JPS60212232A - クロルシランの不均化触媒 - Google Patents
クロルシランの不均化触媒Info
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- JPS60212232A JPS60212232A JP6748984A JP6748984A JPS60212232A JP S60212232 A JPS60212232 A JP S60212232A JP 6748984 A JP6748984 A JP 6748984A JP 6748984 A JP6748984 A JP 6748984A JP S60212232 A JPS60212232 A JP S60212232A
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、クロルシランの不均化触媒、さらに詳しくは
、トリクロルシラン(5tacr3)、ジクロルシラン
(5iH2Cj!2)などのクロルシランヲ不均化する
混成第6級アミンとその塩酸塩を主成分とする触媒に関
する。
、トリクロルシラン(5tacr3)、ジクロルシラン
(5iH2Cj!2)などのクロルシランヲ不均化する
混成第6級アミンとその塩酸塩を主成分とする触媒に関
する。
(従来技術と問題点)
最近半導体工業においては8iH2CJ2やSiH,等
のシラン(水素化珪素化合物)を高純度のシリコンエピ
タキシィ−1さらには太陽電池のアモルファスシリコン
原料などいろいろの用途に多量に使用されるので重要な
物質である。
のシラン(水素化珪素化合物)を高純度のシリコンエピ
タキシィ−1さらには太陽電池のアモルファスシリコン
原料などいろいろの用途に多量に使用されるので重要な
物質である。
シランは、下記平衡反応に従って触媒の存在下に5iH
C13の不均化反応により得られることは公知である。
C13の不均化反応により得られることは公知である。
fil 2SiHC7!345iH2C12+ 5iC
J4121 2SiH2(J245IHCj!3 +5
iH3(Jt31 2SiH3(J 、:! SiH4
+ 5iH2CA’2全体で(4148iHC13ぎ8
1H4+ 3SiC14また、クロルシランの不均化触
媒についてはいろいろ提案されている。
J4121 2SiH2(J245IHCj!3 +5
iH3(Jt31 2SiH3(J 、:! SiH4
+ 5iH2CA’2全体で(4148iHC13ぎ8
1H4+ 3SiC14また、クロルシランの不均化触
媒についてはいろいろ提案されている。
例えば11に) IJル類を用いる方法(米国特許第2
.732.2 s 2号)は反応温度を150℃以上で
操作しなければならず、(2)脂肪族シアナミドを用い
る方法(米国特許第2,732,280号)はルイス酸
による前処理が必要であり、(3)ジメチルフォルムア
ミドやジメチルブチルアミドを用いる方法(米国特許第
3,222,511号)は触媒が劣化しやす<、(41
炭素原子数1〜2のアルキル基からなる炭化水素を含む
第3級アミンなどを用いる方法(米国特許第2,834
.648号)は(1)のニトリル類を触媒とする方法と
同様に温度が150℃以上で操作をする必要がある他、
またその装置は耐圧容器を用いなければならず、しかも
その平衡転換率(計算値)は温度150℃の場合は18
%であるにも拘らず、実際には10%程度と低く、所望
の生産量を得るには大型の装置を使用しなければならな
いなどの欠点があった。このような欠点を解決するため
本発明者は前記(4)の方法の触媒である第6級アミン
についているいろ研究ケ行った。
.732.2 s 2号)は反応温度を150℃以上で
操作しなければならず、(2)脂肪族シアナミドを用い
る方法(米国特許第2,732,280号)はルイス酸
による前処理が必要であり、(3)ジメチルフォルムア
ミドやジメチルブチルアミドを用いる方法(米国特許第
3,222,511号)は触媒が劣化しやす<、(41
炭素原子数1〜2のアルキル基からなる炭化水素を含む
第3級アミンなどを用いる方法(米国特許第2,834
.648号)は(1)のニトリル類を触媒とする方法と
同様に温度が150℃以上で操作をする必要がある他、
またその装置は耐圧容器を用いなければならず、しかも
その平衡転換率(計算値)は温度150℃の場合は18
%であるにも拘らず、実際には10%程度と低く、所望
の生産量を得るには大型の装置を使用しなければならな
いなどの欠点があった。このような欠点を解決するため
本発明者は前記(4)の方法の触媒である第6級アミン
についているいろ研究ケ行った。
例えばトリメチルアミンは8iHCノ3と1=1の付加
化合物をつくることが知られている この付加化合物(
N(CH,)3H” 81CJ、7 )は白色の固形物
であるが、これは5iHCJ3には溶解せず白濁してし
まうので、これを触媒とする場合、攪拌など十分行って
均一に分散させても装置内の各部で凝集を起し運転操作
上いろいろトラブルを引き起すなどの欠点があることが
分った。
化合物をつくることが知られている この付加化合物(
N(CH,)3H” 81CJ、7 )は白色の固形物
であるが、これは5iHCJ3には溶解せず白濁してし
まうので、これを触媒とする場合、攪拌など十分行って
均一に分散させても装置内の各部で凝集を起し運転操作
上いろいろトラブルを引き起すなどの欠点があることが
分った。
また、従来からクロルシランの不均化触媒として知られ
ていない混成第6級アミンを触媒として用いたところ、
低温でしかも短時間で転換率の高いすぐれた触媒である
ことを知見しさきに特願昭58−155554号として
提案したが、さらにこれとその塩酸塩とを併用すること
により、さらに転換速度が向上することを知見により、
本発明に到達したものである。
ていない混成第6級アミンを触媒として用いたところ、
低温でしかも短時間で転換率の高いすぐれた触媒である
ことを知見しさきに特願昭58−155554号として
提案したが、さらにこれとその塩酸塩とを併用すること
により、さらに転換速度が向上することを知見により、
本発明に到達したものである。
(発明の目的)
本発明はクロルシランの不均化触媒として特定の混成第
3級アミンとその塩酸塩とを用いることにより低温にお
いて短時間で不均化反応させることができ、しかもその
転換率が高いクロルシランの不均化触媒を提供すること
を目的とするものである。
3級アミンとその塩酸塩とを用いることにより低温にお
いて短時間で不均化反応させることができ、しかもその
転換率が高いクロルシランの不均化触媒を提供すること
を目的とするものである。
(発明の構成)
本発明は下記一般式111式と(2)式で示される混成
第3級アミンとその塩酸塩とを主成分とするクロルシラ
ン不均化触媒である。
第3級アミンとその塩酸塩とを主成分とするクロルシラ
ン不均化触媒である。
一般式
111式 (2)式
(但し、Ro、R2、R3は炭素原子数4〜12の炭化
水素基であり、しかもR工、R2、R3の丁べてが同種
のものでない飽和炭化水素基を表わ−j、)以下さらに
本発明の詳細な説明する。
水素基であり、しかもR工、R2、R3の丁べてが同種
のものでない飽和炭化水素基を表わ−j、)以下さらに
本発明の詳細な説明する。
本発明は特定の混成第3級アミンとその塩酸塩とを主成
分とするクロルシランの不均化触媒である。
分とするクロルシランの不均化触媒である。
本発明において、クロルシランとは5iH(J3.81
H2CJ2および8iH3CAIから選ばれた1種以上
のものをいう。
H2CJ2および8iH3CAIから選ばれた1種以上
のものをいう。
本発明の不均化触媒は下記の一般式(11式と(21式
で示される混成第3級アミンとその塩酸塩を主成分とす
るものである。
で示される混成第3級アミンとその塩酸塩を主成分とす
るものである。
一般式
il1式 (21式
(但し、R工、R2、R3は炭素原子数4〜12の炭イ
し水素基であり、しかもRよ、R2、R3のすべてが同
種のものでない飽和炭化水素基を表わ工)本発明のクロ
ルシランの不均化触媒を特定の混成第3級アミンとその
塩酸塩とを併用するのは、(1) 特定の混成第3級ア
ミンとその塩酸塩はクロルシランに完全に溶解すること
から反応系内においてクロルシランが溶媒となり蒸気圧
が低下し、約150℃以下の低温においても不均化反応
速度が速く、シかもその転換率が高いからである。
し水素基であり、しかもRよ、R2、R3のすべてが同
種のものでない飽和炭化水素基を表わ工)本発明のクロ
ルシランの不均化触媒を特定の混成第3級アミンとその
塩酸塩とを併用するのは、(1) 特定の混成第3級ア
ミンとその塩酸塩はクロルシランに完全に溶解すること
から反応系内においてクロルシランが溶媒となり蒸気圧
が低下し、約150℃以下の低温においても不均化反応
速度が速く、シかもその転換率が高いからである。
(2) 混成第6級アミンはクロルシランと白色の固形
物の付加化合物を形成するが、これもクロルシランに完
全に溶解するので反応器内に付着したりし〜ないので操
作が簡単であり、バッチ式又は連続式のいずれの方法に
よっても不均化反応させることができる。
物の付加化合物を形成するが、これもクロルシランに完
全に溶解するので反応器内に付着したりし〜ないので操
作が簡単であり、バッチ式又は連続式のいずれの方法に
よっても不均化反応させることができる。
(3)混成第6級アミンとその塩酸塩を併用すると著し
くクロルシランの不均化速度を向上させる。
くクロルシランの不均化速度を向上させる。
などの理由からである。
本発明に係る混成第6級アミンの具体例としては、オク
チルシブチルアミン、ブチルジオクチルアミン、ジブチ
ルオクチルアミン、ブチルシトデシルアミン、ヘキシル
ジオクチルアミン、プチルゾヘキシルアミン、オクチル
シブチルアミン、ターシャリープチルジオクチルアミン
、ブチルジインペンチルアミンなどがあげられる。
チルシブチルアミン、ブチルジオクチルアミン、ジブチ
ルオクチルアミン、ブチルシトデシルアミン、ヘキシル
ジオクチルアミン、プチルゾヘキシルアミン、オクチル
シブチルアミン、ターシャリープチルジオクチルアミン
、ブチルジインペンチルアミンなどがあげられる。
これらはいずれも沸点が150℃以上のものであり、そ
の塩酸塩も同様であるので、その反応生成物と分離が容
易であるという利点がある。
の塩酸塩も同様であるので、その反応生成物と分離が容
易であるという利点がある。
本発明の不均化触媒のクロルシランに対する添加量は2
〜50モルチ好ましくは5〜40モルチである。
〜50モルチ好ましくは5〜40モルチである。
混成第6級アミンの塩酸塩の混成第6級アミンに対する
割合は2〜80 mol t4好ましく10〜30 n
o7 %である。80 moj%をこえると触媒がゼリ
ー状となり操作性が悪くなると同時に、HClが離脱し
やすくなり、5iHCj3 + HCI→5icl、
+ H2のような不均化の逆反応のようなことが起り好
ましくない。
割合は2〜80 mol t4好ましく10〜30 n
o7 %である。80 moj%をこえると触媒がゼリ
ー状となり操作性が悪くなると同時に、HClが離脱し
やすくなり、5iHCj3 + HCI→5icl、
+ H2のような不均化の逆反応のようなことが起り好
ましくない。
又2 mo1%未満では塩酸塩の効果が認められない。
不均化反応は常温から150℃好ましくは50〜100
℃で行われるが、触媒の沸点以下で不均化反応させるこ
とが好ましい。不均化法についてさらに説明すると、本
発明の触媒を用いてクロルシランを不均化反応させ5i
H2CJ2やHiH4を製造するには公知の方法、例え
ばクロルシランと触媒とを混合し、不均化反応を行い生
成した5iH2(J2.3iH4を凝縮分離、及び蒸留
、分離する一連の操作をするか、またはこれらの操作を
同時に行われるようにすればよい。
℃で行われるが、触媒の沸点以下で不均化反応させるこ
とが好ましい。不均化法についてさらに説明すると、本
発明の触媒を用いてクロルシランを不均化反応させ5i
H2CJ2やHiH4を製造するには公知の方法、例え
ばクロルシランと触媒とを混合し、不均化反応を行い生
成した5iH2(J2.3iH4を凝縮分離、及び蒸留
、分離する一連の操作をするか、またはこれらの操作を
同時に行われるようにすればよい。
なお混成第6級アミンは温度100℃をこえる高温下で
H(Jの離脱を起こす場合があるが、七の場合には一連
の操作の中にHCIの供給部を設けて塩酸塩の再合成を
行なえるような手段を入れれば良い。
H(Jの離脱を起こす場合があるが、七の場合には一連
の操作の中にHCIの供給部を設けて塩酸塩の再合成を
行なえるような手段を入れれば良い。
(実施例の説明)
実施例1
内容積500cr−のSUS 304Wオー ) りL
’−7”(ジャケット付攪拌機付)に1m01のトリク
ロルシランと0.1 molの触媒を光填し反応温度を
変えて不均化反応させた。塩酸塩の作成はあらかじめオ
ートクレーブ内にて混成第6級アミンとHCIガスを所
定量反応させることにより行った。触媒の種類及び反応
温度を第1表に示す。密閉状態にてガス相のクロルシラ
ン量を経時的にガスクロマトグラフィーにて定量した。
’−7”(ジャケット付攪拌機付)に1m01のトリク
ロルシランと0.1 molの触媒を光填し反応温度を
変えて不均化反応させた。塩酸塩の作成はあらかじめオ
ートクレーブ内にて混成第6級アミンとHCIガスを所
定量反応させることにより行った。触媒の種類及び反応
温度を第1表に示す。密閉状態にてガス相のクロルシラ
ン量を経時的にガスクロマトグラフィーにて定量した。
ガス相のトリクロルシラン量の変化は即ち転換率に相当
するが、ここではトリクロルシラン濃度が一定値になる
迄の時間とその時のトリクロルシラン及び四塩化けい素
の濃度を第1表に値を示した。第1表において時間が短
い程転換速度が速く、濃度値が低いもの程転換率が良い
ことから本発明の触媒がすぐれていることが分る。
するが、ここではトリクロルシラン濃度が一定値になる
迄の時間とその時のトリクロルシラン及び四塩化けい素
の濃度を第1表に値を示した。第1表において時間が短
い程転換速度が速く、濃度値が低いもの程転換率が良い
ことから本発明の触媒がすぐれていることが分る。
第1表には計算によりめた平衡トリクロルシラン濃度を
参考に示した。なお実験/161、/I62及び/16
11は比較例である。
参考に示した。なお実験/161、/I62及び/16
11は比較例である。
なお比較のために触媒としてトリメチルアミン、ジメチ
ルセチルアミベリエチルアミンの塩酸塩、トリメチルに
#アミンの塩酸塩を用い反応温度を25°C150°C
11000Cと変えた以外は実施例1と同様に行った。
ルセチルアミベリエチルアミンの塩酸塩、トリメチルに
#アミンの塩酸塩を用い反応温度を25°C150°C
11000Cと変えた以外は実施例1と同様に行った。
但し、触媒が固形物として存在するので、分散を良くす
るため攪拌機を作動させて行った。(実験4626〜2
9) 実施例2 実施例1の実験/f66及び412の触媒量を第2表に
示すように変えた以外は実施例1と同様に行った。その
条件及び結果を第3表に示した。
るため攪拌機を作動させて行った。(実験4626〜2
9) 実施例2 実施例1の実験/f66及び412の触媒量を第2表に
示すように変えた以外は実施例1と同様に行った。その
条件及び結果を第3表に示した。
第 2 表
実施例6
原料トリクロルシラン1moZをジクロルシランl m
olに変更し、ガス相のモノシラン濃度をガスクロマト
グラフィーで定量し、濃度が一定となる時間とその時の
濃度を測定した以外は実施例1と同様に行った。なお塩
酸塩の量は第3級アミンに対し20 mob%とした。
olに変更し、ガス相のモノシラン濃度をガスクロマト
グラフィーで定量し、濃度が一定となる時間とその時の
濃度を測定した以外は実施例1と同様に行った。なお塩
酸塩の量は第3級アミンに対し20 mob%とした。
これらの条件及び結果を第6表に示す。なお参考として
計算によりめたモノシランのガス相濃度を併記した。
計算によりめたモノシランのガス相濃度を併記した。
比較のために触媒、反応温度を第6表に示すようにした
以外は実施例6と同様に行った。その結果を第3表に示
した。なお比較例1と同様攪拌機を作動させて行った。
以外は実施例6と同様に行った。その結果を第3表に示
した。なお比較例1と同様攪拌機を作動させて行った。
(実験A43〜46)実施例4
触媒にブチル・ヘキシル・オクチルアミン、ブチルオク
チルドデシルアミンとその塩酸塩を20mo1%含有す
るようにした以外は実施例1と同様に行なった。その結
果を第4表に示した。
チルドデシルアミンとその塩酸塩を20mo1%含有す
るようにした以外は実施例1と同様に行なった。その結
果を第4表に示した。
第 4 表
(発明の効果)
(11従来の第6級アミン触媒に較べて温度iso’c
以下の低温不均化反応が行われ、平衡転換率に近い転換
率が得られる。
以下の低温不均化反応が行われ、平衡転換率に近い転換
率が得られる。
(2; 平衡転換率和達する時間が短かく、また不均化
速度が大きいので装置が小型化される。
速度が大きいので装置が小型化される。
(3) 原料であるクロルシランに完全に溶解すると共
に、その沸点が150°0以上であるので反応液の蒸気
圧を低下させるので安全性にすぐれている。
に、その沸点が150°0以上であるので反応液の蒸気
圧を低下させるので安全性にすぐれている。
(418iH2C11!2.8iH4などの生成物の分
離が容易である。
離が容易である。
(5)均−液相系であるため攪拌等の操作が不要であり
、触媒の輸送など取扱いが簡単である。
、触媒の輸送など取扱いが簡単である。
特許出願人 電気化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 111 下記一般式で示される混成第6級アミンとその
塩酸塩を主成分とするクロルシランの不均化触媒。 一般式 (1)式 (2)式 (但し、式中のRユ、R2、R3は炭素原子数4〜12
の炭化水素基であり、しかもR1、R2、R3のすべて
が同種のものでない飽和炭化水素基を表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6748984A JPS60212232A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | クロルシランの不均化触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6748984A JPS60212232A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | クロルシランの不均化触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60212232A true JPS60212232A (ja) | 1985-10-24 |
| JPS6333423B2 JPS6333423B2 (ja) | 1988-07-05 |
Family
ID=13346442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6748984A Granted JPS60212232A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | クロルシランの不均化触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60212232A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62209085A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Ichiro Kijima | ケイ素イソシアネ−トの製造法 |
-
1984
- 1984-04-06 JP JP6748984A patent/JPS60212232A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62209085A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Ichiro Kijima | ケイ素イソシアネ−トの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6333423B2 (ja) | 1988-07-05 |
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