JPS6021615B2 - フイルム状物の処理方法 - Google Patents
フイルム状物の処理方法Info
- Publication number
- JPS6021615B2 JPS6021615B2 JP10873577A JP10873577A JPS6021615B2 JP S6021615 B2 JPS6021615 B2 JP S6021615B2 JP 10873577 A JP10873577 A JP 10873577A JP 10873577 A JP10873577 A JP 10873577A JP S6021615 B2 JPS6021615 B2 JP S6021615B2
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- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- film
- reaction
- gas
- roll
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフィルム状物の処理方法に関し、特に劇物又は
毒性の強い物質のうち気体状でフィルム状物に作用させ
る方法に関する。
毒性の強い物質のうち気体状でフィルム状物に作用させ
る方法に関する。
通常フィルム状物の表面特性を改良するためや、フィル
ム状物にイオン交換性を付与するためその他でフィルム
状の物質例えばプラスチック類のフィルムやシート等を
処理する必要が生ずる。
ム状物にイオン交換性を付与するためその他でフィルム
状の物質例えばプラスチック類のフィルムやシート等を
処理する必要が生ずる。
例えばポリプロピレンフィルムの漏れを改良するため、
該フィルムの少なくとも表面をクロルスルホン化する場
合、イオン交換膜の少なくとも表面近傍のィオワ交換容
量を低下させ、対立イオンの輸率を低下させるとか或い
は同種イオンに対して電荷の小さいイオンを選択的に透
過せしめるようにするか又は一層の改良を行うための中
間処理物として得るため、五塩化リン蒸気で処理する場
合等である。フィルム状物に対する化学処理の特徴は、
一枚が極めて広い表面を有した固体であり、その表面又
は内部まで均一に反応させることが困難な点にある。
該フィルムの少なくとも表面をクロルスルホン化する場
合、イオン交換膜の少なくとも表面近傍のィオワ交換容
量を低下させ、対立イオンの輸率を低下させるとか或い
は同種イオンに対して電荷の小さいイオンを選択的に透
過せしめるようにするか又は一層の改良を行うための中
間処理物として得るため、五塩化リン蒸気で処理する場
合等である。フィルム状物に対する化学処理の特徴は、
一枚が極めて広い表面を有した固体であり、その表面又
は内部まで均一に反応させることが困難な点にある。
通常大面積の膜状物を均一に化学処理するためには大き
な反応器が必要であり、そのため極めて大量の反応物を
用いなければならなかった。
な反応器が必要であり、そのため極めて大量の反応物を
用いなければならなかった。
従って劇物や毒物を反応物として用いる場合には、その
取扱量の増加により危険でもあり、また種々の制約も受
けることになるので、より簡便な方法が望まれていたの
である。そこで本発明は、連続的に反応させることによ
り、長尺のフィルム状物にあっても、極めて均一に反応
させる方法を提供するものである。
取扱量の増加により危険でもあり、また種々の制約も受
けることになるので、より簡便な方法が望まれていたの
である。そこで本発明は、連続的に反応させることによ
り、長尺のフィルム状物にあっても、極めて均一に反応
させる方法を提供するものである。
以下本発明について説明する。本発明はフィルム状物に
就中劇物又は毒物の気体反応物を連続的に反応させる方
法として、不活性ガスを充満した第１室とこれに蓮らな
る反応室（第２室ともいう）と更に該反応室に蓮らなる
不活性ガスを充満した第３室からなり、第１室入口、第
３室出口及び各室の境界に夫々一対のシールロールを備
えた反応装置を用い、第２室に気体反応物を導入し、フ
ィルム状物は第１室から順次第３室へ向けて移動させな
がら反応させる。
就中劇物又は毒物の気体反応物を連続的に反応させる方
法として、不活性ガスを充満した第１室とこれに蓮らな
る反応室（第２室ともいう）と更に該反応室に蓮らなる
不活性ガスを充満した第３室からなり、第１室入口、第
３室出口及び各室の境界に夫々一対のシールロールを備
えた反応装置を用い、第２室に気体反応物を導入し、フ
ィルム状物は第１室から順次第３室へ向けて移動させな
がら反応させる。
勿論反応に際して室温以上を必要とする場合には反応室
に加熱手段を備えることも可能であり、更に第１室及び
（又は）第３室にも加熱手段を備えてもよい。また各室
のガスは、夫々室外のホルダーや発生器との間を循環さ
せるようにしておくのも便利である。更に第１室及び第
３室は、中央に位置する反応室内の劇物又は毒物が外部
に漏洩するのを防止するシール室であるため、これらの
室に充満する不活性ガスに加えて、反応室内ガスと反応
して無害となる性質のガスを存在させておくのも有効で
ある。
に加熱手段を備えることも可能であり、更に第１室及び
（又は）第３室にも加熱手段を備えてもよい。また各室
のガスは、夫々室外のホルダーや発生器との間を循環さ
せるようにしておくのも便利である。更に第１室及び第
３室は、中央に位置する反応室内の劇物又は毒物が外部
に漏洩するのを防止するシール室であるため、これらの
室に充満する不活性ガスに加えて、反応室内ガスと反応
して無害となる性質のガスを存在させておくのも有効で
ある。
即ち、例えば反応物として塩素を用いる場合第１室及び
第３室には、少量のアンモニアを含む窒素ガスを充満さ
せておけばよい。このような反応性ガスは、第２室内の
反応物との関係から、当業者が容易に選択し得るもので
ある。更に、第１室及び（又は）第３室はその内部を多
萎化し、各境界をシールロールその他のシール手段を施
して、外部に反応物が漏れるのを防止することも必要に
応じて行える。以下図面について説明する。
第３室には、少量のアンモニアを含む窒素ガスを充満さ
せておけばよい。このような反応性ガスは、第２室内の
反応物との関係から、当業者が容易に選択し得るもので
ある。更に、第１室及び（又は）第３室はその内部を多
萎化し、各境界をシールロールその他のシール手段を施
して、外部に反応物が漏れるのを防止することも必要に
応じて行える。以下図面について説明する。
第１図は本発明に用いる装置の側面図である。
１が第１室、２が反応室、３が第３室であり、フィルム
状物４が矢印に示す如く、第１室から第２室、第３室へ
と進む。
状物４が矢印に示す如く、第１室から第２室、第３室へ
と進む。
通常第１室入口ロール５及び第３室出口ロール６は比較
的軟貿のゴムで構成するのがよい。そしてフィルムに充
分に密着し、ガスの漏洩を防止する。また各室間のロー
ル７及び８はガス反応物に対して、耐久性のあるもので
構成するのが望ましい。また各ロール共に例えば９で示
す如き、ロールカバー９を付け、ロールが該カバーの内
側を摺動する如く構成することにつて、ロ−ルと各室の
隔壁との間からガスが漏洩することを防止するのも有効
である。更に第１室内にテーラーロール又は子熱ロール
１０を付設することにより、フィルム面を平滑に仕上げ
るとか又は均一な子熱を行うなどに役立てることもでき
る。第２図は本発明に用いる装置の例の平面図である。
的軟貿のゴムで構成するのがよい。そしてフィルムに充
分に密着し、ガスの漏洩を防止する。また各室間のロー
ル７及び８はガス反応物に対して、耐久性のあるもので
構成するのが望ましい。また各ロール共に例えば９で示
す如き、ロールカバー９を付け、ロールが該カバーの内
側を摺動する如く構成することにつて、ロ−ルと各室の
隔壁との間からガスが漏洩することを防止するのも有効
である。更に第１室内にテーラーロール又は子熱ロール
１０を付設することにより、フィルム面を平滑に仕上げ
るとか又は均一な子熱を行うなどに役立てることもでき
る。第２図は本発明に用いる装置の例の平面図である。
フィルム状物４は例えば駆動ロール１１及び１２により
第１室、第２室、第３室の順に送られる。第１室及び第
３室内のガスはガスホルダー１３よりパイプ２０１こよ
り、まず第１室へ不活性ガスを導入し、第１室からはパ
イプ２１により第３室へ、次いで２２よりガス洗漆器１
４により反応室より漏れて出た反応物を除去し、パイプ
２３によってホルダーを経て、再度第１室へと循環させ
る。勿論これらの循環は逆廻りであってもよいし、ガス
を加熱、加湿する手段を付加してあってもよい。また第
１室ガスは加熱し、第３室ガスは冷却するように各々刻
々に循環させることもできる。また第２図の反応室へは
、劇、毒物ガスホルダ−１５よりパイプ２４によって反
応物を供給し、パイプ２５より循環させる。もし、反応
物が常温でガス状でない場合にはホルダーに加熱手段を
施し、蒸発又は昇華させてガス状とし、反応室に供給す
ればよい。また場合によっては、反応物を均一に反応室
内に供給するため、キヤリヤーガスとして不活性ガスを
同伴させてもよい。反応条件は、すでに述べた如く、反
応室内温度を適宜コントロールするほかフィルムの移動
速度をコントロールして任意にかえることができる。
第１室、第２室、第３室の順に送られる。第１室及び第
３室内のガスはガスホルダー１３よりパイプ２０１こよ
り、まず第１室へ不活性ガスを導入し、第１室からはパ
イプ２１により第３室へ、次いで２２よりガス洗漆器１
４により反応室より漏れて出た反応物を除去し、パイプ
２３によってホルダーを経て、再度第１室へと循環させ
る。勿論これらの循環は逆廻りであってもよいし、ガス
を加熱、加湿する手段を付加してあってもよい。また第
１室ガスは加熱し、第３室ガスは冷却するように各々刻
々に循環させることもできる。また第２図の反応室へは
、劇、毒物ガスホルダ−１５よりパイプ２４によって反
応物を供給し、パイプ２５より循環させる。もし、反応
物が常温でガス状でない場合にはホルダーに加熱手段を
施し、蒸発又は昇華させてガス状とし、反応室に供給す
ればよい。また場合によっては、反応物を均一に反応室
内に供給するため、キヤリヤーガスとして不活性ガスを
同伴させてもよい。反応条件は、すでに述べた如く、反
応室内温度を適宜コントロールするほかフィルムの移動
速度をコントロールして任意にかえることができる。
またフィルムの片面のみを処理したい場合には、２枚の
フィルムを重ねて供給するとよい。更に完全を企するに
は２枚のフィルムの両側端を接着テープで接着するとか
場合によってはミシンで縫い合せる等しておけばよい。
勿論１枚であってもフィルムの裏を反応室底に接する如
くすれば実質的に片面だけ処理し得る。以下本発明を実
施した例を示す。
フィルムを重ねて供給するとよい。更に完全を企するに
は２枚のフィルムの両側端を接着テープで接着するとか
場合によってはミシンで縫い合せる等しておけばよい。
勿論１枚であってもフィルムの裏を反応室底に接する如
くすれば実質的に片面だけ処理し得る。以下本発明を実
施した例を示す。
実施例 １
ほぼ第１図に示す如き装置を用い（但しロール１０はな
い）第１室に二塩化ェタン蒸気をまた第３室に窒素を流
し、第２室は、１００℃で塩素及び亜硫酸ガスを１：１
（モル）で循環供給する。
い）第１室に二塩化ェタン蒸気をまた第３室に窒素を流
し、第２室は、１００℃で塩素及び亜硫酸ガスを１：１
（モル）で循環供給する。
本装置によりポリプロピレンフィルムを反応時間が３０
分になるようゆっくりと移動させた。得られたプリント
性が改善されていた。実施例 ２ イオン交換基としてスルホン基が側鎖にあるパーフロロ
系イオン交換膜を用い、第２図における反応物ホルダー
１５で五塩化リンを加熱昇華し、窒素をキャリャーガス
として１６０ｑｏで１時間反応させた。
分になるようゆっくりと移動させた。得られたプリント
性が改善されていた。実施例 ２ イオン交換基としてスルホン基が側鎖にあるパーフロロ
系イオン交換膜を用い、第２図における反応物ホルダー
１５で五塩化リンを加熱昇華し、窒素をキャリャーガス
として１６０ｑｏで１時間反応させた。
（第１室及び第３室は共に窒素を流し、第１室は１４０
ｑＣ、第３室は約１００ｏｏ）得られたイオン交換膜を
塩基性染料で染色したところ、表面はほとんど染まらな
かったことから、表面のイオン交換基が他の官能基に変
転したことがわかった。このフィルムの一部を切り取り
、苛性ソーダ水溶液中で加熱した後再度染色テストした
ところ、表面まで均一に着色した。従って、五塩化リン
処理したイオン交換膜は、その表面がクロルスルホン基
になっていたことが理解される。
ｑＣ、第３室は約１００ｏｏ）得られたイオン交換膜を
塩基性染料で染色したところ、表面はほとんど染まらな
かったことから、表面のイオン交換基が他の官能基に変
転したことがわかった。このフィルムの一部を切り取り
、苛性ソーダ水溶液中で加熱した後再度染色テストした
ところ、表面まで均一に着色した。従って、五塩化リン
処理したイオン交換膜は、その表面がクロルスルホン基
になっていたことが理解される。
第１図は本発明に用いる装置の一例の側面図であり、第
２図は同じく平面図である。 図中１，２，３は夫々室を表し、４はフィルム状物、５
，６，７及び８は夫々一対のシールロールであり、１
１，１２は駆動ロールである。 １３は不活性ガスホルダー、１４はガス洗族器、１５は
反応物ホルダーである。 外／図 ガＺ図
２図は同じく平面図である。 図中１，２，３は夫々室を表し、４はフィルム状物、５
，６，７及び８は夫々一対のシールロールであり、１
１，１２は駆動ロールである。 １３は不活性ガスホルダー、１４はガス洗族器、１５は
反応物ホルダーである。 外／図 ガＺ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フイルム状物に気体反応物を連続的に反応させる方
法において、不活性ガスを充満した第１室と、これにつ
ならる反応室（第２室）と、更に該反応室につらなる不
活性ガスを充満した第３室の３室からなり、第１室入口
、第３室出口及び各室の境界部に夫々一対のシールロー
ルを備え、該ロールには、ロールカバーを付設し、ロー
ルが、該カバーの内側を摺動する如く構成した反応装置
を用い第２室に気体反応物を導入し、フイルム状物は第
１室から順次第３室へ向けて移動させながら反応させる
ことを特徴とするフイルム状物の処理方法。 ２ 気体反応物が劇物又は毒物である特許請求の範囲第
１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10873577A JPS6021615B2 (ja) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | フイルム状物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10873577A JPS6021615B2 (ja) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | フイルム状物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5443272A JPS5443272A (en) | 1979-04-05 |
| JPS6021615B2 true JPS6021615B2 (ja) | 1985-05-28 |
Family
ID=14492188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10873577A Expired JPS6021615B2 (ja) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | フイルム状物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021615B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61141616U (ja) * | 1985-02-22 | 1986-09-02 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02258049A (ja) * | 1989-09-08 | 1990-10-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 真空処理装置用シール装置 |
-
1977
- 1977-09-12 JP JP10873577A patent/JPS6021615B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61141616U (ja) * | 1985-02-22 | 1986-09-02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5443272A (en) | 1979-04-05 |
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