JPS6158559B2 - - Google Patents
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- JPS6158559B2 JPS6158559B2 JP58127418A JP12741883A JPS6158559B2 JP S6158559 B2 JPS6158559 B2 JP S6158559B2 JP 58127418 A JP58127418 A JP 58127418A JP 12741883 A JP12741883 A JP 12741883A JP S6158559 B2 JPS6158559 B2 JP S6158559B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属イオン供給装置に係り、特に、
不溶性陽極を用いた電気めつき装置にめつき金属
イオンを含むめつき液を供給する際に用いるのに
好適な、めつき金属の溶解の促進を図つた金属イ
オン供給装置に関する。
不溶性陽極を用いた電気めつき装置にめつき金属
イオンを含むめつき液を供給する際に用いるのに
好適な、めつき金属の溶解の促進を図つた金属イ
オン供給装置に関する。
不溶性陽極を用いて電気めつきを行う場合に
は、めつき金属イオンを陽極以外の系から供給す
る必要があり、その方法として、従来は、大別し
て、めつき金属を薬品の形でめつき液に溶解する
方法と、めつき金属を直接めつき液に溶解する方
法と、が行われている。
は、めつき金属イオンを陽極以外の系から供給す
る必要があり、その方法として、従来は、大別し
て、めつき金属を薬品の形でめつき液に溶解する
方法と、めつき金属を直接めつき液に溶解する方
法と、が行われている。
このうち、前者の方法は、めつき金属の溶解性
が優れており、容易にめつき金属イオンを生成す
ることができるものであるが、コスト高になると
いう問題点があつた。
が優れており、容易にめつき金属イオンを生成す
ることができるものであるが、コスト高になると
いう問題点があつた。
一方、後者の方法は、前者の方法と比較して、
低コストで行うことができるものであるが、めつ
き金属の溶解性が悪いという問題点があつた。
低コストで行うことができるものであるが、めつ
き金属の溶解性が悪いという問題点があつた。
ここで、第1図に、後者の方法における、めつ
き金属の平均寸法dと、その溶解開始から所定濃
度に達するまでの所要時間tとの関係を模式的に
示す。
き金属の平均寸法dと、その溶解開始から所定濃
度に達するまでの所要時間tとの関係を模式的に
示す。
第1図の破線Aは、第2図に示す如く、めつき
金属2をめつき液4に浸漬したままの状態(以
下、A方式と称す)における、該めつき金属2の
溶解状況を示したものであり、1点鎖線Bは、第
3図に示す如く、撹拌装置6によりめつき金属2
およびめつき液4が撹拌される状態(以下、B方
式と称す)における、該めつき金属2の溶解状況
を示したものである。
金属2をめつき液4に浸漬したままの状態(以
下、A方式と称す)における、該めつき金属2の
溶解状況を示したものであり、1点鎖線Bは、第
3図に示す如く、撹拌装置6によりめつき金属2
およびめつき液4が撹拌される状態(以下、B方
式と称す)における、該めつき金属2の溶解状況
を示したものである。
この第1図から明らかなように、撹拌すること
により、めつき金属2の寸法が小さい場合には、
溶解速度が速くなるが、めつき金属2の寸法が大
きくなるに従い、撹拌効果が薄れ、さらには、め
つき金属2の撹拌が不可能となり、撹拌しない場
合とほぼ同程度に溶解速度が遅くなつていること
が解る。
により、めつき金属2の寸法が小さい場合には、
溶解速度が速くなるが、めつき金属2の寸法が大
きくなるに従い、撹拌効果が薄れ、さらには、め
つき金属2の撹拌が不可能となり、撹拌しない場
合とほぼ同程度に溶解速度が遅くなつていること
が解る。
従つて、後者のめつき金属を直接めつき液に溶
解する方法において、撹拌することによりめつき
金属の溶解を促進させるためには、めつき金属の
寸法を小さくする必要があり、そのために、コス
トや労力が増大するという問題点があつた。
解する方法において、撹拌することによりめつき
金属の溶解を促進させるためには、めつき金属の
寸法を小さくする必要があり、そのために、コス
トや労力が増大するという問題点があつた。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされた
ものであり、めつき金属の寸法にかかわらずその
溶解を促進することができ、従つて、めつき金属
イオンを容易に且つ低コストでめつき装置等に供
給することができる金属イオン供給装置を提供す
ることを目的とする。
ものであり、めつき金属の寸法にかかわらずその
溶解を促進することができ、従つて、めつき金属
イオンを容易に且つ低コストでめつき装置等に供
給することができる金属イオン供給装置を提供す
ることを目的とする。
本発明は、金属イオン供給装置において、外部
から供給されるめつき液を軸方向に導くためのめ
つき液流入通路が内部に形成され、導入されため
つき液を外側に排出するために連通孔が壁面に形
成され、外側に配置されるめつき金属を撹拌する
ための撹拌翼が外周面に配設された、中空のめつ
き液供給軸と、該めつき液供給軸をその軸線回り
に回転変位させるための駆動装置と、前記めつき
液供給軸およびその撹拌翼の外周を包囲して、め
つき金属を保持するための、めつき液を外側に流
出する連通孔または隙間が壁面に形成された撹拌
槽と、該撹拌槽を包囲して、めつき液に浸漬した
状態で保持するための、めつき金属イオンを含む
めつき液を下方から電気めつき装置に供給するめ
つき液排出手段が設けられためつき液槽と、を備
えることにより、前記目的を達成したものであ
る。
から供給されるめつき液を軸方向に導くためのめ
つき液流入通路が内部に形成され、導入されため
つき液を外側に排出するために連通孔が壁面に形
成され、外側に配置されるめつき金属を撹拌する
ための撹拌翼が外周面に配設された、中空のめつ
き液供給軸と、該めつき液供給軸をその軸線回り
に回転変位させるための駆動装置と、前記めつき
液供給軸およびその撹拌翼の外周を包囲して、め
つき金属を保持するための、めつき液を外側に流
出する連通孔または隙間が壁面に形成された撹拌
槽と、該撹拌槽を包囲して、めつき液に浸漬した
状態で保持するための、めつき金属イオンを含む
めつき液を下方から電気めつき装置に供給するめ
つき液排出手段が設けられためつき液槽と、を備
えることにより、前記目的を達成したものであ
る。
本発明においては、めつき金属を撹拌槽内で全
体的に撹拌するようにしているので、めつき金属
の寸法にかかわらずその溶解を促進させることが
できる。又、めつき金属イオンを含むめつき液を
撹拌槽の下方から外部に取り出して、撹拌槽内に
おけるめつき液のめつき金属イオン濃度を低くす
るようにしているので、更にめつき金属の溶解を
促進させることができる。
体的に撹拌するようにしているので、めつき金属
の寸法にかかわらずその溶解を促進させることが
できる。又、めつき金属イオンを含むめつき液を
撹拌槽の下方から外部に取り出して、撹拌槽内に
おけるめつき液のめつき金属イオン濃度を低くす
るようにしているので、更にめつき金属の溶解を
促進させることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明する。
説明する。
本発明にかかる金属イオン供給装置10は、第
4図および第5図に示すように、外部から供給さ
れるめつき液4を軸方向に導くためのめつき液流
入通路20Aが内部に形成され、導入されためつ
き液4を外側に排出するための多数の連通孔20
Bが壁面に形成され、外側に配置されるめつき金
属2を撹拌するための8枚の撹拌翼22が外周面
に配設された、中空のめつき液供給軸20と、該
めつき液供給軸20をその軸線回りに回転変位さ
せるためのめつき液供給軸回転装置30と、前記
めつき液供給軸20の回転変位を許容する範囲で
該めつき液供給軸20およびその撹拌翼22の外
周を包囲して、めつき金属2を保持するための、
めつき液4を外側に流出する多数の連通孔40A
が壁面に形成された撹拌槽40と、該撹拌槽40
を包囲して、めつき液4に浸漬した状態で保持す
るための、めつき金属イオンを含むめつき液4を
下方から電気めつき装置(図示省略)に供給する
めつき液排出用配管50が設けられためつき液槽
60と、を備えている。
4図および第5図に示すように、外部から供給さ
れるめつき液4を軸方向に導くためのめつき液流
入通路20Aが内部に形成され、導入されためつ
き液4を外側に排出するための多数の連通孔20
Bが壁面に形成され、外側に配置されるめつき金
属2を撹拌するための8枚の撹拌翼22が外周面
に配設された、中空のめつき液供給軸20と、該
めつき液供給軸20をその軸線回りに回転変位さ
せるためのめつき液供給軸回転装置30と、前記
めつき液供給軸20の回転変位を許容する範囲で
該めつき液供給軸20およびその撹拌翼22の外
周を包囲して、めつき金属2を保持するための、
めつき液4を外側に流出する多数の連通孔40A
が壁面に形成された撹拌槽40と、該撹拌槽40
を包囲して、めつき液4に浸漬した状態で保持す
るための、めつき金属イオンを含むめつき液4を
下方から電気めつき装置(図示省略)に供給する
めつき液排出用配管50が設けられためつき液槽
60と、を備えている。
前記めつき液供給軸20は、両端20C,20
Dにおいて軸受23により回転可能に支持され、
その一端20Cは、継手24を介してめつき液供
給軸回転装置30に連結され、該めつき液供給軸
20を回転するようにされており、他端20D
は、継手26を介してめつき液供給装置(図示省
略)に連通するめつき液導入用配管28に連結さ
れ、めつき液流入通路20Aにめつき液を供給す
るようにされており、めつき液供給軸20の回転
中もめつき液の供給を可能とされている。
Dにおいて軸受23により回転可能に支持され、
その一端20Cは、継手24を介してめつき液供
給軸回転装置30に連結され、該めつき液供給軸
20を回転するようにされており、他端20D
は、継手26を介してめつき液供給装置(図示省
略)に連通するめつき液導入用配管28に連結さ
れ、めつき液流入通路20Aにめつき液を供給す
るようにされており、めつき液供給軸20の回転
中もめつき液の供給を可能とされている。
前記撹拌翼22は、長方形状とされ、その長辺
が撹拌槽40の内壁に近接し、短辺がめつき液槽
60内壁に近接した状態で、前記めつき液供給軸
20の外周面に放射状に配設されている。
が撹拌槽40の内壁に近接し、短辺がめつき液槽
60内壁に近接した状態で、前記めつき液供給軸
20の外周面に放射状に配設されている。
前記撹拌槽40は、円筒形状に形成され、その
両端部40B,40Bをめつき液槽60内壁に接
合して、該めつき液槽60内部の上方でめつき液
4に浸漬するように固定配置されており、また、
図の上方中央部に、めつき金属2(めつき金属粒
またはめつき金属片)を該撹拌槽40内に投入す
るためのホツパ44が設置されている。
両端部40B,40Bをめつき液槽60内壁に接
合して、該めつき液槽60内部の上方でめつき液
4に浸漬するように固定配置されており、また、
図の上方中央部に、めつき金属2(めつき金属粒
またはめつき金属片)を該撹拌槽40内に投入す
るためのホツパ44が設置されている。
前記ホツパ44は、その下部に設けられる開閉
器46を介して前記撹拌槽40の内部に連通自在
とされ、該開閉器46を開閉することにより、必
要時にめつき金属2を撹拌槽40内に投入するよ
うにされている。
器46を介して前記撹拌槽40の内部に連通自在
とされ、該開閉器46を開閉することにより、必
要時にめつき金属2を撹拌槽40内に投入するよ
うにされている。
前記めつき液排出用配管50は、めつき液槽6
0の側壁60A下部に設けられ、所定めつき金属
イオン濃度に達しためつき液4を次プロセス、例
えば、電気めつき装置等へ直接又は間接的に供給
するようにされている。
0の側壁60A下部に設けられ、所定めつき金属
イオン濃度に達しためつき液4を次プロセス、例
えば、電気めつき装置等へ直接又は間接的に供給
するようにされている。
図の符号32は、めつき液槽60内と外部とを
シールするためのシール材、34は、めつき液供
給軸回転装置30および軸受23を固定するため
の架台を示す。
シールするためのシール材、34は、めつき液供
給軸回転装置30および軸受23を固定するため
の架台を示す。
次に、本実施例の作用を説明する。
まず、ホツパ44から撹拌槽40内にめつき金
属2を投入し、さらに、めつき液導入用配管28
からめつき液流入通路20Aおよび連通孔20B
を介してめつき液4をめつき液槽60内に流入し
て、該撹拌槽40をめつき液4に浸漬させる。
属2を投入し、さらに、めつき液導入用配管28
からめつき液流入通路20Aおよび連通孔20B
を介してめつき液4をめつき液槽60内に流入し
て、該撹拌槽40をめつき液4に浸漬させる。
この状態で、めつき液供給軸回転装置30によ
りめつき液供給軸20を回転させて、撹拌槽40
内でめつき金属2を撹拌する。
りめつき液供給軸20を回転させて、撹拌槽40
内でめつき金属2を撹拌する。
この時、撹拌槽40内では、めつき金属2がめ
つき液4と互いに摩擦されながら全体的に撹拌さ
れるので、めつき液4中へのめつき金属2の溶解
が促進される。
つき液4と互いに摩擦されながら全体的に撹拌さ
れるので、めつき液4中へのめつき金属2の溶解
が促進される。
また、撹拌槽40内でめつき金属2を撹拌する
際に、該撹拌槽40内に連通孔20Bから新たに
めつき液を供給することにより、撹拌槽40内の
めつき液4のめつき金属イオン濃度が低くなるた
め、めつき金属2の溶解が更に促進される。
際に、該撹拌槽40内に連通孔20Bから新たに
めつき液を供給することにより、撹拌槽40内の
めつき液4のめつき金属イオン濃度が低くなるた
め、めつき金属2の溶解が更に促進される。
撹拌槽40内でめつき金属2が溶解され、めつ
き金属イオン濃度の上昇しためつき液4は、比重
が大きくなるため、撹拌槽40の壁面に形成され
た連通孔40Aを通過して、めつき液槽60の下
方へ降下していく。
き金属イオン濃度の上昇しためつき液4は、比重
が大きくなるため、撹拌槽40の壁面に形成され
た連通孔40Aを通過して、めつき液槽60の下
方へ降下していく。
これにより、めつき液槽60の下方部のめつき
液4のめつき金属イオン濃度が上昇し、所定濃度
に達しためつき液4は、該めつき液槽60の側壁
60A下部に設けられためつき液排出用配管50
を介して次のプロセス、例えば、電気めつき装置
等へ直接または間接的に供給される。
液4のめつき金属イオン濃度が上昇し、所定濃度
に達しためつき液4は、該めつき液槽60の側壁
60A下部に設けられためつき液排出用配管50
を介して次のプロセス、例えば、電気めつき装置
等へ直接または間接的に供給される。
この実施例の場合には、めつき液供給軸20を
回転することにより、撹拌槽40内で撹拌翼22
によりめつき金属2を全体的にかつ強力に撹拌す
るようにしているので、めつき金属2の大きさに
依ることなく該めつき金属2を撹拌することがで
き、従つて、めつき金属2の溶解を大きく促進す
ることができる。しかも、該めつき液槽60内の
上方部にめつき金属のイオン濃度の低いめつき液
を供給し、下方部から所定めつき金属イオン濃度
に達しためつき液4をめつき液槽60の外部へ排
出するようにしているので、常に、めつき液槽6
0の上方部のめつき液4は、めつき金属イオン濃
度が低く、即ち、めつき金属2の溶解に有利なめ
つき金属イオン濃度に保持されており、従つて、
撹拌槽40内でのめつき金属2の全体的な撹拌に
よる効果と合せて、更に優れた溶解効果がある。
回転することにより、撹拌槽40内で撹拌翼22
によりめつき金属2を全体的にかつ強力に撹拌す
るようにしているので、めつき金属2の大きさに
依ることなく該めつき金属2を撹拌することがで
き、従つて、めつき金属2の溶解を大きく促進す
ることができる。しかも、該めつき液槽60内の
上方部にめつき金属のイオン濃度の低いめつき液
を供給し、下方部から所定めつき金属イオン濃度
に達しためつき液4をめつき液槽60の外部へ排
出するようにしているので、常に、めつき液槽6
0の上方部のめつき液4は、めつき金属イオン濃
度が低く、即ち、めつき金属2の溶解に有利なめ
つき金属イオン濃度に保持されており、従つて、
撹拌槽40内でのめつき金属2の全体的な撹拌に
よる効果と合せて、更に優れた溶解効果がある。
前出第1図に示す実線Cは、本実施例における
めつき金属イオン供給装置10を用いためつき金
属2の溶解状況を示すものであり、従来のA方式
およびB方式と比較して、優れた溶解性をあらわ
している。
めつき金属イオン供給装置10を用いためつき金
属2の溶解状況を示すものであり、従来のA方式
およびB方式と比較して、優れた溶解性をあらわ
している。
なお、上記実施例においては、撹拌翼22を、
長板形状のものとし、これを軸方向に長く配置し
ていたが、撹拌翼の形状、配置は、これに限定さ
れるものではなく、例えば、第6図に示す如く、
複数個の撹拌翼29を軸方向に、不連続に設けた
ものであつてもよい。
長板形状のものとし、これを軸方向に長く配置し
ていたが、撹拌翼の形状、配置は、これに限定さ
れるものではなく、例えば、第6図に示す如く、
複数個の撹拌翼29を軸方向に、不連続に設けた
ものであつてもよい。
この場合には、めつき金属撹拌時に、撹拌板2
9と撹拌板29との隙間からめつき金属2の一部
を落下させながら全体的に撹拌するようにしてい
るので、めつき金属2が特定個所に片寄ることな
く、さらに、効果的にめつき金属2を撹拌するこ
とができる。また、撹拌翼の形状は、前記撹拌翼
22,29にひねりを加えたスクリユ状としたも
のであつてもよい。
9と撹拌板29との隙間からめつき金属2の一部
を落下させながら全体的に撹拌するようにしてい
るので、めつき金属2が特定個所に片寄ることな
く、さらに、効果的にめつき金属2を撹拌するこ
とができる。また、撹拌翼の形状は、前記撹拌翼
22,29にひねりを加えたスクリユ状としたも
のであつてもよい。
さらに、上記実施例においては、めつき液供給
軸20を一方向に回転変位させることにより、撹
拌翼を回転変位させて、めつき金属2を撹拌する
ようにしていたが、撹拌翼を変位させる方法は、
これに限定されるものではなく、例えば、めつき
液供給軸を往復回転変位させることにより、撹拌
翼を揺動変位させて、めつき金属を撹拌するよう
にしたものであつてもよい。
軸20を一方向に回転変位させることにより、撹
拌翼を回転変位させて、めつき金属2を撹拌する
ようにしていたが、撹拌翼を変位させる方法は、
これに限定されるものではなく、例えば、めつき
液供給軸を往復回転変位させることにより、撹拌
翼を揺動変位させて、めつき金属を撹拌するよう
にしたものであつてもよい。
この場合には、撹拌翼を回転させる場合と比較
して、撹拌槽を小型化できる。
して、撹拌槽を小型化できる。
上記の如く、本発明によれば、めつき金属粒ま
たはめつき金属片の寸法にかかわらず、その溶解
を大きく促進することができる。従つて、めつき
金属を予め小粒化したり、めつき金属を薬品の形
で溶解したりすることなく、迅速且つ容易に、低
いコストでめつき金属イオンを供給することがで
きるという優れた効果を有する。
たはめつき金属片の寸法にかかわらず、その溶解
を大きく促進することができる。従つて、めつき
金属を予め小粒化したり、めつき金属を薬品の形
で溶解したりすることなく、迅速且つ容易に、低
いコストでめつき金属イオンを供給することがで
きるという優れた効果を有する。
第1図は、めつき金属を直接めつき液に溶解さ
せた場合の、めつき金属の平均寸法と溶解開始か
ら所定めつき金属イオン濃度に達するまでの所要
時間との関係を示す線図、第2図および第3図
は、夫々従来の、めつき金属を直接めつき液に溶
解するための装置の構成の概略を示す断面図、第
4図は、本発明に係るめつき金属イオン供給装置
の実施例の構成を示す、一部断面図を含む側面
図、第5図は、第4図のV−V線に沿う断面図、
第6図は、本発明に係るめつき金属イオン供給装
置の他の実施例における撹拌翼の構成を示す略示
断面図である。 2……めつき金属、4……めつき液、10……
金属イオン供給装置、20……めつき液供給軸、
20A……めつき液流入通路、20B……連通
孔、22,29……撹拌翼、30……めつき液供
給軸回転装置、40……撹拌槽、40A……連通
孔、50……めつき液排出用配管、60……めつ
き液槽。
せた場合の、めつき金属の平均寸法と溶解開始か
ら所定めつき金属イオン濃度に達するまでの所要
時間との関係を示す線図、第2図および第3図
は、夫々従来の、めつき金属を直接めつき液に溶
解するための装置の構成の概略を示す断面図、第
4図は、本発明に係るめつき金属イオン供給装置
の実施例の構成を示す、一部断面図を含む側面
図、第5図は、第4図のV−V線に沿う断面図、
第6図は、本発明に係るめつき金属イオン供給装
置の他の実施例における撹拌翼の構成を示す略示
断面図である。 2……めつき金属、4……めつき液、10……
金属イオン供給装置、20……めつき液供給軸、
20A……めつき液流入通路、20B……連通
孔、22,29……撹拌翼、30……めつき液供
給軸回転装置、40……撹拌槽、40A……連通
孔、50……めつき液排出用配管、60……めつ
き液槽。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 外部から供給されるめつき液を軸方向に導く
ためのめつき液流入通路が内部に形成され、導入
されためつき液を外側に排出するための連通孔が
壁面に形成され、外側に配置されるめつき金属を
撹拌するための撹拌翼が外周面に配設された、中
空のめつき液供給軸と、 該めつき液供給軸をその軸線回りに回転変位さ
せるための駆動装置と、 前記めつき液供給軸およびその撹拌翼の外周を
包囲して、めつき金属を保持するための、めつき
液を外側に流出する連通孔または隙間が壁面に形
成された撹拌槽と、 該撹拌槽を包囲して、めつき液に浸漬した状態
で保持するための、めつき金属イオンを含むめつ
き液を下方から電気めつき装置に供給するめつき
液排出手段が設けられためつき液槽と、 を備えたことを特徴とする金属イオン供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58127418A JPS6021399A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 金属イオン供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58127418A JPS6021399A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 金属イオン供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021399A JPS6021399A (ja) | 1985-02-02 |
| JPS6158559B2 true JPS6158559B2 (ja) | 1986-12-12 |
Family
ID=14959469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58127418A Granted JPS6021399A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 金属イオン供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021399A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63148052U (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-29 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111545093B (zh) * | 2020-05-15 | 2022-03-11 | 中国原子能科学研究院 | 连续溶解器 |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP58127418A patent/JPS6021399A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63148052U (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-29 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6021399A (ja) | 1985-02-02 |
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