JPS60211071A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS60211071A JPS60211071A JP59066931A JP6693184A JPS60211071A JP S60211071 A JPS60211071 A JP S60211071A JP 59066931 A JP59066931 A JP 59066931A JP 6693184 A JP6693184 A JP 6693184A JP S60211071 A JPS60211071 A JP S60211071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- evaporation source
- pipe
- wire rod
- vapor depositing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、乾式メッキ、例えば蒸着等を行なう際、蒸発
源となる加熱用るつぼ上に、蒸発させる材料を線材とし
て連続供給するための線材供給装置を有した真空蒸着装
置に関するものである。
源となる加熱用るつぼ上に、蒸発させる材料を線材とし
て連続供給するための線材供給装置を有した真空蒸着装
置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
ポリエステルフィルムやポリイミドフィルムの表面に連
続して、アルミニウムや銅の薄膜を形成する方法として
、例えば、フィルム巻取り装置と蒸発源となる加熱るつ
ぼに、気密容器内に蒸発材料を線材状態で連続供給する
ことが可能な線材供給装置を配設した真空蒸着装置が利
用されている。
続して、アルミニウムや銅の薄膜を形成する方法として
、例えば、フィルム巻取り装置と蒸発源となる加熱るつ
ぼに、気密容器内に蒸発材料を線材状態で連続供給する
ことが可能な線材供給装置を配設した真空蒸着装置が利
用されている。
以下、図面を参照しながら、従来の真空蒸着装置につい
て説明する。
て説明する。
第１図に従来の真空蒸着装置の構成である線材供給装置
を示す。第１図において、１は中空円筒形状の線材ガイ
ド用のパイプ、２は金属あるいは化合物より成る蒸発材
料である線材、３は供給された線材２を加熱し、蒸発す
るだめの蒸発源、４．４′は線材２を挾んで、搬送する
だめの１対の駆動ローラ、５は線材２が巻かれたボビン
である。
を示す。第１図において、１は中空円筒形状の線材ガイ
ド用のパイプ、２は金属あるいは化合物より成る蒸発材
料である線材、３は供給された線材２を加熱し、蒸発す
るだめの蒸発源、４．４′は線材２を挾んで、搬送する
だめの１対の駆動ローラ、５は線材２が巻かれたボビン
である。
１対の駆動ローラ４，４′から搬送される線材２はパイ
プ１に案内されて、蒸発源３に至る。
プ１に案内されて、蒸発源３に至る。
高真空中で線材２を蒸発源３に供給し、線材２を溶融及
び蒸発させ、その蒸発原子または分子を基材に飛来させ
、基材表面に金属または、化合物の薄膜を形成させる真
空蒸着装置において、線材２を駆動ローラ４，４′によ
って、パイプ１に導き、蒸発源３に供給している。
び蒸発させ、その蒸発原子または分子を基材に飛来させ
、基材表面に金属または、化合物の薄膜を形成させる真
空蒸着装置において、線材２を駆動ローラ４，４′によ
って、パイプ１に導き、蒸発源３に供給している。
しかしながら、上記の構成では、線材２がパイプ１内を
搬送させる際、線材２はボビンに巻かれているため、す
なわち線材２が塑性履歴を受けているため、スプリング
バック等の回復現象に起因して、パイプ１の内壁に対し
、線材１はその弾性力によって抗力を与え、パイプ１の
内壁から線材２は、搬送方向と反対方向に摩擦力が生じ
、バイブ１０入口１Ｃ付近で線材２が座屈して、線材２
がパイパ１内へ搬送できなくなり、線材２を蒸発源３上
へ長時間連続して供給することが不可能となる問題があ
った。我々の試みでは、線材２供給後２０分以内に座屈
が生じた。
搬送させる際、線材２はボビンに巻かれているため、す
なわち線材２が塑性履歴を受けているため、スプリング
バック等の回復現象に起因して、パイプ１の内壁に対し
、線材１はその弾性力によって抗力を与え、パイプ１の
内壁から線材２は、搬送方向と反対方向に摩擦力が生じ
、バイブ１０入口１Ｃ付近で線材２が座屈して、線材２
がパイパ１内へ搬送できなくなり、線材２を蒸発源３上
へ長時間連続して供給することが不可能となる問題があ
った。我々の試みでは、線材２供給後２０分以内に座屈
が生じた。
このように、従来の真空蒸着装置では、蒸着材料である
線材２を一定の搬送速度で長時間連続して蒸発源３に供
給することが困難であるという欠点を有していた。７ 発明の目的 本発明は、上記欠点に鑑み、蒸着材料である線材を蒸発
源に、はぼ一定の搬送速度で長時間連続して供給するこ
とが可能な真空蒸着装置を提供するものである。
線材２を一定の搬送速度で長時間連続して蒸発源３に供
給することが困難であるという欠点を有していた。７ 発明の目的 本発明は、上記欠点に鑑み、蒸着材料である線材を蒸発
源に、はぼ一定の搬送速度で長時間連続して供給するこ
とが可能な真空蒸着装置を提供するものである。
発明の構成
本発明の真空蒸着装置は、金属あるいは、化合物よシな
るワイヤ状蒸着材料の線材と、前記線材を挾んで送り出
す一対の駆動ローラと、この駆動ローラにより送り出さ
れる線材を高真空度の圧力状態で被加工物である基材に
加熱蒸発させて蒸着するための蒸発源と、前記一対の駆
動ローラによって送り出される線材を蒸発源に案内する
ガイド用のパイプと、回転中心の位置が、線材の搬送方
向に一定の間隔をおき、かつ、線材の搬送方向に対して
相対に配置し、線材に搬送方向に対し垂直に変形力が発
生するように配設した少なくとも一対の搬送ローラを有
するレベラーとから構成されており、蒸着材料である線
材を蒸発源に、はぼ一定の供給速度で、長時間連続して
供給することが可能であるという特有の効果を有するも
のである。
るワイヤ状蒸着材料の線材と、前記線材を挾んで送り出
す一対の駆動ローラと、この駆動ローラにより送り出さ
れる線材を高真空度の圧力状態で被加工物である基材に
加熱蒸発させて蒸着するための蒸発源と、前記一対の駆
動ローラによって送り出される線材を蒸発源に案内する
ガイド用のパイプと、回転中心の位置が、線材の搬送方
向に一定の間隔をおき、かつ、線材の搬送方向に対して
相対に配置し、線材に搬送方向に対し垂直に変形力が発
生するように配設した少なくとも一対の搬送ローラを有
するレベラーとから構成されており、蒸着材料である線
材を蒸発源に、はぼ一定の供給速度で、長時間連続して
供給することが可能であるという特有の効果を有するも
のである。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第２図は、本発明の第１の実施例における真空蒸着装置
を示すものである。第２図において、１１は中空円筒形
状の線材ガイド用のパイプ、１２は材質がアルミニウム
または銅で、線径がφ１．２敲の蒸発材料であるところ
の線材、１３は供給される線材１２を抵抗加熱方式で加
熱し、蒸発するだめの蒸発源、１４および１４′は線材
１２を挾んで、搬送するための１対の駆動ローラで、少
なくとも一方の駆動ローラ１４，１４’は、線材１２と
の接触抵抗を大きくするために表面加工されている。１
５は線材１２が巻かれたボビン、１６は回転中心の位置
が線材１２の搬送方向に対して垂直に、変形力が発生す
るように配設した搬送ローラを有したレベラーであり、
断面がＶ溝の形状である。
を示すものである。第２図において、１１は中空円筒形
状の線材ガイド用のパイプ、１２は材質がアルミニウム
または銅で、線径がφ１．２敲の蒸発材料であるところ
の線材、１３は供給される線材１２を抵抗加熱方式で加
熱し、蒸発するだめの蒸発源、１４および１４′は線材
１２を挾んで、搬送するための１対の駆動ローラで、少
なくとも一方の駆動ローラ１４，１４’は、線材１２と
の接触抵抗を大きくするために表面加工されている。１
５は線材１２が巻かれたボビン、１６は回転中心の位置
が線材１２の搬送方向に対して垂直に、変形力が発生す
るように配設した搬送ローラを有したレベラーであり、
断面がＶ溝の形状である。
以上のように構成された真空蒸着装置について以下その
動作を説明する。
動作を説明する。
駆動ローラ１４，１４’に適当な負荷を与えることによ
って、線材１２の表面に接触抗力を生じさせ、駆動ロー
ラ１４，１４’を回転させることにより、線材１２表面
と駆動ローラ１４．ｉ４’の表面部との間で生じる摩擦
力で線材１２が蒸発源１３方向に供給される。また、ボ
ビン１５に巻かれた線材１２は、冷間塑性加工等の塑性
履歴を受けてイルカ、レベラー１６の搬送ローラによっ
て、線材１２の搬送方向と垂直に応力が加えられ、スプ
リングバンク等が生じないように、伸線および加工硬化
された後、駆動ローラ１４，１４’に供給される。従が
って、ボビン１５に巻かれた線材１２を蒸発源１３に搬
送供給する際、スプリングバック等の回復現象に起因す
るパイプ１１内壁と線材１２間の抗力を抑制することが
可能であり、線材１２とパイプ１１の内壁との摩擦力が
大巾に低減できるため、パイプ１１の入口１１Ｃ付近で
線材１２が座屈することがなくなり、線材１２を蒸発源
１３上へ長時間連続して供給することができた。
って、線材１２の表面に接触抗力を生じさせ、駆動ロー
ラ１４，１４’を回転させることにより、線材１２表面
と駆動ローラ１４．ｉ４’の表面部との間で生じる摩擦
力で線材１２が蒸発源１３方向に供給される。また、ボ
ビン１５に巻かれた線材１２は、冷間塑性加工等の塑性
履歴を受けてイルカ、レベラー１６の搬送ローラによっ
て、線材１２の搬送方向と垂直に応力が加えられ、スプ
リングバンク等が生じないように、伸線および加工硬化
された後、駆動ローラ１４，１４’に供給される。従が
って、ボビン１５に巻かれた線材１２を蒸発源１３に搬
送供給する際、スプリングバック等の回復現象に起因す
るパイプ１１内壁と線材１２間の抗力を抑制することが
可能であり、線材１２とパイプ１１の内壁との摩擦力が
大巾に低減できるため、パイプ１１の入口１１Ｃ付近で
線材１２が座屈することがなくなり、線材１２を蒸発源
１３上へ長時間連続して供給することができた。
すなわち、線材１２供給後２８０分連続供給しても、１
１Ｃ付近で座屈が生じなかった。
１Ｃ付近で座屈が生じなかった。
以上のように、回転中心の位置が線材１２の搬送方向に
一定の間隔をおき、線材１２の搬送方向に対して、相対
に配置し、線材１２の搬送方向に対して、垂直方向に線
材１２に変形応力を負荷可能な搬送ローラを有したレベ
ラー１６を設けることにより、線材１２の材質や塑性履
歴に依存せず、はぼ一定の搬送速度で線材１２を蒸発源
１３に長時間安定して供給することができる。
一定の間隔をおき、線材１２の搬送方向に対して、相対
に配置し、線材１２の搬送方向に対して、垂直方向に線
材１２に変形応力を負荷可能な搬送ローラを有したレベ
ラー１６を設けることにより、線材１２の材質や塑性履
歴に依存せず、はぼ一定の搬送速度で線材１２を蒸発源
１３に長時間安定して供給することができる。
発明の効果
以上のように、本発明の真空蒸着装置は、金属あるいは
、化合物よりなるワイヤ状蒸着材料の線材と、前記線材
を挾んで送り出す一対の駆動ローラと、この駆動ローラ
により送り出される線材を高真空度の圧力状態で被加工
物である基材に加熱蒸発させて蒸着するための蒸発源と
、前記一対の駆動ローラによって送り出される線材を蒸
発源に案内するガイド用のパイプと、回転中心の位置が
線材の搬送方向に一定の間隔をおき、かつ、線材の搬送
方向に対して相対に配置し、線材に搬送方向に対し垂直
に、変形応力が発生するように配設した少なくとも一対
の搬送ローラを有するレベラーを設けることによって、
蒸発材料である線材の材質や塑性履歴に依存せず、はぼ
一定の搬送速度で線材を蒸発源に長時間連続して安定に
供給することが可能であり、その実用的効果は大なるも
のがある。
、化合物よりなるワイヤ状蒸着材料の線材と、前記線材
を挾んで送り出す一対の駆動ローラと、この駆動ローラ
により送り出される線材を高真空度の圧力状態で被加工
物である基材に加熱蒸発させて蒸着するための蒸発源と
、前記一対の駆動ローラによって送り出される線材を蒸
発源に案内するガイド用のパイプと、回転中心の位置が
線材の搬送方向に一定の間隔をおき、かつ、線材の搬送
方向に対して相対に配置し、線材に搬送方向に対し垂直
に、変形応力が発生するように配設した少なくとも一対
の搬送ローラを有するレベラーを設けることによって、
蒸発材料である線材の材質や塑性履歴に依存せず、はぼ
一定の搬送速度で線材を蒸発源に長時間連続して安定に
供給することが可能であり、その実用的効果は大なるも
のがある。
なお、本実施例では、レベラー１６の搬送ローラによっ
て、一方向だけに変形応力が発生するようにしたが、二
方向、さらに三方向と規制方向を多くして変形応力が発
生するようにしても良い。
て、一方向だけに変形応力が発生するようにしたが、二
方向、さらに三方向と規制方向を多くして変形応力が発
生するようにしても良い。
第１図は従来の真空蒸着装置の概略図、第２図は本発明
の一実施例の真空蒸着装置の概略図である。 １１・・・・・・パイプ、１２・・・・・・線材、１３
・・・・・・蒸発源、１４・・・・・・駆動ローラ、１
６・・・・・・レベラー。 第１図 第 ２ 図
の一実施例の真空蒸着装置の概略図である。 １１・・・・・・パイプ、１２・・・・・・線材、１３
・・・・・・蒸発源、１４・・・・・・駆動ローラ、１
６・・・・・・レベラー。 第１図 第 ２ 図
Claims (1)
- 金属あるいは、化合物よ構成るワイヤ状蒸着材料の線材
と、前記線材を挾んで送シ出す一対の駆動ローラと、こ
の駆動ローラにより送シ出される線材を高真空度の圧力
状態で被加工物である基材に加熱蒸発させて蒸着するた
めの蒸発源と、前記一対の駆動ローラによって送シ出さ
れる線材を蒸発源に案内するガイド用のパイプと、回転
中心の位置が、線材の搬送方向に一定の間隔をおき、か
つ、線材の搬送方向に対して相対に配置し、線材に、搬
送方向に対し垂直に、変形力が発生するように配設した
少なくとも一対の搬送ローラを有するレベラーとからな
る真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59066931A JPS60211071A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59066931A JPS60211071A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211071A true JPS60211071A (ja) | 1985-10-23 |
Family
ID=13330227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59066931A Pending JPS60211071A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211071A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2270253A1 (en) * | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Applied Materials, Inc. | Bending fixture for homogenous and smooth operation of an evaporation source |
| EP2471733A3 (en) * | 2010-12-30 | 2013-01-16 | United Technologies Corporation | Wire feed pressure lock system |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP59066931A patent/JPS60211071A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2270253A1 (en) * | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Applied Materials, Inc. | Bending fixture for homogenous and smooth operation of an evaporation source |
| EP2471733A3 (en) * | 2010-12-30 | 2013-01-16 | United Technologies Corporation | Wire feed pressure lock system |
| US8920566B2 (en) | 2010-12-30 | 2014-12-30 | United Technologies Corporation | Wire feed pressure lock system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000038667A (ja) | 可撓性フィラメント状基材上の３次元微細構造体の形成方法と装置 | |
| CA2164971A1 (en) | Spiral magnetic linear translating mechanism | |
| CN100355936C (zh) | 表面处理方法以及表面处理设备 | |
| KR102451103B1 (ko) | 에지 접촉 기재 이송 방법 및 장치 | |
| US3185130A (en) | Multiple roller coating apparatus | |
| US4412507A (en) | Magnetic recording medium manufacturing device | |
| US4446816A (en) | Apparatus for manufacturing a magnetic recording medium | |
| KR970705814A (ko) | 자기 기록 매체의 제조에 사용되는 자화성 층의 차속도 그라비야 코팅 장치(differential-speed gravure coating of magnetizable layers in the manufacture of magnetic recording media) | |
| EP0322859A2 (en) | Method and apparatus for solder coating of leads | |
| KR880000157A (ko) | 금속 스트립 코일의 언코일러로의 이송, 및 언코일링 방법 및 시스템 | |
| EP2270253B1 (en) | Bending fixture for homogenous and smooth operation of an evaporation source | |
| US2837331A (en) | Apparatus for guiding strip into pin-hole detector | |
| JPH0420451A (ja) | 帯状材料の加工システム | |
| JPH0416546B2 (ja) | ||
| JPH0225567A (ja) | 長尺基板均一加熱装置 | |
| CN110546093A (zh) | 被动的边缘引导方法和装置 | |
| JP3580505B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH06280017A (ja) | 長尺ワーク成膜装置 | |
| JPS57101666A (en) | Apparatus for preparing vapor deposition film | |
| US20050028574A1 (en) | Flat metal, production device and production method | |
| JPS63255362A (ja) | 金属薄膜の製造装置 | |
| KR840008639A (ko) | 파이프외면에 열수축성 테이프를 감는 방법 및 장치 | |
| JPS63145775A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS6149724A (ja) | 帯状材の移送方向変更装置 | |
| JPS56142869A (en) | Vacuum vapor deposition method |