JPS6021399A - 金属イオン供給装置 - Google Patents

金属イオン供給装置

Info

Publication number
JPS6021399A
JPS6021399A JP58127418A JP12741883A JPS6021399A JP S6021399 A JPS6021399 A JP S6021399A JP 58127418 A JP58127418 A JP 58127418A JP 12741883 A JP12741883 A JP 12741883A JP S6021399 A JPS6021399 A JP S6021399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
plating solution
metal
stirring
supply shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58127418A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6158559B2 (ja
Inventor
Takao Ikenaga
池永 孝雄
Shunichi Harada
俊一 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP58127418A priority Critical patent/JPS6021399A/ja
Publication of JPS6021399A publication Critical patent/JPS6021399A/ja
Publication of JPS6158559B2 publication Critical patent/JPS6158559B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属イオン供給装置に係り、特に、不溶性陽
極を用いた°さ気めつき埋置にめっき金属イオンを含む
めっき液を供給づる際に用いるのに好適な、めっき金属
の溶解の促進を図った金属イオン供給装置に間する。
不溶性陽極を用いて電気めっきを行う場合には、めっき
金属イオンを陽極以外の系から供給覆る必要があり、そ
の方法として、従来は、大別して、めっき金属を薬品の
形でめっき波に溶解する方法と、めっき金属を直接めっ
き液に溶解する方法と、が行われている。
このうち、曲者の方法は、めっき金属の溶解性が優れて
おり、容易にめっき金属イオンを生成することかできる
ものであるが、」スト高になるという問題点があった。
一方、後者の方法は、前者の方法と比較して。
低コストで行うことができるものであるが、めっき金属
の溶解性が悪いという問題点があった。
ここで、第1図に、後者の方法における、めっき金属の
平均寸法dと、その溶解開始から所定濃度に達するまで
の所要時間tとの関係を模式的に示す。
第1図の破線Δは、第2図に示す如く、めっき金属2を
めっき液4に浸漬したままの状態(以下、A方式と称1
)における、該めつぎ金属2の溶解状況を示したもので
あり、1点鎖線Bは、第3図に示1如く、撹拌装置6に
よりめっき金属2およびめっき液4が撹拌される状態(
以下、B方式と称す)における、該めつぎ金属2の溶解
状況を示したものである。
この第1図から明らかなように、撹拌づることにより、
めっき金属2の寸法が小さい場合には、溶解速度が速く
なるが、めっき金属2の寸法が大きくなるに従い、撹拌
効果が薄れ、さらには、めつぎ金属2の撹拌が不可能と
なり、撹拌しない場合とほぼ同程度に溶解速度が遅くな
っていることが解る。
従って、後者のめつき金属を直接めっき液に溶解りる方
法において、(に拝することによりめつぎ金属の溶解を
促進させるためには、めっき金属の寸法を小さくする必
要があり、そのために、コストや労力が増大するという
問題点があった。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
り、めっき金属の寸法にかかわらずその溶解を促進づる
ことかでき、従って、めっき金属イオンを容易に且つ低
」ストでめっき装置等に供給することができる金属イオ
ン供給装置を提供することを目的とする。
本発明は、金属イオン供給装置にd3いて、外部から供
給されるめっき液を軸方向に導くためのめつぎ液流入通
路が内部に形成され、尋人されためつき液を外側に排出
するための連通孔が甲面に形成され、外側に配置される
めっき金属を撹拌づるための撹拌翼が外周面に配設され
た、中空のめつぎ液供給軸と、該めっき液供給軸をその
軸線回りに回転変位させるための駆動装置と、前記めっ
き液供給軸およびその撹拌翼の外周を包囲して、めっき
金属を保持するための、めっき液を外側に流出する連通
孔または隙間が壁面に形成された撹拌槽と、該撹拌槽を
包囲して、めっき液に浸漬した状態で保持するICめの
、めつぎ金属イオンを含むめっき液を下方から電気めっ
き装置に供給するめつぎ液排出手段が設けられためつぎ
油槽と、を協えることにより、前記目的を達成したもの
である。
本発明においては、めっき金属を撹拌槽内で全体的に撹
拌するようにしているので、めっき金属の寸法にかかわ
らずその溶解を促進させることができる。又、めっき金
属イオンを含むめっき液を撹拌槽の下方から外部に取り
出して、撹拌槽内におけるめっき液のめつき金属イオン
濃度を低くJるようにしCいるので、更にめっき金属の
溶解を1進させることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
本発明にかかる金属イオン供給装置10は、第4回およ
び第5図に示J−ように、外部から供給されるめつぎ液
4を軸り向に導くためのめっき液流入通路2OAが内部
に形成され、導入されためっき液4を外側に排出するた
めの多数の連通孔20Bが壁面に形成され、外側に配置
されるめっき金属2を撹拌するための8枚の撹拌翼22
が外周面に配設された、中空のめつき液供給軸20と、
該めっき液供給軸20をその軸線回りに回転度1ηさせ
るためのめつき液供給軸回転装置30と、前記めっき液
供給軸200回転変位を許容する範囲で該めっき液供給
軸20およびその撹拌翼22の外周を包囲して、めっき
金属2を保持するための、めっき液4を外側に流出する
多数のj1通孔40Aが壁面に形成された撹拌(曹40
と、該撹拌lI40を包囲して、めつき′a4に浸漬し
た状態で保持するための、めっき金属イオンを含むめっ
き液4を下方から電気めっき装@(図示省略)に供給す
るめつぎ液排出用配管50が設けられためつぎ液僧60
と、を備えている。
前記めっき液供給軸20は、両端20G、20Dにおい
て軸受23により回転可能に支持され、その一端20G
は、継手24を介してめっき液供給軸回転装置30に連
結され、該めっき液供給軸20を回転するようにされて
おり、他端20Dは、継手26を介してめっき液供給装
置(図示省略〉に連通りるめつぎ液導入用配管28に連
結され、めっき液流入通路2OAにめっき液を供給する
ようにされており、めっき液供給軸20の回転中もめつ
き液の供給を可能とされている。
前記撹拌翼22は、長方形状とされ、その長辺が撹拌槽
40の内壁に近接し、短辺がめつき液槽60内壁に近接
した状態で、前記めっき液供給軸20の外周面に放射状
に配設されている。
前記撹拌槽40は、円筒形状に形成され、その両端部4
0B、40Bをめっき液1f 60内檗に接合して、該
めっき液l!60内部の上方でめつぎ液4に浸漬するよ
うに固定配置されており、また、図の上方中央部に、め
っき金属2(めつき金属粒またはめつき金属片)を該撹
拌槽4o内に投入するためのホッパ44が設置されてい
る。
前記ホッパ44は、その下部に設けられる開閉器46を
介して前記撹拌槽40の内部に連通自在とされ、該開閉
器46を開閉することにより、必要時にめっき金属2を
撹拌槽40内に投入でるようにされている。
的記めっき液排出用配管50は、めっき液槽60の側d
 60 ’A上下部設けられ、所定めつき金属イオン淵
1哀に達しためつき液4を次プロセス、例えば、電気め
つき装置等l\直接又は間接的に供給づるようにされて
いる。
図の符号32は、めっき液槽60内と外部とをシールづ
るためのシール4号、34は、めつぎ液供給軸回転装置
30および釉受23を固定するための架台を示す。
次に、本実施例の作用を説明する。
まず、ホッパ44から撹拌槽40内にめつぎ金属2を投
入し、さらに、めつき′a導入用配管28からめつぎ液
流入通路2OAおよび連通孔20Bを介してめっき液4
をめっき液4!60内に流入して、該撹拌槽40をめっ
き液4に浸漬させる。
この状態で、めっき液供給軸回転装置30によりめっき
液供給軸20を回転させて、撹拌4¥I40内でめっき
金属2を撹拌する。
この時、撹拌槽40内では、めつぎ金属2がめつき液4
と互いに摩擦されながら全体的に撹拌されるので、めっ
き液4中l\のめつき金属2の溶解が促進される。
また、撹拌槽40内でめっき金属2を撹拌する際に、該
撹拌4i40内に連通孔2OBから新たにめっき液を供
給づることにより、撹拌槽40内のめっき液4のめつき
金属イオン濃度が低くなるため、めっき金属2の溶解が
更に促進される。
撹拌槽40内でめっき金属2が溶解され、めっき金属イ
オン濃度の上昇しためつき欣4は、比重が大きくなるた
め、撹拌槽40の壁面に形成された連通孔40Aを通過
して、めつぎ液槽60の下方へ降下していく。
これにより、めっき液4960の下方部のめっき液4の
めつき金属イオン濃度が上昇し、所定濃度に達しためつ
き液4は、該めっき液槽60の側壁60A下部に設けら
れためつき液排出用配管50を介して次のプロセス、例
えば、電気めっき装置等へ直接または間接的に供給され
る。
この実施例の場合には、めっき液供給軸20を回転する
ことに゛より、1に拌?f40内で1気拌翼22により
めっき金属2を全体的にかつ強力に撹拌覆るようにして
いるので、めっき金属2の大きさに依ることなく該めっ
き金属2を撹拌することができ、従って、めっき金属2
の溶解を大ぎく促進することができる。しかも、該めっ
き液lit 60内の上方部にめっき金属のイオン濃度
の低いめっき液を供給し、下方部から所定めつき金属イ
オン濃度に)ヱしためつき64をめっき液槽60の外部
l\排出づるようにしているので、常に、めっき液槽6
0の上方部のめつき?I24は、めっき金属イオン濃度
が低く、即ち、めっき金属2の溶解に有利なめつき金属
イオン濃度に保持されており、従って、撹拌槽40内で
のめつき金属2の全体的な撹拌による効果と合せて、更
にばれた溶解効果がある。
前出第1図に示す実ICは、本実施例におけるめっき金
属イオン供給装置10を用いためっき金属2の溶解状況
を示すものであり、従来のA方式およびB方式と比較し
て、僅れた溶解性をあられしている。
なお、上記実施例においては、撹拌翼22を、長板形状
のものとし、これを軸方向に長く配置していたが、撹拌
翼の形状、配置は、これに限定されるものではなく、例
えば、第6図に示ず如く、複数個の撹拌翼29を軸り向
に、不連続に設け1こものであってもよい。
この場合には、めっき金属撹拌時に、撹拌板29と撹拌
板29との隙間からめつき金属2の一部を落下させなが
ら全体的に撹拌づるようにしているので、めっき金属2
が特定個所に片寄ることなく、さらに、効果的にめっき
金属2を撹拌することかできる。また、撹拌目の形状は
、前記撹拌翼22.29にひねりを加えたスクリュ状と
したものであってもよい。
さらに、上記実施例にJ′3いては、めっき液供給軸2
0を一方向に回転変位させることにより、撹拌翼を回転
変位させて、めつぎ金属2を撹拌するようにしていたが
、撹拌翼を変位させる方法は、これに限定されるもので
はなく、例えば、めっき液供給軸を往復回転変位させる
ことにより、撹拌翼を揺動変位させて、めっき金属を撹
拌−リ”るようにしICものであってしよい。
この場合には、厄拌悶を回転させる場合と比較して、撹
拌槽を小型化できる。
上記の如く、本発明によれば、めっき金帽l、l〔はめ
つぎ金1風片の用ン去にかかわらず、その溶解を大きく
促進することができる。従って、めっき金属を予め小粒
化したり、めっき金属を薬品の形で溶解したりすること
なく、迅速且つ容易に、低いコストでめっき金属イオン
を供給ブることができるというぼれた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、めっき金属を直接めっき液に溶解させた場合
の、めっき金属の平均寸法と溶解曲始から所定めつき金
属イオン淵痕に達するまての所要時間との関係を示1線
図、 第2図および第3図は、夫々従来の、めっき金属を直接
めつぎ液に浴W11るための装置の溝底の概略を示す断
面図、 第4図は、本発明に係るめっき金属イオン供給装置の実
施例の構成を示す、一部所面図を含む側面図、 第5図は、第4図のv−v線に沿う断面図、第6図は、
本発明に係るめっき金属イオン供給装置の他の実施例に
おける撹拌翼の構成を示づ略示断面図である。 2・・・めっき金属、 4・・・めっき液、10・・・
金属イオン供給装置、 20・・・めつぎ:1’+i供給軸、 2OA・・・めっき液流入通路、 20B・・・連通孔
、22.29・・・撹拌翼、 30・・・めっき液供給軸回転装置、 40・・・撹拌
槽、40A・・・連通孔、50・・・めっき液排出用配
管、60・・・めっき液槽。 代理人 高 矢 論 (ほか1名) 第4図 ■− 第5図 第6図 10

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)外部から供給されるめっき液を軸方向に導くため
    のめつき′a流入通路が内部に形成され、導入され1〔
    めつき液を外側に排出づるための連通孔が壁面に形成さ
    れ、外側に配置されるめっき金属を撹拌づるための撹拌
    翼が外周面に配設された、中空のめつき液供給軸と、 該めつぎ液供給軸をその軸線回りに回転変位させるため
    の駆WJJ装置と、 前記めっき液供給軸およびその撹拌翼の外周を包囲して
    、めっき金属を保持するための、めっき液を外側に流出
    する連通孔または隙間が壁面に展成された撹拌槽と、 該撹拌槽を包囲して、めっき液に浸漬した状態で保持す
    るための、めっき金属イオンを含むめっき液を下方から
    電気めっき装置に供給)るめつぎ液排出手段が設けられ
    ためつきF&槽と、を備えたことを特徴とする金属イオ
    ン供給装置。
JP58127418A 1983-07-13 1983-07-13 金属イオン供給装置 Granted JPS6021399A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58127418A JPS6021399A (ja) 1983-07-13 1983-07-13 金属イオン供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58127418A JPS6021399A (ja) 1983-07-13 1983-07-13 金属イオン供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6021399A true JPS6021399A (ja) 1985-02-02
JPS6158559B2 JPS6158559B2 (ja) 1986-12-12

Family

ID=14959469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58127418A Granted JPS6021399A (ja) 1983-07-13 1983-07-13 金属イオン供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6021399A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111545093A (zh) * 2020-05-15 2020-08-18 中国原子能科学研究院 连续溶解器

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63148052U (ja) * 1987-03-12 1988-09-29

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111545093A (zh) * 2020-05-15 2020-08-18 中国原子能科学研究院 连续溶解器
CN111545093B (zh) * 2020-05-15 2022-03-11 中国原子能科学研究院 连续溶解器

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6158559B2 (ja) 1986-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL131793B1 (en) Gas dissipating rotary apparatus,especially for treatment of molten metal bath
US1876732A (en) Metallurgical apparatus
KR101027810B1 (ko) 액체 탱크
JPS6158559B2 (ja)
JPS62297494A (ja) 半導体ウェハー用メッキ装置
US4705379A (en) Automatic processing machine for photography
US7560015B2 (en) Process for electrolytic coating of a strand casting mould
US1744792A (en) Electroplating apparatus
KR101712984B1 (ko) 이중 바렐구조의 표면처리장치
US4253916A (en) Vibratory plating method
JPH09271899A (ja) 適性条件自動選択式連続レオキャスト法及び装置
JPH0642733Y2 (ja) 撹拌装置
RU2016911C1 (ru) Способ подготовки алюминиевых сплавов и устройство для его осуществления
JPS61133397A (ja) 管端のめつき装置
US2055070A (en) Electroplating apparatus
JPH0224396B2 (ja)
JPS62125830A (ja) 粉体溶解装置
JPH0222499A (ja) メッキ装置
JP7730384B2 (ja) 2つ以上の攪拌機器による半溶融スラリーの生産
JP2010001534A (ja) バレルめっき装置
JP2003013294A (ja) 導電性バレル及びバレルメッキ装置
JP3431597B2 (ja) 溶鋼簡易脱ガス設備における脱ガス処理方法及び溶鋼撹拌装置
JPH0251000B2 (ja)
JP3761692B2 (ja) 固形物溶解装置
JP6830560B1 (ja) ゲル化炭化水素製造装置