JPS60202539A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60202539A JPS60202539A JP5796684A JP5796684A JPS60202539A JP S60202539 A JPS60202539 A JP S60202539A JP 5796684 A JP5796684 A JP 5796684A JP 5796684 A JP5796684 A JP 5796684A JP S60202539 A JPS60202539 A JP S60202539A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- magnetic layer
- recording medium
- iron
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は磁気記録媒体に係り、特に固定磁気ディスク装
置に用いる磁気記録媒体の磁気特性の改良に関するもの
である。
置に用いる磁気記録媒体の磁気特性の改良に関するもの
である。
〈従来技術〉
近年、磁気記録媒体は記録密度を向上させる目的で、メ
ッキ媒体およびスパッタ媒体が用いられている。
ッキ媒体およびスパッタ媒体が用いられている。
以下、従来例のメッキ媒体およびスパッタ媒体について
説明する。
説明する。
１） メッキ媒体
μｍの無電解ニッケルメッキを施して下地層２を形成し
、その上に、厚さ０．１μｍ以下のコバルト（Ｃｏ）ま
たはニッケルーコバルト（Ｎｉ −ＣＯ）の金属薄膜磁
性層（以下磁性層という）３を無電解メッキにより施す
。次に、この磁性層３の上に厚さ０．１〜０．２μｍの
保護膜４を形成し、 ′更にこの上に、ヘッドと媒体と
の接触の際の耐ヘッドクラツシユ性などを向上させるた
め、フロロカーボン等の′ＩＩＪ涌層５金層５する。
、その上に、厚さ０．１μｍ以下のコバルト（Ｃｏ）ま
たはニッケルーコバルト（Ｎｉ −ＣＯ）の金属薄膜磁
性層（以下磁性層という）３を無電解メッキにより施す
。次に、この磁性層３の上に厚さ０．１〜０．２μｍの
保護膜４を形成し、 ′更にこの上に、ヘッドと媒体と
の接触の際の耐ヘッドクラツシユ性などを向上させるた
め、フロロカーボン等の′ＩＩＪ涌層５金層５する。
コバルト（Ｃｏ）またはニッケルーコバルト（Ｎ１−Ｇ
ｏ ）の磁性層３は磁気特性がよ（（保持力６００工ル
ステツド以上、残餡磁束密度７０００ガウス以上）記録
媒体として優れている。しかしコバルト（Ｃｏ ）また
はニッケルーコバルト（Ｎｉ −Ｃｏ ）の磁性層３は
耐食性に乏しく、また強度も充分でないので、保護膜４
が必要である。この保護膜４としては、８１０２（シラ
ノール）を使用している。磁性層３の上に８１０２を形
成するには、当初Ｓｉ （ＯＨ）４を磁性ｌＩ３の上に
形成し、その後これを脱水する。脱水するには６５０ｍ
程度の温度で加熱処理をするか、またはレーザスポット
アニール処理をしなければならない。
ｏ ）の磁性層３は磁気特性がよ（（保持力６００工ル
ステツド以上、残餡磁束密度７０００ガウス以上）記録
媒体として優れている。しかしコバルト（Ｃｏ ）また
はニッケルーコバルト（Ｎｉ −Ｃｏ ）の磁性層３は
耐食性に乏しく、また強度も充分でないので、保護膜４
が必要である。この保護膜４としては、８１０２（シラ
ノール）を使用している。磁性層３の上に８１０２を形
成するには、当初Ｓｉ （ＯＨ）４を磁性ｌＩ３の上に
形成し、その後これを脱水する。脱水するには６５０ｍ
程度の温度で加熱処理をするか、またはレーザスポット
アニール処理をしなければならない。
前者は、下地層２が高温処理の際磁化する欠点があり、
後者は２０ＯＷ級のＣＯ２レーザをミラーを介して所定
の速度で回転する磁気媒体に照射してアニールする構成
のため、装置が大がかりとなる欠点がある。
後者は２０ＯＷ級のＣＯ２レーザをミラーを介して所定
の速度で回転する磁気媒体に照射してアニールする構成
のため、装置が大がかりとなる欠点がある。
２） スパッタ媒体
第２図に示す如くアルミ基板１上に陽極酸化によって、
３μｍ程度の厚さにアルマイト層７を形成し、このアル
マイト層７の上に０．１μｍ！！ｉ！度の（Ｘ−１”ｅ
２０３またはＦｅ１３０４ （マグネタイト）の酸化鉄
層をスパッタし、この酸化鉄層を熱処理して酸化（α−
１”ｅ２０３は環元してから酸化）してγ−Ｆ１３２０
３とし、磁性層８を形成する。５は７０ロカーボン等の
Ｉｌ酒層である。
３μｍ程度の厚さにアルマイト層７を形成し、このアル
マイト層７の上に０．１μｍ！！ｉ！度の（Ｘ−１”ｅ
２０３またはＦｅ１３０４ （マグネタイト）の酸化鉄
層をスパッタし、この酸化鉄層を熱処理して酸化（α−
１”ｅ２０３は環元してから酸化）してγ−Ｆ１３２０
３とし、磁性層８を形成する。５は７０ロカーボン等の
Ｉｌ酒層である。
γ−Ｆｅ２０ｓの磁性層８は酸化物のため、耐食性、強
度とも優れており、保護膜を必要としない。しかし、磁
気特性があまりよくないので（保持力２００エルステツ
ド、残留磁束密度２０００ガウス程度）この磁性層８の
上にコバルト（Ｃｏ）をドープして磁気特性を上げてい
る。しかし、そのために経時変化が大きいという欠点が
ある。
度とも優れており、保護膜を必要としない。しかし、磁
気特性があまりよくないので（保持力２００エルステツ
ド、残留磁束密度２０００ガウス程度）この磁性層８の
上にコバルト（Ｃｏ）をドープして磁気特性を上げてい
る。しかし、そのために経時変化が大きいという欠点が
ある。
〈発明の目的〉
本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたもので、保護
膜が不要で、かつ磁気特性のよい磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
膜が不要で、かつ磁気特性のよい磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
〈発明の構成〉
この目的を達成する本発明の構成は、基板上に形成され
た金属薄膜磁性層の上に、前記金属ＩＩＩ磁性層より薄
いＩＡＩ化物層を形成したことを構成上の特徴とするも
のである。
た金属薄膜磁性層の上に、前記金属ＩＩＩ磁性層より薄
いＩＡＩ化物層を形成したことを構成上の特徴とするも
のである。
〈実施例〉
本発明の一実施例を第３図に示す。なお、従来技術と同
一の機能を有する部分には同−ｉｌ＠を付し、重複する
説明は省略する。１はアルミ基板であり、表面の平均ｒ
Ｉ７Ｊ粗さを約０．００５μｍ１最大突起を０．０２μ
ｍ程度に仕上げ、２０〜３０μｍの無電解ニッケルメッ
キを施し、下地層２を形成する。この下地層２は、アル
ミ基板１上に直接磁性層を施すと機械的強度が弱いため
、磁気ヘッドが接触したときにアルミ基板１が変形し、
ヘッドクラッシュが起こるのを防ぐためのものである。
一の機能を有する部分には同−ｉｌ＠を付し、重複する
説明は省略する。１はアルミ基板であり、表面の平均ｒ
Ｉ７Ｊ粗さを約０．００５μｍ１最大突起を０．０２μ
ｍ程度に仕上げ、２０〜３０μｍの無電解ニッケルメッ
キを施し、下地層２を形成する。この下地層２は、アル
ミ基板１上に直接磁性層を施すと機械的強度が弱いため
、磁気ヘッドが接触したときにアルミ基板１が変形し、
ヘッドクラッシュが起こるのを防ぐためのものである。
前記下地１１２の表面を研磨し、表面精度をよくした後
、ＣＯまたはＮ１−ｃｏの磁性Ｗ（厚さ０．１μｍ以下
）３を無電解メッキする。更にこの磁性ＷＩ３の上に、
この磁性１１３より薄い鉄・の磁性層を厚さ０．０２μ
ｍ程度無電解メッキにより形成する。
、ＣＯまたはＮ１−ｃｏの磁性Ｗ（厚さ０．１μｍ以下
）３を無電解メッキする。更にこの磁性ＷＩ３の上に、
この磁性１１３より薄い鉄・の磁性層を厚さ０．０２μ
ｍ程度無電解メッキにより形成する。
次に、この基板を高温の強アルカリ液、例えばＮａ Ｏ
ｈｌ” １５ｍ ｏ ｌ／ ＩＮａ Ｎｏ２−２ｍ Ｏ
１／１ 液温・・・９０℃ の溶液に浸漬すると、表面から１５０Ａ／ｗｉｎ程度の
速度で酸化されて、前記鉄の磁性層が鉄酸化物のマグネ
タイト層１０となる。この浸漬時間を適当にコントロー
ルすることにより、鉄層のみをマグネタイト化すること
ができる。マグネタイトは機械的強度の大きい磁性体な
のでこのまま使ってもよいが、これを２５０℃で２時間
程度熱処理してγ−Ｆｅ ２０３にすれば、より強い磁
性体となり機械的強度も向上する。 なお、５はフロロ
カーボン等の詞滑層である。
ｈｌ” １５ｍ ｏ ｌ／ ＩＮａ Ｎｏ２−２ｍ Ｏ
１／１ 液温・・・９０℃ の溶液に浸漬すると、表面から１５０Ａ／ｗｉｎ程度の
速度で酸化されて、前記鉄の磁性層が鉄酸化物のマグネ
タイト層１０となる。この浸漬時間を適当にコントロー
ルすることにより、鉄層のみをマグネタイト化すること
ができる。マグネタイトは機械的強度の大きい磁性体な
のでこのまま使ってもよいが、これを２５０℃で２時間
程度熱処理してγ−Ｆｅ ２０３にすれば、より強い磁
性体となり機械的強度も向上する。 なお、５はフロロ
カーボン等の詞滑層である。
第４図は他の実施例を示すもので、この例においては、
アルミ基板１の上にアルマイト層７を厚さ３μｍ＠度形
成し、その上に無電解メッキにより、鉄の磁性層１１を
０．１μｍ程度の厚さに形成し、この鉄の磁性層１１の
表層を前記、′１４ｗＡの強アルカリ液に浸漬して、そ
の表面を０．０２μｍ程度の厚さだけＦｅ３０ｍまたは
γ−Ｆ６２０なお、前記実施例においては、金属薄膜磁
性層を形成した基板として、アルミ基板にニッケルメッ
キを施したもの、およびアルミ基板にアルマイト処理し
たものを用いたが、ガラス、セラミックなどの基板でも
よく、要すれば硬度が高く、非磁性体で、かつ、表面精
度が出せるものであればよい。
アルミ基板１の上にアルマイト層７を厚さ３μｍ＠度形
成し、その上に無電解メッキにより、鉄の磁性層１１を
０．１μｍ程度の厚さに形成し、この鉄の磁性層１１の
表層を前記、′１４ｗＡの強アルカリ液に浸漬して、そ
の表面を０．０２μｍ程度の厚さだけＦｅ３０ｍまたは
γ−Ｆ６２０なお、前記実施例においては、金属薄膜磁
性層を形成した基板として、アルミ基板にニッケルメッ
キを施したもの、およびアルミ基板にアルマイト処理し
たものを用いたが、ガラス、セラミックなどの基板でも
よく、要すれば硬度が高く、非磁性体で、かつ、表面精
度が出せるものであればよい。
また、金属薄膜磁性層は、無電解メッキによる方法だけ
でなく、電気メッキ、スパッタ、真空蒸着笠で行なって
もよく、磁性層もｃｏ 、 Ｎｌ −ＣＯ。
でなく、電気メッキ、スパッタ、真空蒸着笠で行なって
もよく、磁性層もｃｏ 、 Ｎｌ −ＣＯ。
鉄に限定するものではない。
なお、鉄酸化物の層は反応スパッタリングで直接Ｆｅ３
０２層を形成してもよいし、鉄の酸化はアルカリ化性で
なく、陽極酸化で行なってもよい。
０２層を形成してもよいし、鉄の酸化はアルカリ化性で
なく、陽極酸化で行なってもよい。
く効果〉
以上、実施例とともに具体的に説明したように、本発明
によれば、金属ｌｌｌ膜性性層上に、この金属薄膜磁性
層より薄く、耐蝕性および機械的強度が高く、かつ、強
磁性体である鉄酸化物層を形成したので、第１図に示す
従来例にたいしては５１０２の保護膜が不要となり、磁
性層とヘッドの間の距離を保ｌ！膜の分だけ接近させる
ことができるので、記録密度を上げることができるとと
もに出力を大きくすることができる。
によれば、金属ｌｌｌ膜性性層上に、この金属薄膜磁性
層より薄く、耐蝕性および機械的強度が高く、かつ、強
磁性体である鉄酸化物層を形成したので、第１図に示す
従来例にたいしては５１０２の保護膜が不要となり、磁
性層とヘッドの間の距離を保ｌ！膜の分だけ接近させる
ことができるので、記録密度を上げることができるとと
もに出力を大きくすることができる。
また、第２図に示す従来例にたいしては鉄の薄膜磁性層
の表面のみをＦ６３０ａまたはγ−ＦｅｚＯ１に形成し
たので磁気特性を損うことなく機械的強度の高い磁気記
録媒体を実現することができる。
の表面のみをＦ６３０ａまたはγ−ＦｅｚＯ１に形成し
たので磁気特性を損うことなく機械的強度の高い磁気記
録媒体を実現することができる。
第１図および第２図は従来の磁気記録媒体を示す構成図
。第３図は本発明の一実施例を示す構成図、第４図は他
の実施例を示す構成図である。 １・・・基盤、２・・・下地層、３・・・金属薄膜磁性
層、４・・・保護膜、５・・・ｍ滑層、１０・・・鉄酸
化物層、１１・・・鉄の磁性層。 第１図 第３図 第２図 第４図
。第３図は本発明の一実施例を示す構成図、第４図は他
の実施例を示す構成図である。 １・・・基盤、２・・・下地層、３・・・金属薄膜磁性
層、４・・・保護膜、５・・・ｍ滑層、１０・・・鉄酸
化物層、１１・・・鉄の磁性層。 第１図 第３図 第２図 第４図
Claims (1)
- 基板上に形成された金属薄膜磁性層の上に、前記金属薄
膜磁性層より薄い鉄酸化物層を形成したこ□ とを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5796684A JPS60202539A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5796684A JPS60202539A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60202539A true JPS60202539A (ja) | 1985-10-14 |
Family
ID=13070751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5796684A Pending JPS60202539A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60202539A (ja) |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5796684A patent/JPS60202539A/ja active Pending
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