JPS6021148B2 - 光学的活性な新規ピリジニウム塩およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 （式中、×はハロゲン原子を意味し、Ｒ１，Ｒ２および
Ｒ３は相互に同一か異って低級アルキル基を、Ｒ４はア
ルキル基またはシクロヘキシル基を意味する。

また＊は不整炭素原子を表わす。以下同様。）で示され
る光学的に活性な新規ピリジニウム塩およびその製造方
法に関するものである。

本発明の新規ピリジニゥム塩（１）は後述するように光
学活性な化合物を得る為の試薬として有用である。本発
明の製造方法によれば新規ピリジニウム塩（１）は次式
で示される反応経路によって製造される。およびノ又は すなわち一般式 で示され る化合物を水酸化アンモニウムで処理して脱アシル化し
、一般式・よび／ 又は で・ 示されるケトビニル化合物となし（第１工程）、次いで
化合物（ｍ）および／又は（ｍ′）に一般式（Ｗ）で示
される光学的活性アミン を反応させ一般式 で示され る新規なェナミン化合物となし（第２工程）、ついでこ
のものを水素化ナトリウムで処理することにより閉環さ
せ一般式で示さ れる新規なピリドン化合物となし（第３工程）、ざらに
（Ｗ）をオキシ塩化リン及びホウフッ化物で処理するこ
と（第４工程）により合成される。

本発明は目的化合物が新規であるばかりでなく、第２お
よび第３工程で得られる各中間化合物並びにそれ等を製
造する反応も新しいものである。以下本発明化合物（１
）の製造方法を工程順に説明する。

第１工程はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１２，６３−７５
（１９６１）に記載の方法に準じて実施できる。この工
程に於いて使用される前記一般式（０）で示される化合
物としてはＲＩおよびＲ２がメチル基、エチル基、プロ
ピル基およびブチル基である場合が挙げられる。第２工
程は化合物（ｍ）および／又は（ｍ′）に光学活性なア
ミン（Ｗ）を加え不活性溶媒の存在下に加熱還流させ、
その後共沸脱水することにより高収率で実施できる。光
学活性のアミンとしては例えば好ましくはｄ−または１
−Ｑ−シクロヘキシルェチルアミンが用いられる。この
工程の生成物は特に単離することなく、単に反応溶媒を
留去しただけで第３工程の出発物質とするのが操作上好
都合である。次に第３工程は化合物（Ｖ）に水素化ナト
リウムを加えベンゼン、トルェン、キシレン等の不活性
溶媒の存在下に加熱環流することによって行なわれる。

生成物の単離は反応後過剰の水素化ナトリウムを分解し
た後抽出操作により容易になされる。第４工程は化合物
（Ｗ）をまずオキシ塩化リンと共に加熱してクロル化し
、ついで反応液を濃縮した後無水溶媒に溶解しホウフッ
化物、例えばホウフツ化銀あるいはホウフツ化ナトリウ
ムを加えピリジニゥム塩を生成させることにより行なわ
れる。

生成した塩を単機するにはメチレンクロリド等の可溶溶
媒に溶解したピリジニウム塩の溶液を氷水で洗って残存
するリン酸等を除き、乾燥後濃縮し、エーテル等の不溶
溶媒を加えてピリジニウム塩の結晶を析出させることに
よって行なわれる。本発明の化合物は脂溶性が増大して
いる為に水のみならず各種有機溶媒に可溶であり、また
光学的活性を保持したまま反応に関与するため、これ等
の性質を利用してラセミ体を分割すること、および生理
活性物質例えば生理活性なアミノ酸の不斉合成を行なう
ことができる。

以下実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。

参考例 −２ーヱチルー５ーオキソー３ーヘキセン酸エチルおよ
び２−エチル−５−オキソ−２−へキセン酸エチル一Ｑ
ーエチルーＱ−（３−オキソ−１ーブテニル）アセト酢
酸エチル４．５１２のこ塩化アンモニウム２．５６夕と
アンモニア水（濃度２８％）２．７２の‘を水１２の‘
に溶解した水溶液を内温４８一５０ご０に保ち、損梓下
５分間にわたり滴下する。

滴下後、同温度で１５分間櫨梓を続けた後反応液を氷で
冷却し、次いでエーテルで抽出する。このェ−テル層を
水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後減圧蒸留し
て２−エチル一５−オキソ−３−へキセン酸エチルおよ
び２−エチル−５−オキソ−２ーヘキセン酸エチルの混
合物を得る。ｂｐ：８４一８７０（１側日夕）；収量：
２．６夕（収率７０．８％）実施例 １ −ｄ−Ｎ一（Ｑ一シクロヘキシルエチル）−３ーエチル
ー６ーメチルー２−ピリドン−参考例で得た２−エチル
−５ーオキソー３−へキセン酸エチルと２ーェチル−５
ーオキソー２ーヘキセン酸エチルの混合物９．４夕とｄ
−Ｑーシクロヘキシルェチルアミン（〔Ｑ〕容＝十３．
５６ｏ）６．４８夕とをトルェン５０の【に溶解し、２
０分間加熱還流した後共鍵脱水し、さらにトルェンを蟹
去する。

油状物の残経を得るが、これは２エチル−５−（Ｑーシ
クロヘキシルエチルアミノ）一２．４−へキサジェン酸
エチルである。核磁気共鳴スペクトル〔ＣＤＣ１３，６
０ＭＨ２〕胸２．０２（３日，ｓ，ＣＨ３５．０８（Ｉ
Ｈ，ｄ，ＣＨ３ ７．５０（ＩＨ，ｄ， 残澄を無水トルェン７０の‘に溶解し、水で冷却しつつ
油性水素化ナトリウム（含量５５％）２．２４夕を少量
ずつ加える。

次いで１３５−１４０午０の油浴中で２時間還流を続け
た後反応液を少量ずつ氷水中に加え過剰の水素化ナトリ
ウムを分解し、濃塩酸でｐＨ１〜２となし、エーテルで
抽出する。エーテル層を重曹水および水で洗い、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥した後減圧蒸留して目的物を得る
。ｂｐ：１３１−１３４ｏｏ（０．９側日夕）：収量：
９．１夕（収率７２．１％）〔Ｑ〕答＝十１０６０（Ｃ
＝３．８６：ＣＨ２ＣＩ２）元素分析値（Ｃ，ＢＨ２５
ＮＯとして）Ｃ（％） 日（％） Ｎ（％） 理論値 ７７．６８ １０．１９ ５．６６実験
値 ７７．３９ １０．４７ ５．３９実施例
２−１−Ｎ−（Ｑ一シクロヘキシルエチル）−３−エチ
ル一６ーメチルー２ーピリドンー１−Ｑーシクロヘキシ
ルェチルアミンから実施例１と同様にして１−Ｎ一（Ｑ
−シクロヘキシルエチル）一３−エチル一６ーメチルー
２ーピリドンを得る。

〔Ｑ〕答＝一９で（Ｃ＝０．６３；ＣＨ２ＣＩ２）実施
例 ３−ｄ一Ｎ一（Ｑ一シクロヘキシルエチル）一２ー
クロル−３ーエチルー６−メチルピリジニウムボロンテ
トラフルオライド−ｄ一Ｎ一（Ｑ−シクロヘキシルエチ
ル）−３−エチル−６−メチル−２ーピリドン１．０３
６夕をオキシ塩化リン３泌に溶解し、８０ｏｏで８時間
加熱擬梓する。

反応液を濃縮後無水アセトン４Ｍに溶解‐し、この溶液
をホウフッ化銀１．７夕を無水アセトン４の【に溶かし
た溶液に滴下する。滴下後２時間縄梓を続ける。析出す
る沈澱を炉去し、炉液を濃縮して得た油状物を無水エー
テルでデカンテーションして洗いエーテルを留去する。
残澄を無水塩化メチレン２０私に溶解し、氷水５の【で
すばやく洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。塩化
メチレン溶液を濃縮し、無水エーテルを加えると結晶が
析出する。これを炉取し、少量の無水塩化メチレンに溶
解し、無水エーテルを少量ずつ加えることにより再結晶
し、純粋な目的物を得る。ｍｐ：１３１℃；収量：０．
７８７夕（収率５３．１％）〔Ｑ〕容＝十３６．〆（Ｃ
＝７．１４：Ｃ比ＣＩ２）元素分析値（Ｃ，６日２５Ｎ
ＣＩＢＦ４として）Ｃ（％） 日（％） Ｎ（％）理論
値 ５４．３４ ７．１３ ３．９６実験値
５４．１５ ７．１６ ４．２５実施例 ４ーーー
Ｎ一（Ｑ一シクロヘキシルエチル）−２ークロルー３ー
エチルー６−メチルピリジニウムボロンテトラフルオラ
イド−１−Ｎ一（Ｑ−シクロヘキシルエチル）一３ーェ
チルー６ーメチルー２ーピリドンから実施例３と同様に
して１一Ｎ−（０−シクロヘキシルェチル）一２ークロ
ルー３ーエチルー６−メチルピリジニウムボロンテトラ
フルオライドを得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはクロル原子を意味し、Ｒ＾１，Ｒ＾２お
   よびＲ＾３は相互に同一か異なつて低級アルキル基を、
   Ｒ＾４はアルキル基またはシクロヘキシル基を意味する
   。 また＊は不整炭素原子を表わす。）で示される光学的活
   性なピリジニウム塩。２ ｄまたはｌ−Ｎ−（α−シク
   ロヘキシルエチル）−２−クロル−３−エチル−６−メ
   チルピリジニウムボロンテトラフルオライドである特許
   請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１，Ｒ＾２およびＲ＾３は相互に同一か異
   なつて低級アルキル基を、Ｒ＾４はアルキル基またはシ
   クロヘキシル基を意味する。 また＊は不整炭素原子を表わす。）で示されるピリドン
   化合物にオキシ塩化リンおよびホウフツ化物を反応させ
   ることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があり
   ます▼ （式中、Ｘはクロル原子を意味し、Ｒ＾１〜Ｒ
   ＾４および＊は前記の意味を有する。 ）で示される光学的活性なピリジニウム塩の製造方法。 ４ ピリドン化合物としてｄまたはｌ−Ｎ−（α−シク
   ロヘキシルエチル）−３−エチル−６−メチル−２−ピ
   リドンを使用する特許請求の範囲第３項記載の製造方法
   。 ５ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１，Ｒ＾２およびＲ＾３は相互に同一か
   異なつて低級アルキル基を、Ｒ＾４はアルキル基または
   シクロヘキシル基を意味する。 また＊は不整炭素原子を表わす。）で示されるエナミン
   化合物を水素化ナトリウムと反応させ一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１〜Ｒ＾４および＊は前記の意味を表わ
   す。 ）で示されるピリドン化合物となし、ついでこの化合物
   にオキシ塩化リンおよびホウフツ化物を反応させること
   を特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはクロル原子を意味し、Ｒ＾１〜Ｒ＾４お
   よび＊は前記の意味を表わす。 ）で示される光学的活性なピリジニウム塩の製造方法。 ６ エナミン化合物としてｄ−またはｌ−２−エチル−
   ５−（α−シクロヘキシルエチルアミノ）−２，４−ヘ
   キサジエン酸エチルを使用する特許請求の範囲第５項記
   載の製造方法。 ７ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は相互に同一か異なつて
   、低級アルキル基を表わす。 ）で示されるケトビニル化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾３は低級アルキル基を、Ｒ＾４はアルキ
   ル基またはシクロヘキシル基を意味する。 また＊は不整炭素原子を表わす。）で示される光学活性
   アミンを反応させて一般式▲数式、化学式、表等があり
   ます▼ （式中、Ｒ＾１〜Ｒ＾４および＊は前記の意味
   を有する。 ）で示されるエナミン化合物となし、ついでこれに水素
   化ナトリウムを反応させ一般式▲数式、化学式、表等が
   あります▼ （式中、Ｒ＾１〜Ｒ＾４および＊は前記の意味を有す
   る。 ）で示されるピリドン化合物を得、これをオキシ塩化リ
   ンおよびホウフツ化物を反応させることを特徴とする一
   般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはクロル原子を意味し、Ｒ＾１〜Ｒ＾４お
   よび＊は前記の意味を有する。 ）で示される光学的活性なピリジニウム塩の製造方法。 ８ ケトビニル化合物として２−エチル−５−オキソ−
   ３−ヘキセン酸エチルおよび／又は２−エチル−５−オ
   キソ−２−ヘキセン酸エチル、光学活性アミンとしてｄ
   −またはｌ−α−シクロヘキシルエチルアミンを使用す
   る特許請求の範囲第７項記載の製造方法。