JPS60207348A - ウエハ中心の検出装置 - Google Patents
ウエハ中心の検出装置Info
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- JPS60207348A JPS60207348A JP59062210A JP6221084A JPS60207348A JP S60207348 A JPS60207348 A JP S60207348A JP 59062210 A JP59062210 A JP 59062210A JP 6221084 A JP6221084 A JP 6221084A JP S60207348 A JPS60207348 A JP S60207348A
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- wafer
- center
- pellets
- circular
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
- H10P72/53—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
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- Die Bonding (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、ウェハ中心の検出装置に関する。
[従来技術]
半導体素子等の素子群をその表面に対して2次元的に配
置、形成させた円形ウェハは、粘着シートに被着させた
状態で該素子群を素子片としての各ペレットに破折、分
離させ、これら分割されたペレットをペレットボンディ
ング装置によりリードフレームなどの基板に対しマウン
トさせるようにしている。すなわち、このペレットポン
ディング装置は、平面XY方向に移動するXYテーブル
の−L部に、分割、整列された各ペレットを支持させ、
XYテーブルの上方に位置するコレットにより該ペレッ
トを吸着し、次いで搬送ライン上に搬送される基板のマ
ウント位置にマウントさせるものである。吸着されるペ
レットは、順次コレットの真下に位置されるようにXY
テーブルをxY方向にピッチ移動させ、また分割、整列
されたペレットのうち予め半導体検査装置による検査の
結果、不良とされ、表面に不良マークの表示された不良
ペレット以外の良品ペレットを選別、吸着できるように
XYテーブルの上方位置にペレットの不良マークを検知
可能なセンサを設け、該センサの指令によりXYテーブ
ルのピッチ移動を調整するようにしている。
置、形成させた円形ウェハは、粘着シートに被着させた
状態で該素子群を素子片としての各ペレットに破折、分
離させ、これら分割されたペレットをペレットボンディ
ング装置によりリードフレームなどの基板に対しマウン
トさせるようにしている。すなわち、このペレットポン
ディング装置は、平面XY方向に移動するXYテーブル
の−L部に、分割、整列された各ペレットを支持させ、
XYテーブルの上方に位置するコレットにより該ペレッ
トを吸着し、次いで搬送ライン上に搬送される基板のマ
ウント位置にマウントさせるものである。吸着されるペ
レットは、順次コレットの真下に位置されるようにXY
テーブルをxY方向にピッチ移動させ、また分割、整列
されたペレットのうち予め半導体検査装置による検査の
結果、不良とされ、表面に不良マークの表示された不良
ペレット以外の良品ペレットを選別、吸着できるように
XYテーブルの上方位置にペレットの不良マークを検知
可能なセンサを設け、該センサの指令によりXYテーブ
ルのピッチ移動を調整するようにしている。
XYテーブルの上部に位置され、各ペレットに分割、整
列される円形ウェハは、様々な外径寸法のものがあり、
コレットに対するXYテーブルの移動は、XYテーブル
の上方位置に設けたセンサにより円形ウェハの周縁部位
置を検知させ、それぞれ外径寸法の異なる円形ウェハの
範囲内において行われるようにしている。すなわち、分
割、整列されたペレットの吸着は、整列されたペレット
について一行ずつ行うようにしており、例えば−行目の
ペレットの吸着を行い円形ウェハの周縁部に位置するペ
レットの吸着が終了したら二行目めの吸着を行うように
し、XYテーブルが円形ウェハの範囲内で効率よく移動
し、コレットが円形ウェハから外れない範囲でXYテー
ブルをXY方向に移動させるよにしている。
列される円形ウェハは、様々な外径寸法のものがあり、
コレットに対するXYテーブルの移動は、XYテーブル
の上方位置に設けたセンサにより円形ウェハの周縁部位
置を検知させ、それぞれ外径寸法の異なる円形ウェハの
範囲内において行われるようにしている。すなわち、分
割、整列されたペレットの吸着は、整列されたペレット
について一行ずつ行うようにしており、例えば−行目の
ペレットの吸着を行い円形ウェハの周縁部に位置するペ
レットの吸着が終了したら二行目めの吸着を行うように
し、XYテーブルが円形ウェハの範囲内で効率よく移動
し、コレットが円形ウェハから外れない範囲でXYテー
ブルをXY方向に移動させるよにしている。
このように従来のペレットポンディング装置による良品
ペレットの選別摘出は、XYテーブルの−F方に設けた
センサによりその都度不良マークの確認をすることによ
り行なわれ、また各ペレットに分割される円形ウェハの
外径寸法さも円形ウェハの周縁部をその都度センサによ
り検知することにより行われていたため装置の稼動効率
は不満足なものであった。
ペレットの選別摘出は、XYテーブルの−F方に設けた
センサによりその都度不良マークの確認をすることによ
り行なわれ、また各ペレットに分割される円形ウェハの
外径寸法さも円形ウェハの周縁部をその都度センサによ
り検知することにより行われていたため装置の稼動効率
は不満足なものであった。
ところで、XYテーブル上に支持される円形ウェハの外
径寸法を確認したり、また同一ウェバ内における良品ペ
レットの座標位置を確定する上で円形ウェハの中心をめ
ることが最も効率的と考えられる。すなわち円形ウェハ
の中心と円形ウェハの周縁部間の座標間距離をめること
により、半径がまり、よって円形ウェハの外径寸法が容
易に算出可能となる。また、良品ペレットあるいは不良
ペレットの位置を認定する上で円形ウェハの中心を原点
と考えることが最も容易であり、分゛ 割、整列された
各ペレットについて座標設定を行い、それら座標に基づ
き良品ペレットを選別、摘出すれば上記のようにその都
度不良マークの有無を判断して選別、摘出するよりもは
るかに効率のよいペレットポンディングを行うことが可
能となる。
径寸法を確認したり、また同一ウェバ内における良品ペ
レットの座標位置を確定する上で円形ウェハの中心をめ
ることが最も効率的と考えられる。すなわち円形ウェハ
の中心と円形ウェハの周縁部間の座標間距離をめること
により、半径がまり、よって円形ウェハの外径寸法が容
易に算出可能となる。また、良品ペレットあるいは不良
ペレットの位置を認定する上で円形ウェハの中心を原点
と考えることが最も容易であり、分゛ 割、整列された
各ペレットについて座標設定を行い、それら座標に基づ
き良品ペレットを選別、摘出すれば上記のようにその都
度不良マークの有無を判断して選別、摘出するよりもは
るかに効率のよいペレットポンディングを行うことが可
能となる。
しかしながら、粘着シートに被着され、XYテーブルに
支持されたままの状態で正確に円形ウェハの中心を検出
することは難しく、円形ウェハの外径寸法を確認したり
、良品ペレットを選別、摘出するために円形ウェハの中
心をめることは何ら行われていなかった。
支持されたままの状態で正確に円形ウェハの中心を検出
することは難しく、円形ウェハの外径寸法を確認したり
、良品ペレットを選別、摘出するために円形ウェハの中
心をめることは何ら行われていなかった。
[発明の目的]
本発明は各ペレットに分割される円形ウェハの中心の検
出作業を確実かつ容易に行うことを目的としている。
出作業を確実かつ容易に行うことを目的としている。
[発明の構成]
上記目的を達成するために本発明は、各ペレットに分割
される円形ウェハの周上に二以上の弦を設定し、各弦の
垂直二等分線の交点の座標位置を算出して円形ウェハの
中心を検出するウェハ中心の検出装置としている。
される円形ウェハの周上に二以上の弦を設定し、各弦の
垂直二等分線の交点の座標位置を算出して円形ウェハの
中心を検出するウェハ中心の検出装置としている。
[発明の詳細な説明1
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係るウェハ中心の検出装
置が適用されてなる半導体検査装置を示す一部破断の正
面図、第2図は、第1図に示されてなるウェハ中心の検
出装置によって円形ウェハの中心を検出する状態を示す
平面図、第3図は、本発明の他の実施例に係るウェハ中
心の検出装置を適用してなるペレットポンディング装置
を示す概略平面図、第4図は、第3図rV−IV線に相
当する断面図、第5図は、第3図に示されてなるウェハ
中心の検出装置により円形ウェハの中心を検出する状態
を示す平面図である。
置が適用されてなる半導体検査装置を示す一部破断の正
面図、第2図は、第1図に示されてなるウェハ中心の検
出装置によって円形ウェハの中心を検出する状態を示す
平面図、第3図は、本発明の他の実施例に係るウェハ中
心の検出装置を適用してなるペレットポンディング装置
を示す概略平面図、第4図は、第3図rV−IV線に相
当する断面図、第5図は、第3図に示されてなるウェハ
中心の検出装置により円形ウェハの中心を検出する状態
を示す平面図である。
半導体検査装置1は、架台2に対しXY方向に移動可能
なXYテーブル3を有してなり、該XYテーブル3の上
面4に円形ウェハ5の外周部を支持する支持部6を備え
た支持枠台7をボルト8により取着している。支持枠台
7の支持部6に支持される円形ウェハ5は、その表面の
xy力方向複数の素子群を配置、形成させてなり、さら
に円形ウェハ5は、表面のxy力方向ダイシングライン
9を刻設することにより、複数の素子群を各素子lOに
区画、分離させ、さらに、ダイシングライン9により各
ペレットに分割可能としている。円形ウェハ5の上方位
置には、矢示A方向に上下動し、各素子lOの表面電極
に探針11を接触させて各素子10の良、不良やその特
性検査を行う検査ヘッド12が配置、固定されている。
なXYテーブル3を有してなり、該XYテーブル3の上
面4に円形ウェハ5の外周部を支持する支持部6を備え
た支持枠台7をボルト8により取着している。支持枠台
7の支持部6に支持される円形ウェハ5は、その表面の
xy力方向複数の素子群を配置、形成させてなり、さら
に円形ウェハ5は、表面のxy力方向ダイシングライン
9を刻設することにより、複数の素子群を各素子lOに
区画、分離させ、さらに、ダイシングライン9により各
ペレットに分割可能としている。円形ウェハ5の上方位
置には、矢示A方向に上下動し、各素子lOの表面電極
に探針11を接触させて各素子10の良、不良やその特
性検査を行う検査ヘッド12が配置、固定されている。
すなわち、この検査ヘッド12は、探針11を各素子l
Oの表面電極に接触させて各素子lOに探針11より検
査電流を流し、各素子10について温度特性、動作特性
などの特性検査を行うことにより、その良、不良あるい
はA、B、C等のランク判別を行うようにしている。特
性検査は、区画、分離させた各素子10ごとに行われ、
隣接する各素子10QXYテーブル3のXY方向のピッ
チ移動で順次行うようにしている。このため円形ウェハ
5は、その表面に刻設されたダイシングライン9のxy
方向とXYテーブル3のXY方向とが相応するように支
持部6に対し支持させている。円形ウェハ5の」二方位
置には、円形ウェハ5を上方より検知し、円形ウェハ5
の中心位置を検出可能とするウェハ中心の検出装置13
の検知カメラ14を配置させている。すなわち、ウェハ
中心の検出装置13は、検知カメラ14とこれに接続さ
れる演算部15とからなり、検知カメラ14は円形ウェ
ハ5の表面−Fの任意点を検知可能とし、演算部15に
より該任意点のXYテーブル3上における座標位置の設
定を可能としている。ウェハ中心の検出装置13による
円形ウェハ5の中心位置の検出は次の順序により行われ
る。
Oの表面電極に接触させて各素子lOに探針11より検
査電流を流し、各素子10について温度特性、動作特性
などの特性検査を行うことにより、その良、不良あるい
はA、B、C等のランク判別を行うようにしている。特
性検査は、区画、分離させた各素子10ごとに行われ、
隣接する各素子10QXYテーブル3のXY方向のピッ
チ移動で順次行うようにしている。このため円形ウェハ
5は、その表面に刻設されたダイシングライン9のxy
方向とXYテーブル3のXY方向とが相応するように支
持部6に対し支持させている。円形ウェハ5の」二方位
置には、円形ウェハ5を上方より検知し、円形ウェハ5
の中心位置を検出可能とするウェハ中心の検出装置13
の検知カメラ14を配置させている。すなわち、ウェハ
中心の検出装置13は、検知カメラ14とこれに接続さ
れる演算部15とからなり、検知カメラ14は円形ウェ
ハ5の表面−Fの任意点を検知可能とし、演算部15に
より該任意点のXYテーブル3上における座標位置の設
定を可能としている。ウェハ中心の検出装置13による
円形ウェハ5の中心位置の検出は次の順序により行われ
る。
a)先ずXYテーブル3をXY方向に移動し、円形ウェ
ハ5の外周を検知カメラ14により検知して、該周上に
任意の3点P、Q、Rを座標設定するようにする。これ
により、円形ウェハ5の周上に二つの弦16.17が設
定可能となる。
ハ5の外周を検知カメラ14により検知して、該周上に
任意の3点P、Q、Rを座標設定するようにする。これ
により、円形ウェハ5の周上に二つの弦16.17が設
定可能となる。
b)二つの弦16.17における中点SおよびTの座標
位置を算出し、各弦16.17に対する垂直二等分線1
8.19を演算部15で算出する。
位置を算出し、各弦16.17に対する垂直二等分線1
8.19を演算部15で算出する。
C)垂直二等分線18.19の交点0の座標位置を算出
する。
する。
このようにして交点0、すなわち円形ウェハ5の中心が
検出可能となる。これにより、例えば周上の点Pと中心
0間の座標間距離で円形ウェハ5の半径rが算出され、
さらに半径rにより円形ウェハ5の外径寸法2rが演算
部15により算出可能となる。
検出可能となる。これにより、例えば周上の点Pと中心
0間の座標間距離で円形ウェハ5の半径rが算出され、
さらに半径rにより円形ウェハ5の外径寸法2rが演算
部15により算出可能となる。
このようにして支持部6に支持された円形ウェハ5の中
心0が検出され、さらに円形ウェハ5の外径寸法も検出
されることになる。これにより検査ヘッド12に対する
円形ウェハ5の検査移動範囲、すなわちXYテーブル3
のピッチ移動の範囲も演算部15で検出された円形ウェ
ハ5の外径寸法に基づきXYテーブル移動制御手段20
で移動制御を行えば、効率的な半導体検査が可能となる
。
心0が検出され、さらに円形ウェハ5の外径寸法も検出
されることになる。これにより検査ヘッド12に対する
円形ウェハ5の検査移動範囲、すなわちXYテーブル3
のピッチ移動の範囲も演算部15で検出された円形ウェ
ハ5の外径寸法に基づきXYテーブル移動制御手段20
で移動制御を行えば、効率的な半導体検査が可能となる
。
さらにウェハ中心の検出装置13により検出された円形
ウェハ5の中心位置0を円形ウェハ5のxy方向におけ
る座標原点とすることにより、区画、分離された各素子
lOにそれぞれ座標設定を行うことが可能となり、検査
ヘッド12による各素子lOの検査の度にメモリ部Mで
フロッピィディスク、磁気テープ等の記憶媒体に検査結
果、例えば各素子lOの良、不良やA、B、C等のラン
クを該素子の座標位置に基づき記憶させることが可能と
なる。
ウェハ5の中心位置0を円形ウェハ5のxy方向におけ
る座標原点とすることにより、区画、分離された各素子
lOにそれぞれ座標設定を行うことが可能となり、検査
ヘッド12による各素子lOの検査の度にメモリ部Mで
フロッピィディスク、磁気テープ等の記憶媒体に検査結
果、例えば各素子lOの良、不良やA、B、C等のラン
クを該素子の座標位置に基づき記憶させることが可能と
なる。
すなわち、例えば、第2図におけるU点に位置する素子
lOが不良素子であった場合に、原点0に対するU点の
座標位置を上記記憶媒体に記憶させておくようにすれば
よい、これにより円形ウェハ5の表面に形成された各素
子lOに関する検査結果を記録、保存することが可能と
なる。
lOが不良素子であった場合に、原点0に対するU点の
座標位置を上記記憶媒体に記憶させておくようにすれば
よい、これにより円形ウェハ5の表面に形成された各素
子lOに関する検査結果を記録、保存することが可能と
なる。
第3図〜第5図は、本発明の他の実施例に係り、前記実
施例に係る半導体検査装置により予め特性検査の行われ
た円形ウェハの各素子をさらに素子片としての各ペレッ
トに切断、分離し、コレットにより選別、摘出して基板
に対し接着するペレットポンディング装置を示すもので
ある。
施例に係る半導体検査装置により予め特性検査の行われ
た円形ウェハの各素子をさらに素子片としての各ペレッ
トに切断、分離し、コレットにより選別、摘出して基板
に対し接着するペレットポンディング装置を示すもので
ある。
このペレットポンディング装置は、XYテーブル21上
に円形ウェハ22を各ペレット23に分割、整列可能と
し、XYテーブル21のXY方向の移動により必要なペ
レット23をコレット25の吸着点Cに位置させ、該ペ
レット23をコレット25により吸着、摘出して位置決
め装置26の位置決め台27へ移載させ、さらに位置決
め台27上で整列させた後にXY方向に駆動可能なマウ
ントユニット28を介し搬送ラインD上に搬送される基
板29のマウント位置Eにマウントさせるものである。
に円形ウェハ22を各ペレット23に分割、整列可能と
し、XYテーブル21のXY方向の移動により必要なペ
レット23をコレット25の吸着点Cに位置させ、該ペ
レット23をコレット25により吸着、摘出して位置決
め装置26の位置決め台27へ移載させ、さらに位置決
め台27上で整列させた後にXY方向に駆動可能なマウ
ントユニット28を介し搬送ラインD上に搬送される基
板29のマウント位置Eにマウントさせるものである。
XYテーブル21は、架台30に対しXY方向をと移動
可能とされ、XYテーブル21には円形ウェハ22を被
着した粘着シート孕1を支持する支持リング32を保持
可能とする保持フレーム33がポルト34により固着さ
れている。コレット25は、支持リング32の上方に位
置し、粘着シー)31上の円形ウェハ22に対し矢示F
方向に上下動可能としている。コレット25の先端の開
り部35は、円形ウェハ22を破折、分離させた各ペレ
ット23を保持可能なものとし、開口部35の形状を各
ペレット23の形状に合わせた方形状として不図示の真
空配管によりエアを矢示G方向に吸引し、開口部35に
より各ペレット23を吸着、摘出するようにしている。
可能とされ、XYテーブル21には円形ウェハ22を被
着した粘着シート孕1を支持する支持リング32を保持
可能とする保持フレーム33がポルト34により固着さ
れている。コレット25は、支持リング32の上方に位
置し、粘着シー)31上の円形ウェハ22に対し矢示F
方向に上下動可能としている。コレット25の先端の開
り部35は、円形ウェハ22を破折、分離させた各ペレ
ット23を保持可能なものとし、開口部35の形状を各
ペレット23の形状に合わせた方形状として不図示の真
空配管によりエアを矢示G方向に吸引し、開口部35に
より各ペレット23を吸着、摘出するようにしている。
開口部35により各ペレット23吸着する際、コレット
25は下方へ移動し、これとともに粘着シー)31の裏
面よりニードル36をペレット23に対し、突き上げ可
能としている。すなわち、このニードル36は粘着シー
)31の裏面で矢示H方向に上下動可能であり、各ペレ
ット23を突き上げることにより、粘着シート31から
のペレット23の剥離を容易にし、コレット25による
ペレット23の吸着を円滑化させている。ペレット23
を吸着したコレーIト25は、位置決め台27へ矢示J
方向に移動して該位置でペレット23を吸着開放し、前
述のように基板29のマウント位置Eにマウントさせる
ようにしている。
25は下方へ移動し、これとともに粘着シー)31の裏
面よりニードル36をペレット23に対し、突き上げ可
能としている。すなわち、このニードル36は粘着シー
)31の裏面で矢示H方向に上下動可能であり、各ペレ
ット23を突き上げることにより、粘着シート31から
のペレット23の剥離を容易にし、コレット25による
ペレット23の吸着を円滑化させている。ペレット23
を吸着したコレーIト25は、位置決め台27へ矢示J
方向に移動して該位置でペレット23を吸着開放し、前
述のように基板29のマウント位置Eにマウントさせる
ようにしている。
粘着シート31に被着された各ペレット23間には、予
め粘着シー)31を加熱、引き伸ばすことにより間隔が
形成され、これにより、各ペレット23が粘着シート上
に等間隔で分割、整列され、コレット25による吸着作
業が容易に行なえるようにしている0分割、整列された
各ペレット23が被着された粘着シート31は、支持リ
ング32の側部に形成した凹溝37の部分でゴムリング
38によりチャックされ、この状態で第4図に示すよう
に支持リング32を保持フレーム33に保持するように
している。支持リング32の保持は、粘着シー)31に
被着される円形ウェハ221 のダイシングライン39のXY方向とXYテーブル21
の移動方向であるXY方向とが合致するように行われ、
これによりXYテーブル21のXY方向へのピッチ移動
を介し、順次、分割、整列させるペレット23をコレッ
ト25の吸着点Cに位置させることが可能となる。コレ
ット25に対するXYテーブル21の移動は、前記実施
例に係る半導体検査装置等により行われた特性検査の結
果に基づいて行われ、粘着シー) 31−Fに被着され
る円形ウェハ22の検査結果を記憶させたフロッピィデ
ィスク、磁気テープ等の記憶媒体なXYテーブル駆動制
御手段40にセットし、該記憶媒体に記憶された情報に
基づきXYテーブル21の移動制御を行うようにしてい
る。
め粘着シー)31を加熱、引き伸ばすことにより間隔が
形成され、これにより、各ペレット23が粘着シート上
に等間隔で分割、整列され、コレット25による吸着作
業が容易に行なえるようにしている0分割、整列された
各ペレット23が被着された粘着シート31は、支持リ
ング32の側部に形成した凹溝37の部分でゴムリング
38によりチャックされ、この状態で第4図に示すよう
に支持リング32を保持フレーム33に保持するように
している。支持リング32の保持は、粘着シー)31に
被着される円形ウェハ221 のダイシングライン39のXY方向とXYテーブル21
の移動方向であるXY方向とが合致するように行われ、
これによりXYテーブル21のXY方向へのピッチ移動
を介し、順次、分割、整列させるペレット23をコレッ
ト25の吸着点Cに位置させることが可能となる。コレ
ット25に対するXYテーブル21の移動は、前記実施
例に係る半導体検査装置等により行われた特性検査の結
果に基づいて行われ、粘着シー) 31−Fに被着され
る円形ウェハ22の検査結果を記憶させたフロッピィデ
ィスク、磁気テープ等の記憶媒体なXYテーブル駆動制
御手段40にセットし、該記憶媒体に記憶された情報に
基づきXYテーブル21の移動制御を行うようにしてい
る。
記憶媒体に記憶された各ペレット23に関する検査結果
に関する情報、例えば各素子の温度特性、動作特性の良
、不良あるいは該特性の優劣に関する情報は、円形ウェ
ハ22の中心に対するXY方向での座標設定により行わ
れているため、これらの座標位置をXYテーブル21−
Lで認定するlま ためには粘着シート31に被着された円形ウェハ22の
XYテーブル21上における中心位置および円形ウェハ
22の外径を認定する必要がある。
に関する情報、例えば各素子の温度特性、動作特性の良
、不良あるいは該特性の優劣に関する情報は、円形ウェ
ハ22の中心に対するXY方向での座標設定により行わ
れているため、これらの座標位置をXYテーブル21−
Lで認定するlま ためには粘着シート31に被着された円形ウェハ22の
XYテーブル21上における中心位置および円形ウェハ
22の外径を認定する必要がある。
このためXYテーブル21の上方位置には、円形ウェハ
22を上方より検知し、円形ウェハ22の中心位置を検
出可能とするウェハ中心の検出装置41の検知カメラ4
2を配置させている。すなわち、ウェハ中心の検出装置
41は、検知カメラ42とこれに接続される演算部43
とからなり、検知カメラ42は円形ウェハ22の表面上
の任意点を検知可能とし、演算部43により該任意点の
XYテーブル21上における座標位置の認定を可能とし
ている。ウェハ中心の検出装置41による円形ウェハ2
2の中心位置の検出は次の順序により行われる。
22を上方より検知し、円形ウェハ22の中心位置を検
出可能とするウェハ中心の検出装置41の検知カメラ4
2を配置させている。すなわち、ウェハ中心の検出装置
41は、検知カメラ42とこれに接続される演算部43
とからなり、検知カメラ42は円形ウェハ22の表面上
の任意点を検知可能とし、演算部43により該任意点の
XYテーブル21上における座標位置の認定を可能とし
ている。ウェハ中心の検出装置41による円形ウェハ2
2の中心位置の検出は次の順序により行われる。
a)先ずXYテーブル21をXY方向に移動し、円形ウ
ェハ22の外周を検知カメラ42により検知して、該同
上に任意の3点P、Q、Rを座標認定するようにする。
ェハ22の外周を検知カメラ42により検知して、該同
上に任意の3点P、Q、Rを座標認定するようにする。
これにより1円形ウェハ5の周上に二つの弦44.45
が設定可能となる。
が設定可能となる。
b)二つの弦44.45における中点SおよびTの座標
位置を算出し、各弦44.45に対する垂直二等分線4
6.47を演算部43で算出する。
位置を算出し、各弦44.45に対する垂直二等分線4
6.47を演算部43で算出する。
C)垂直二等分線46.47の交点0の座標位置を算出
する。
する。
このようにして交点0、すなわち円形ウェハ22の中心
が検出可能となる。これにより、例えば周上の点Pと中
心0間の座標間距離で円形ウェハ22の半径rが算出さ
れ、さらに半径rにより円形ウェハ22の外径寸法2r
が演算部43により算出可能となる。
が検出可能となる。これにより、例えば周上の点Pと中
心0間の座標間距離で円形ウェハ22の半径rが算出さ
れ、さらに半径rにより円形ウェハ22の外径寸法2r
が演算部43により算出可能となる。
このようにして、XYテーブル21上における円形ウェ
ハ22の中心Oの位置が検出され、さらに円形ウェハ2
2の外径寸法も検出されることとなる。これによりコレ
ット25に対するXYテーブル21のピッチ移動の範囲
もXYテーブル21上に支持される円形ウェハ22の外
径寸法に基づきXYテーブル駆動制御手段40により移
動制御することが可能となり、さらに中心Oに対するX
y力方向の座標設定により記憶されている各ペレット2
3に関する検査結果の情報に基づきXYテーブル21を
上記xYテーブル駆動制御手段40により移動制御すれ
ば必要なペレット23をコレット25により選別、摘出
することが可能となる。
ハ22の中心Oの位置が検出され、さらに円形ウェハ2
2の外径寸法も検出されることとなる。これによりコレ
ット25に対するXYテーブル21のピッチ移動の範囲
もXYテーブル21上に支持される円形ウェハ22の外
径寸法に基づきXYテーブル駆動制御手段40により移
動制御することが可能となり、さらに中心Oに対するX
y力方向の座標設定により記憶されている各ペレット2
3に関する検査結果の情報に基づきXYテーブル21を
上記xYテーブル駆動制御手段40により移動制御すれ
ば必要なペレット23をコレット25により選別、摘出
することが可能となる。
このように上記実施例によれば、XYテーブル21上に
分割、整列され、それぞれ座標位置の設定されたペレッ
ト23を、該座標位置を認定することにより、それぞれ
摘出対象のペレット23を迅速かつ確実に、さらに連続
的に選別、摘出することが可能となり、予め半導体検査
装置により検査された検査情報に基づき1例えば、良品
ペレットのみの選別、摘出を行ったり、温度特性、動作
特性がAランクに属するペレット23のみを選別、摘出
することも可能となる。これによりペレットポンディン
グ装置の稼動効率を大きく向−ヒさせることが可能とな
る。
分割、整列され、それぞれ座標位置の設定されたペレッ
ト23を、該座標位置を認定することにより、それぞれ
摘出対象のペレット23を迅速かつ確実に、さらに連続
的に選別、摘出することが可能となり、予め半導体検査
装置により検査された検査情報に基づき1例えば、良品
ペレットのみの選別、摘出を行ったり、温度特性、動作
特性がAランクに属するペレット23のみを選別、摘出
することも可能となる。これによりペレットポンディン
グ装置の稼動効率を大きく向−ヒさせることが可能とな
る。
以上のように、上記各実施例に適用されてなる5
ウェハ中心の検出装置は、簡単かつ容易にしかも迅速に
円形ウェハの中心座標を検出することを可能とし、これ
により様々な大きさの円形ウェハの外径寸法を検出した
り、分割される各ペレットを円形ウェハの中心に対して
座標設定したり、あるいは座標認定することが可能とな
る。
円形ウェハの中心座標を検出することを可能とし、これ
により様々な大きさの円形ウェハの外径寸法を検出した
り、分割される各ペレットを円形ウェハの中心に対して
座標設定したり、あるいは座標認定することが可能とな
る。
尚、上記各実施例においては、円形ウェハの周上に二つ
の弦を設定することにより円形ウェハの中心を検出する
ものとしたが、必要に応じて同上に三以上の弦を設定し
、ウェハ中心の検出作業の精度を向上させるようにして
もよい、すなわち円形ウェハの外周に欠は等が生じ、該
欠けの位置に弦を定める基準点を設定した場合、検出さ
れた中心と真の中心との間に誤差を生ずる恐れがあるも
のの、同上に三以上の弦を設定すれば上記欠けの影響を
排除してより高精度にウェハ中心を検出することが可能
となる。
の弦を設定することにより円形ウェハの中心を検出する
ものとしたが、必要に応じて同上に三以上の弦を設定し
、ウェハ中心の検出作業の精度を向上させるようにして
もよい、すなわち円形ウェハの外周に欠は等が生じ、該
欠けの位置に弦を定める基準点を設定した場合、検出さ
れた中心と真の中心との間に誤差を生ずる恐れがあるも
のの、同上に三以上の弦を設定すれば上記欠けの影響を
排除してより高精度にウェハ中心を検出することが可能
となる。
また、上記各実施例にあっては、ウェハの周上の任意位
置に二以上の弦を設定することのみにより、円形ウェハ
の中心をめることが可能であ6 る。したがって、円形ウェハの周縁の例えば半周以上の
部分に欠けを生じているような場合にも、欠けを生じて
いない半周未満の健全な周縁に二以上の弦を設定するこ
とにより、円形ウエノ\の中心をめることが可能となる
。
置に二以上の弦を設定することのみにより、円形ウェハ
の中心をめることが可能であ6 る。したがって、円形ウェハの周縁の例えば半周以上の
部分に欠けを生じているような場合にも、欠けを生じて
いない半周未満の健全な周縁に二以上の弦を設定するこ
とにより、円形ウエノ\の中心をめることが可能となる
。
[発明の効果]
以上のように本発明は、各ペレットに分割される円形ウ
ェハの周上に二以上の弦を設定し、各弦の垂直二等分線
の交点の座標位置を算出して円形ウェハの中心を検出す
るウェハ中心の検出装置としたため、各ペレットに分割
される円形ウェハの中心の検出作業を確実かつ容易に行
うことができるという効果がある。
ェハの周上に二以上の弦を設定し、各弦の垂直二等分線
の交点の座標位置を算出して円形ウェハの中心を検出す
るウェハ中心の検出装置としたため、各ペレットに分割
される円形ウェハの中心の検出作業を確実かつ容易に行
うことができるという効果がある。
第1図は、本発明の一実施例に係るウェハ中心の検出装
置が適用されてなる半導体検査装置を示す一部破断の正
面図、第2図は、第1図に示されてなるウェハ中心の検
出装置によって円形ウェハの中心を検出する状態を示す
平面図、第3図は、本発明の他の実施例に係るウェハ中
心の検出装置を適用してなるペレットポンディング装置
を示す概略平面図、第4図は、第3図IV−IV線に相
当する断面図、第5図は、第3図に示されてなるウェハ
中心の検出装置により円形ウニ、への中心を検出する状
態を示す平面図である。 5.22・・・円形ウェハ、10.23・・・ペレット
(素子)、13.41・・・ウェハ中心の検出装置。 代理人 弁理士 塩 川 修 拍 第2図 第3図 8
置が適用されてなる半導体検査装置を示す一部破断の正
面図、第2図は、第1図に示されてなるウェハ中心の検
出装置によって円形ウェハの中心を検出する状態を示す
平面図、第3図は、本発明の他の実施例に係るウェハ中
心の検出装置を適用してなるペレットポンディング装置
を示す概略平面図、第4図は、第3図IV−IV線に相
当する断面図、第5図は、第3図に示されてなるウェハ
中心の検出装置により円形ウニ、への中心を検出する状
態を示す平面図である。 5.22・・・円形ウェハ、10.23・・・ペレット
(素子)、13.41・・・ウェハ中心の検出装置。 代理人 弁理士 塩 川 修 拍 第2図 第3図 8
Claims (1)
- (1)各ペレットに分割される円形ウェハの周上に二以
上の弦を設定し、各弦の垂直二等分線の交点の座標位置
を算出して円形ウェハの中心を検出するウェハ中心の検
出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59062210A JPS60207348A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ウエハ中心の検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59062210A JPS60207348A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ウエハ中心の検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60207348A true JPS60207348A (ja) | 1985-10-18 |
Family
ID=13193545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59062210A Pending JPS60207348A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | ウエハ中心の検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60207348A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425432A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Nec Corp | Method of controlling table of semiconductor pellet mounting device |
| JPH01253247A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-10-09 | Hewlett Packard Co <Hp> | ダイの位置決め方法と装置 |
| JP2005313215A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Laser Solutions Co Ltd | レーザ加工装置におけるアライメント方法、およびアライメントプログラム |
| JP2009022994A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Laser Solutions Co Ltd | 被加工物における加工位置特定方法、加工位置特定装置、および加工装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56103428A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-18 | Shinkawa Ltd | Sensing method of wafer limit |
-
1984
- 1984-03-31 JP JP59062210A patent/JPS60207348A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56103428A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-18 | Shinkawa Ltd | Sensing method of wafer limit |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425432A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Nec Corp | Method of controlling table of semiconductor pellet mounting device |
| JPH01253247A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-10-09 | Hewlett Packard Co <Hp> | ダイの位置決め方法と装置 |
| JP2005313215A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Laser Solutions Co Ltd | レーザ加工装置におけるアライメント方法、およびアライメントプログラム |
| JP2009022994A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Laser Solutions Co Ltd | 被加工物における加工位置特定方法、加工位置特定装置、および加工装置 |
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