JPS60215585A - 気密封止方法 - Google Patents
気密封止方法Info
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- JPS60215585A JPS60215585A JP59073441A JP7344184A JPS60215585A JP S60215585 A JPS60215585 A JP S60215585A JP 59073441 A JP59073441 A JP 59073441A JP 7344184 A JP7344184 A JP 7344184A JP S60215585 A JPS60215585 A JP S60215585A
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Landscapes
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はガラスまたはセラミックと金属部品との気密封
止方法KFlaする。
止方法KFlaする。
従来、ガラスまたはセラミックと金属部品との気密封止
は電子管の製造工程に用いられているが、製造工程中お
よび電子管動作中での高温に対する耐熱性が要求される
ことから、金ろう、銀ろう等を用いるろう付は法が一般
に用いられている。
は電子管の製造工程に用いられているが、製造工程中お
よび電子管動作中での高温に対する耐熱性が要求される
ことから、金ろう、銀ろう等を用いるろう付は法が一般
に用いられている。
しかしながら、ある積の電子管や他の装置において、気
密封止にあたって高温に加熱できないものがある。従っ
てこうした電子管等のR造におけるガラスまたはセラミ
ックと金、禍部品との気密封止には比較的低温での工程
が要求される。
密封止にあたって高温に加熱できないものがある。従っ
てこうした電子管等のR造におけるガラスまたはセラミ
ックと金、禍部品との気密封止には比較的低温での工程
が要求される。
こうした電子管の代表例として撮像管がある。
撮像管のフェースプレートとシリンダとを気密封止する
方法の一つに、第1図に示すように、フェースプレート
1に接合した金属板3とシリンダ2に接合した金属金具
4とを接合する方法がある。
方法の一つに、第1図に示すように、フェースプレート
1に接合した金属板3とシリンダ2に接合した金属金具
4とを接合する方法がある。
この場合、フェースプレートlと金属板3との接合は、
(1)有機接着剤、例えはトールシール(商品名)を用
いて接着する方法、(2)フェースプレート1と金属板
3との間にインジウムを介在させて熱圧着する方法、(
3)ガラス・セラミック接着用はんだを用いて接合する
方法、等が用いられる。
(1)有機接着剤、例えはトールシール(商品名)を用
いて接着する方法、(2)フェースプレート1と金属板
3との間にインジウムを介在させて熱圧着する方法、(
3)ガラス・セラミック接着用はんだを用いて接合する
方法、等が用いられる。
しかしながら、(1)および(2)の方法では、トール
シールおよびインジウムの耐熱性はフェースプレー)l
に形成された光導電膜6よシ低いため、封止後のガス出
しのための加熱温度は100υ前後に保たなければなら
ず、有効なガス出しができないという欠点がめる。まだ
、(3)の方法では、はんだの濡れが接合部5の全体に
行き渡らなかったシ、はんだと接合物との界面に気泡を
生ずるなどして気密性が低下する等の欠点がある。
シールおよびインジウムの耐熱性はフェースプレー)l
に形成された光導電膜6よシ低いため、封止後のガス出
しのための加熱温度は100υ前後に保たなければなら
ず、有効なガス出しができないという欠点がめる。まだ
、(3)の方法では、はんだの濡れが接合部5の全体に
行き渡らなかったシ、はんだと接合物との界面に気泡を
生ずるなどして気密性が低下する等の欠点がある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記欠点を除去し、気密性に優れ、封
止部が200’ON度までの1lll−1′熱性を有す
る、ガラスまたはセラミックと金属部品との気密封止方
法を提供することにある。
止部が200’ON度までの1lll−1′熱性を有す
る、ガラスまたはセラミックと金属部品との気密封止方
法を提供することにある。
本発明の気密封止方法は、ガラスまたはセラミツク表面
に第1の金属層、中間金属層および第2の金属層を順次
積層する工程とk siJ記第2の金属異面と、接合す
べき金属部材の表面とをはんだで溶着する工程とを含ん
で構成される。
に第1の金属層、中間金属層および第2の金属層を順次
積層する工程とk siJ記第2の金属異面と、接合す
べき金属部材の表面とをはんだで溶着する工程とを含ん
で構成される。
次に、本発明を実施例を用い、図面を診照して説明する
。
。
第2図は本発明の一実施例を説明するための図であり、
撮像管のフェースプレートと金属板との封止部の断面図
である。
撮像管のフェースプレートと金属板との封止部の断面図
である。
ガラス製のフェースプレー)1を、クロム酸ト硫酸の混
合溶液、純水そしてアルコール温液に順次浸漬して洗浄
後乾燥した。次に、光導電膜を蒸着する部分を覆ったの
ち、金属板3と接合する面に真空蒸着法によって厚さ約
50OAのクロム(Cr )層IOを、さらに中間金属
層として厚さ約5000Aの銅(Cr)7411を連続
的に積層したのち、この上に電解めっき法によシ厚さ約
5μmの金(Au)めっき層12を形成した。
合溶液、純水そしてアルコール温液に順次浸漬して洗浄
後乾燥した。次に、光導電膜を蒸着する部分を覆ったの
ち、金属板3と接合する面に真空蒸着法によって厚さ約
50OAのクロム(Cr )層IOを、さらに中間金属
層として厚さ約5000Aの銅(Cr)7411を連続
的に積層したのち、この上に電解めっき法によシ厚さ約
5μmの金(Au)めっき層12を形成した。
一方、金属板3としてはフェースプレートlに近い熱膨
張係数を有するインバー合金を使用し、希硝酸に浸漬し
たのち熱水素処理にょシ表面を清浄なものとしだ。
張係数を有するインバー合金を使用し、希硝酸に浸漬し
たのち熱水素処理にょシ表面を清浄なものとしだ。
次に、このように処理したフェースプレー)1の金めっ
き面に金属板3を対向させ、その接合部にガラス・セラ
ミック接着用はんだ、例えばセラソルザ$297(商品
名)を供給し、超音波振動はんだとてを用いて空気中で
セラソルザを接合部に溶着させた。この処理によシ接着
力が大きく、気密性に優れたはんだ層13が形成された
。
き面に金属板3を対向させ、その接合部にガラス・セラ
ミック接着用はんだ、例えばセラソルザ$297(商品
名)を供給し、超音波振動はんだとてを用いて空気中で
セラソルザを接合部に溶着させた。この処理によシ接着
力が大きく、気密性に優れたはんだ層13が形成された
。
このようにして金属板3がはんだ付けされたフェースプ
レートlを用いた撮像管は、従来の有機接着剤やインジ
ウムを用いたものに比べ、光導電面の劣化しない温度(
約200℃)までの加熱が可能であるため、管内のガス
出しの効果は犬となる。
レートlを用いた撮像管は、従来の有機接着剤やインジ
ウムを用いたものに比べ、光導電面の劣化しない温度(
約200℃)までの加熱が可能であるため、管内のガス
出しの効果は犬となる。
5−
なお、フェースプレート1に蒸着した第1の金属層とし
てのTi層11はガラスとの接着giIfを保つためで
めシ、チタン(TI)の代シにパラジウム(Pd )
、りoム(Cr)、タンク# (Ta )+ニッケル(
Ni)クロム合金を用いても同じ効果がある。また、第
2の金属l−としてのAu層12は、はんだと合金を形
成しやすい性質を有するものであ夛、Auのほか銀(A
g ) *すず(8n)を用いることができる。
てのTi層11はガラスとの接着giIfを保つためで
めシ、チタン(TI)の代シにパラジウム(Pd )
、りoム(Cr)、タンク# (Ta )+ニッケル(
Ni)クロム合金を用いても同じ効果がある。また、第
2の金属l−としてのAu層12は、はんだと合金を形
成しやすい性質を有するものであ夛、Auのほか銀(A
g ) *すず(8n)を用いることができる。
本実施例には、中間金属層を設は九が、これは主に第2
金属層の貴金属の使用鎗の節減等の経済的理由による。
金属層の貴金属の使用鎗の節減等の経済的理由による。
第1金属層に第2金M層を直接積層して何ら支障を生じ
ないことは−をまたない。
ないことは−をまたない。
なお、中間金属層としてのCu層11は、第1および第
2の金属層と、例えばCu−Tl 、 C11−Au合
金層を形成し良好な気密接合を完成するもので@t)、
’CuO代シにN1i用いることもできる。
2の金属層と、例えばCu−Tl 、 C11−Au合
金層を形成し良好な気密接合を完成するもので@t)、
’CuO代シにN1i用いることもできる。
第3図は本発明の他の実施例を説明するための外部ミラ
ー型ガスレーザ装置の一例の構成図である。
ー型ガスレーザ装置の一例の構成図である。
6−
外部ミラー型ガスレーザ装fit20は、熱膨張係数の
小さいセラミック製の外囲器21と、この外囲器21内
に固定されたレーザ管22と、ミラー23を保持し外囲
器210両端に固定されたミラー支持体24とから主に
構成されている。このミラー支持体24は、外囲器21
内にほこシや湿気等の浸入を防ぐために外囲器210両
端と気密封止されている。
小さいセラミック製の外囲器21と、この外囲器21内
に固定されたレーザ管22と、ミラー23を保持し外囲
器210両端に固定されたミラー支持体24とから主に
構成されている。このミラー支持体24は、外囲器21
内にほこシや湿気等の浸入を防ぐために外囲器210両
端と気密封止されている。
第4図は第3図におけるA部の拡大図でsb、セラミッ
ク製外囲器21の端部とインバー合金製のミラー支持体
24との接合部の断面を示している。この外囲器21と
ミラー支持体24との接合は第2図の場合とほぼ同様に
して行なった。すなわち、外囲器21を混酸、純水およ
びアルコール溶液に順次浸漬して清浄としたのち、空気
中で約500°0に加熱して有機物を焼却し除去した。
ク製外囲器21の端部とインバー合金製のミラー支持体
24との接合部の断面を示している。この外囲器21と
ミラー支持体24との接合は第2図の場合とほぼ同様に
して行なった。すなわち、外囲器21を混酸、純水およ
びアルコール溶液に順次浸漬して清浄としたのち、空気
中で約500°0に加熱して有機物を焼却し除去した。
そして、接合すべき端部表面にCu層I Q 、 Cu
層11およびAuNl2を順次被着したのち、表面を清
浄としたミラー支持体を対向させ接合部にセラソルザを
供給し、超音波振動はんだごてを用いて溶着した。この
ようにして接合され次外囲器21とミラー支持体24と
はレーザ装置使用上十分な接着強度、気密性および耐熱
性を有したものとなった。
層11およびAuNl2を順次被着したのち、表面を清
浄としたミラー支持体を対向させ接合部にセラソルザを
供給し、超音波振動はんだごてを用いて溶着した。この
ようにして接合され次外囲器21とミラー支持体24と
はレーザ装置使用上十分な接着強度、気密性および耐熱
性を有したものとなった。
上記実施例においては、ガラスまたはセラミックに接合
される金属部品は、単にその表面を清浄として用いられ
たが、清浄後表面に金めっきjfAft設けはんだとの
合金化を行なえばよシ接宥強度の大きい封止を行うこと
ができる。また、金属部品はインバー合金に限らすアル
ミニウム、銅等はんだ付は可能な全ての金H4f、用い
ることができる。
される金属部品は、単にその表面を清浄として用いられ
たが、清浄後表面に金めっきjfAft設けはんだとの
合金化を行なえばよシ接宥強度の大きい封止を行うこと
ができる。また、金属部品はインバー合金に限らすアル
ミニウム、銅等はんだ付は可能な全ての金H4f、用い
ることができる。
そして、使用するはんだKよp封止部の耐熱性は約20
0℃までのものとすることが可能である。
0℃までのものとすることが可能である。
なお、はんだ付けに超音波振動はんだごてによる接着法
を用いたが、はんだの薄片を接合部にはさみ、接合物を
加圧しながら加熱する熱圧着法を用いることも可能であ
る。
を用いたが、はんだの薄片を接合部にはさみ、接合物を
加圧しながら加熱する熱圧着法を用いることも可能であ
る。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、気密性に
優れ、封止部が200″0程度までの耐熱性を有する、
ガラスまたはセラミックと金属部品との気密封止が可能
となシ、作業も比較的簡単であるためその効果は大きい
。
優れ、封止部が200″0程度までの耐熱性を有する、
ガラスまたはセラミックと金属部品との気密封止が可能
となシ、作業も比較的簡単であるためその効果は大きい
。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の気密封止方法を説明するための図、第2
図は本発明の一実施例を説明するための図、第3図は本
発明の他の実施例を説明するための図、第4図は第3図
におけるA部の拡大図である0 1・・・・・・フェースプレート、2・・団・シリンダ
、3・・・・・・金属板、4・・・・・・金属金具、5
・・・・・・接合面、6・・・・・・光導電膜、lO・
・・・・・クロム層、11・旧・・銅層、12・・・・
・・金めつき層、13・旧・・はんだ層、20・・・・
・・外部ミラー型ガスレーザ装置、21・・・・・・外
囲器、22・・・・・・レーザ管、23・・・・・・ミ
ラー、24・・団・ミラー支持体。 9− f7. 7 図 Yz図
図は本発明の一実施例を説明するための図、第3図は本
発明の他の実施例を説明するための図、第4図は第3図
におけるA部の拡大図である0 1・・・・・・フェースプレート、2・・団・シリンダ
、3・・・・・・金属板、4・・・・・・金属金具、5
・・・・・・接合面、6・・・・・・光導電膜、lO・
・・・・・クロム層、11・旧・・銅層、12・・・・
・・金めつき層、13・旧・・はんだ層、20・・・・
・・外部ミラー型ガスレーザ装置、21・・・・・・外
囲器、22・・・・・・レーザ管、23・・・・・・ミ
ラー、24・・団・ミラー支持体。 9− f7. 7 図 Yz図
Claims (4)
- (1) ガラスまたはセラミックの弐面に第1の金属層
、第2の金属層を順次積層する工程と、前記第2の金網
表面と接合すべき金属部材の表面とをはんだで溶着する
工程とを含むことを特徴とする気密封止方法。 - (2)前記第1の金属層の材質がチタン、パラジウム、
クロム、タンタル、ニッケルクロム合金ノいずれかであ
る特許請求の範囲第(1)項記載の気密封止方法。 - (3)前記第2の金属ノーの材質が金、すす、銀のいず
れかである%F請求の範囲第(1)項または第(2)項
記載の気密封止方法。 - (4)前記第1の金属層と第2の金属層の間に、少なく
とも一槓以上の中間金属層を設ける特許請求の範囲第(
1)項、第(2)項、または第3項記載の気密封止方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59073441A JPS60215585A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 気密封止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59073441A JPS60215585A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 気密封止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215585A true JPS60215585A (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=13518327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59073441A Pending JPS60215585A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 気密封止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215585A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61140039A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-27 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | X線像増幅器 |
| WO1996026808A1 (de) * | 1995-03-01 | 1996-09-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Untermetallisierung für lotmaterialien |
| WO2007099959A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Hamamatsu Photonics K.K. | 光電子増倍管および放射線検出装置 |
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