒子に々る
まで解粒し、その後溶剤を除去17たセラミック粉体を
用いてセラミック基板を製造【7たところ」−記の欠点
が解消されることを確認した。
、水やアルコール系に6非常に濡れやす〈トリクロール
エチレン、トルエン等には濡れに〈〈、捷た一般的にグ
リーンシートに使用される有機結合剤であるブチラール
樹脂にはアルコール系溶剤は良溶媒であることを見い出
し、溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラミック
原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ解粒
[7た粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤を
添加、混合1.てセラミック原料粉末が単一粒子に々る
まで解粒し、その後溶剤を除去17たセラミック粉体を
用いてセラミック基板を製造【7たところ」−記の欠点
が解消されることを確認した。
製造方法において、溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘
度がセラシック原料粉末の解粒を妨げない程度以下とな
る量でかつ解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の
有機結合剤を添加、混合してセラミック原料粉末が単一
粒子になるまで解粒し。
度がセラシック原料粉末の解粒を妨げない程度以下とな
る量でかつ解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の
有機結合剤を添加、混合してセラミック原料粉末が単一
粒子になるまで解粒し。
その後溶剤を除去してセラミック原料粉末の表面を有機
結合剤で被覆するセラミック粉体の製造方法に関する。
結合剤で被覆するセラミック粉体の製造方法に関する。
なお本発明においてセラミック原石粉末にはアルミナ、
ガラスフリット等が用いられ、必要に応じこの他にマグ
ネシア、カルンア、シリカ、ジルコニア等が用いられる
。有機結合剤にはブチラール樹脂、アクリル樹脂、酢酸
ビニルの共重合体。
ガラスフリット等が用いられ、必要に応じこの他にマグ
ネシア、カルンア、シリカ、ジルコニア等が用いられる
。有機結合剤にはブチラール樹脂、アクリル樹脂、酢酸
ビニルの共重合体。
ポリビニルアルコール、塩化ビニル、メタアクリレート
等が用いられる。可塑剤にはDOP、DBP等のフタル
酸エステル、トリエチレングリコール。
等が用いられる。可塑剤にはDOP、DBP等のフタル
酸エステル、トリエチレングリコール。
ポリアルキ17/グリコール等のグリコールエステルが
用いられる。溶剤にはトリクロールエチレン。
用いられる。溶剤にはトリクロールエチレン。
ブタノール、エチルアルコール、メチルアルコール等が
用いられる。
用いられる。
溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度は最大20P(ボ
イズ)であることが好ましく、IP〜3Pの範凹でめれ
ばさらに好ましい。また有機結合剤の添加量はセラミッ
ク原料粉末100重量部に対し0.5〜2.0重1部で
あることが好ましく、0.8〜1.8重1部であればさ
らに好ましい。
イズ)であることが好ましく、IP〜3Pの範凹でめれ
ばさらに好ましい。また有機結合剤の添加量はセラミッ
ク原料粉末100重量部に対し0.5〜2.0重1部で
あることが好ましく、0.8〜1.8重1部であればさ
らに好ましい。
以下実施例により本発明を説明する。
5−
平均粒径1.2μmのアルミナ粉末と平均粒径1.0μ
mのマグネシア粉末及びシリカ粉末をそれぞれ96重量
%、1.5重量%、2.5重量%になるように秤量した
セラミック原料粉末100重量部に対し有機結合剤とし
てブチラール樹脂1.21i量部。
mのマグネシア粉末及びシリカ粉末をそれぞれ96重量
%、1.5重量%、2.5重量%になるように秤量した
セラミック原料粉末100重量部に対し有機結合剤とし
てブチラール樹脂1.21i量部。
溶剤としてエタノールを40重量部秤量し、これらをボ
ールミルにて12時間混合してセラミック原料粉末を単
一粒子まで十分解粒した混合スリップ(A)を得た。次
に前記混合スリップ(A)から溶剤を乾燥して除去し、
有機結合剤によって被覆された脂4.8重量部、可塑剤
としてブチルベンジルフタレート3.0重量部、溶剤と
してエタノールとトリクロールエチレンとの共沸混合物
40,0重量部を加え、ボールミルにて12時間混合を
行ない混合スリップ(B)を得た。その後前記混合スリ
ップ(B)をドクターブレード法によるキャスティング
装置を用い、0.95nnnの厚さにシート化しグリー
ンシートを得た。次にこのグリーンシー)’t=95X
956− ■の寸法に切断しアルミナ質耐火物セツタ・−上にのせ
電気炉で水素雰囲気中、温度1550℃で1時間焼成1
.白色の高アルミナセラミック基板を得た。得られたセ
ラミック基板は焼結密度は3,83g 7cm3.焼成
収縮率は15,5士o、 1 ’% 、表面粗さは1゜
2μmRzであった。
ールミルにて12時間混合してセラミック原料粉末を単
一粒子まで十分解粒した混合スリップ(A)を得た。次
に前記混合スリップ(A)から溶剤を乾燥して除去し、
有機結合剤によって被覆された脂4.8重量部、可塑剤
としてブチルベンジルフタレート3.0重量部、溶剤と
してエタノールとトリクロールエチレンとの共沸混合物
40,0重量部を加え、ボールミルにて12時間混合を
行ない混合スリップ(B)を得た。その後前記混合スリ
ップ(B)をドクターブレード法によるキャスティング
装置を用い、0.95nnnの厚さにシート化しグリー
ンシートを得た。次にこのグリーンシー)’t=95X
956− ■の寸法に切断しアルミナ質耐火物セツタ・−上にのせ
電気炉で水素雰囲気中、温度1550℃で1時間焼成1
.白色の高アルミナセラミック基板を得た。得られたセ
ラミック基板は焼結密度は3,83g 7cm3.焼成
収縮率は15,5士o、 1 ’% 、表面粗さは1゜
2μmRzであった。
これに対し比較例として前記実施例で使用したものと同
じセラミック原料粉末100重量部に対し結合剤として
ブチラール樹脂6.0重量部、可塑剤トシてブチルベン
ジルフタレート3重量部、溶り 剤としてエタノール7トリクロールエチレンとの共沸混
合物40重量部を加えボールミルにて24時時間分を行
ない前記実施例と同様の工程を経てセラミック基板を作
成したものは、焼結密度3,78g /am” で焼成
収縮率は16.2±0.3チであり。
じセラミック原料粉末100重量部に対し結合剤として
ブチラール樹脂6.0重量部、可塑剤トシてブチルベン
ジルフタレート3重量部、溶り 剤としてエタノール7トリクロールエチレンとの共沸混
合物40重量部を加えボールミルにて24時時間分を行
ない前記実施例と同様の工程を経てセラミック基板を作
成したものは、焼結密度3,78g /am” で焼成
収縮率は16.2±0.3チであり。
表面粗さは1.5μm n zであった。
なお本発明の実施例ではボールミルにて混合l〜たもの
について説明したが摺潰機その他の混合法等によっても
同様の効果が得られる。
について説明したが摺潰機その他の混合法等によっても
同様の効果が得られる。
本発明は溶剤に有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラミ
ック原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ
解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤
を添加、混合してセラミック原料粉末が単一粒子になる
まで解粒し、その後溶剤を除去してセラミック原料粉末
の表面を有機結合剤で被覆するので、緻密で焼結密度が
大きく。
ック原料粉末の解粒を妨げない程度以下となる量でかつ
解粒した粒子が直接接触するのを妨げる量の有機結合剤
を添加、混合してセラミック原料粉末が単一粒子になる
まで解粒し、その後溶剤を除去してセラミック原料粉末
の表面を有機結合剤で被覆するので、緻密で焼結密度が
大きく。
焼成収縮率が安定し、かつ表面平滑性の向上したセラミ
ック基板を提供する セ ラミック粉体を製造することができる。
ック基板を提供する セ ラミック粉体を製造することができる。
Claims (1)
- 1、セラミック原料粉末、有機結合剤、溶剤及び可塑剤
を混合するセラミック粉体の製造方法において、溶剤に
有機結合剤を加えた溶液の粘度がセラεツク原料粉末の
解粒を妨げない程度以下となる量でかつ解粒した粒子が
直接接触するのを妨げる量の有機結合剤を添加、混合し
てセラミック原料粉末が単一粒子になるまで解粒し、そ
の後溶剤を除去してセラミック原料粉末の表面を有機結
合剤で被覆することを特徴とするセラミック粉体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165578A JPS6054965A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | セラミツク粉体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165578A JPS6054965A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | セラミツク粉体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6054965A true JPS6054965A (ja) | 1985-03-29 |
Family
ID=15815014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58165578A Pending JPS6054965A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | セラミツク粉体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054965A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6365943A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Orient Chem Ind Ltd | 造粒方法 |
| JPS6414142A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-18 | Mitsubishi Mining & Cement Co | Production of ceramic powder |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548362A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | Double-feed detector of sheet |
| JPS5429531A (en) * | 1977-08-09 | 1979-03-05 | Sharp Corp | Sense circuit for cmos static random access memory |
-
1983
- 1983-09-07 JP JP58165578A patent/JPS6054965A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548362A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | Double-feed detector of sheet |
| JPS5429531A (en) * | 1977-08-09 | 1979-03-05 | Sharp Corp | Sense circuit for cmos static random access memory |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6365943A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Orient Chem Ind Ltd | 造粒方法 |
| JPS6414142A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-18 | Mitsubishi Mining & Cement Co | Production of ceramic powder |
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