JPS60219042A - Permeability-resistant transparent synthetic resin body - Google Patents

Permeability-resistant transparent synthetic resin body

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JPS60219042A
JPS60219042A JP7550884A JP7550884A JPS60219042A JP S60219042 A JPS60219042 A JP S60219042A JP 7550884 A JP7550884 A JP 7550884A JP 7550884 A JP7550884 A JP 7550884A JP S60219042 A JPS60219042 A JP S60219042A
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synthetic resin
resin body
film
amorphous
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山中 計
河合 重征
福本 義行
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は耐透湿性合成樹脂体、特に透明合成樹脂体基材
上に耐透湿性に優れた透明薄膜の設けられた合成樹脂体
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field) The present invention relates to a moisture permeable synthetic resin body, particularly to a synthetic resin body having a transparent thin film having excellent moisture permeability on a transparent synthetic resin base material.

(従来技術) 包装材料、特に食品、薬品、化学製品などの包装に用い
られる包装材料は、内容物の変質を防ぐために耐透湿機
能をもっていることが必要である。
(Prior Art) Packaging materials, especially packaging materials used for packaging foods, medicines, chemical products, etc., must have moisture permeation resistance to prevent the contents from deteriorating in quality.

電子工業分野においても防湿性の保護膜を有するEL素
子などが必要である。そのために、従来は例えば合成樹
脂基材フィルムにアルミニウム箔を貼り合わせてアルミ
ニウム箔の耐透湿特性を利用することが行われている。
In the field of electronics industry, there is also a need for EL elements having moisture-proof protective films. For this purpose, conventionally, for example, aluminum foil is bonded to a synthetic resin base film to take advantage of the moisture permeability property of the aluminum foil.

この場合の包装材料は。The packaging material in this case is.

耐透湿性については優れているが合成樹脂基材フィルム
の透明性が損なわれ内容物を透視することができない。
Although it has excellent moisture permeation resistance, the transparency of the synthetic resin base film is impaired, making it impossible to see through the contents.

しかも、フレキシビリティが極端に低減するためピンホ
ールを生じるおそれがある。
Moreover, since the flexibility is extremely reduced, pinholes may occur.

包装材料の別の例としては、それ自体が耐透湿性を有す
る塩化ビニリデン系・フッ素系樹脂フィルムがある。こ
れらフィルムは耐透湿性を厳しく要求される用途にはフ
ィルム厚を厚くしなければならず、製造作業にも種々の
問題が生じる。
Another example of a packaging material is a vinylidene chloride/fluororesin film which itself is moisture permeable. For applications where moisture permeation resistance is strictly required, these films must be made thicker, which poses various problems in manufacturing operations.

また、特開昭51−114483号公報にはポリエステ
ルフィルムの表面にアルミニウムを蒸着することにより
防湿性を向上させる試みがなされている。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-114483 attempts to improve moisture resistance by depositing aluminum on the surface of a polyester film.

しかし、アルミ蒸着膜は不透明であるために、これを包
装材料に使用したときには内容物を透視することができ
ない。しかも、蒸着されたアルミニウムと基材フィルム
との密着強度も比較的低いためその界面において剥離の
生じるおそれがある。
However, since the aluminum vapor-deposited film is opaque, when it is used as a packaging material, the contents cannot be seen through. Moreover, since the adhesion strength between the deposited aluminum and the base film is relatively low, there is a risk that peeling may occur at the interface.

このような従来の包装材料の欠点を改良すべく。In order to improve these shortcomings of conventional packaging materials.

例えば特公昭53−12953号公報にはプラスチック
表面にケイ素酸化物を蒸着した透明防湿フィルムが提案
されている。しかしながら、ケイ素酸化物は水と接触す
ると徐々に溶解するなめ、これを蒸着したフィルムは充
分な耐透湿性能を存し得ない。
For example, Japanese Patent Publication No. 53-12953 proposes a transparent moisture-proof film in which silicon oxide is vapor-deposited on a plastic surface. However, since silicon oxide gradually dissolves when it comes into contact with water, a film deposited with silicon oxide may not have sufficient moisture permeation resistance.

経時的に性能が劣化するという欠点もある。特開昭54
−15208’9号公報には金属、金属酸化物および酸
化ケイ素を蒸着したポリエステルフィルムが開示されて
いる。この蒸着フィルムは基材にポリエステルフィルム
が用いられたときのみその耐透湿性能を発現しうるにす
ぎない。
Another drawback is that performance deteriorates over time. Unexamined Japanese Patent Publication 1973
-15208'9 discloses a polyester film on which metals, metal oxides, and silicon oxides are vapor-deposited. This vapor-deposited film can exhibit its moisture permeability resistance only when a polyester film is used as the base material.

電子工業分野においても、近年ますます、EL素子や太
陽電池などに透明でしかも高度の耐透湿性能を有する合
成樹脂体が要求されつつある。
In the field of electronics industry, there has been an increasing demand in recent years for synthetic resin bodies that are transparent and have a high degree of moisture permeation resistance for EL elements, solar cells, and the like.

(発明の目的) 本発明の目的は、極めて優れた耐透湿性を有する合成樹
脂体を提供することにある。本発明の他の目的は耐透湿
性にバラツキのない透明合成樹脂体を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、透明性に優れた耐透湿
性合成樹脂体を提供することにある。
(Objective of the Invention) An object of the present invention is to provide a synthetic resin body having extremely excellent moisture permeability. Another object of the present invention is to provide a transparent synthetic resin body with uniform moisture permeability resistance. Still another object of the present invention is to provide a moisture-resistant synthetic resin body with excellent transparency.

(発明の構成) 本発明は1合成樹脂基材表面にマグネシウム酸化物薄膜
とともにアモルファス状透明薄膜が設けられると、水分
の透過が極度に抑制され耐透湿性に優れた合成樹脂体が
得られるとの発明者の知見にもとづいて完成された。そ
れゆえ本発明の防湿性透明合成樹脂体は透明合成樹脂基
材の少なくとも片面にマグネシウム酸化物透明薄膜とア
モルファス状透明薄膜とが少なくとも一層ずつ積層され
(Structure of the Invention) The present invention provides (1) that when an amorphous transparent thin film is provided on the surface of a synthetic resin base material together with a magnesium oxide thin film, moisture permeation is extremely suppressed and a synthetic resin body with excellent moisture permeability can be obtained. It was completed based on the knowledge of the inventor. Therefore, the moisture-proof transparent synthetic resin body of the present invention has at least one magnesium oxide transparent thin film and at least one amorphous transparent thin film laminated on at least one side of a transparent synthetic resin base material.

そのことにより上記目的が達成される。This achieves the above objective.

本発明の合成樹脂体のベースとなる透明合成樹脂基材(
以下、基材という)としては2例えば。
A transparent synthetic resin base material (
There are two examples of examples (hereinafter referred to as base materials).

ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチラール
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ
アミド、セロハンなどの透明な合成樹脂体が使用される
。これら合成樹脂は2例えば。
Transparent synthetic resin bodies such as polyvinyl chloride, polystyrene, polyvinyl butyral, polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, cellophane, etc. are used. Examples of these synthetic resins are 2.

フィルム状、板状、レンズ状などに成形される。It is molded into films, plates, lenses, etc.

基材として可撓性フィルムを使用する場合には。When using a flexible film as the base material.

通常、厚さが5〜3ooμm好ましくは5〜1oo、c
Imのフィルムが用いられる。このようなフィルムに金
属酸化物などを蒸着する場合には、一般に、冷却ロール
を用いた巻取り工程が必要である。基材フィルムの厚さ
が過度に薄いと、この巻取り工程において、しわや亀裂
が生じゃすくなる。フィルム厚が300 μmを超える
と、柔軟性に乏しくなり連続巻取りが困難になる。
Usually, the thickness is 5 to 3 ooμm, preferably 5 to 1oo, c
A film of Im is used. When depositing a metal oxide or the like onto such a film, a winding process using a cooling roll is generally required. If the thickness of the base film is too thin, wrinkles and cracks are likely to occur during this winding process. When the film thickness exceeds 300 μm, flexibility becomes poor and continuous winding becomes difficult.

この透明合成樹脂基村上に設けられるマグネシウム酸化
物透明薄膜(以下、マグネシウム酸化物薄膜という)や
アモルファス状透明薄膜(以下。
A magnesium oxide transparent thin film (hereinafter referred to as "magnesium oxide thin film") or an amorphous transparent thin film (hereinafter referred to as "magnesium oxide thin film") provided on this transparent synthetic resin substrate.

アモルファス状薄膜という)は蒸着膜である。ここでい
うアモルファス状透明薄膜とは後述の組成物の蒸着膜で
あり、かつこの蒸着膜に50八昼上の大きさの結晶が存
在せず、電子線回折でハローパターンのみが観察される
状態の透明薄膜をいう。
(referred to as an amorphous thin film) is a vapor-deposited film. The amorphous transparent thin film referred to here is a vapor deposited film of the composition described below, and a state in which there are no crystals larger than 50 days in this vapor deposited film, and only a halo pattern is observed by electron beam diffraction. A transparent thin film.

このマグネシウム酸化物薄膜は3例えば1反応蒸着法に
より形成される。真空蒸着法によれば。
This magnesium oxide thin film is formed by a three-reaction vapor deposition method, for example. According to vacuum evaporation method.

真空槽内で例えば酸化マグネシウムが電子銃で加熱され
て蒸発し蒸着膜を形成する。反応蒸着法によれば、真空
槽内で金属マグネシウムが蒸発し。
For example, magnesium oxide is heated with an electron gun in a vacuum chamber and evaporated to form a deposited film. According to the reactive vapor deposition method, metallic magnesium is evaporated in a vacuum chamber.

これが槽内に導入された酸素と反応してマグネシウム酸
化物の蒸着膜を形成する。いずれの方法も水などを水蒸
気の形で微量導入することにより。
This reacts with oxygen introduced into the tank to form a deposited film of magnesium oxide. Both methods involve introducing a small amount of water in the form of steam.

形成される蒸着膜の耐透湿性を向上させることができる
The moisture permeability of the deposited film that is formed can be improved.

基材上にアモルファス状薄膜を形成する組成物は、主と
して、 SiOや5i(hなどのケイ素酸化物。
The composition that forms an amorphous thin film on a substrate is mainly a silicon oxide such as SiO or 5i(h).

酸化ホウ素、酸化バリウムおよび酸化アルミニウムのう
ちの少なくとも一種を含有する。この組成物が特に、二
酸化ケイ素と酸化ホウ素に加えて。
Contains at least one of boron oxide, barium oxide, and aluminum oxide. In addition to this composition, especially silicon dioxide and boron oxide.

酸化バリウムおよび/もしくは酸化アルミニウムを含有
し、かつそのモル比が二酸化ケイ素2〜4゜酸化ホウ素
1〜2.そして酸化バリウムと酸化アルミニウムとの総
量が0.3〜1のとき、得られる透明合成樹脂体は耐透
湿性に著しく優れる。しかも、その耐透湿性にバラツキ
がない。組成物の成分比が上記の値から外れると層分離
を起こしやすくなり、耐透湿性が低下する。酸化ホウ素
が過剰に含まれると形成される薄膜は耐透湿性に劣る。
Contains barium oxide and/or aluminum oxide, and has a molar ratio of 2 to 4 degrees of silicon dioxide and 1 to 2 degrees of boron oxide. When the total amount of barium oxide and aluminum oxide is 0.3 to 1, the resulting transparent synthetic resin body has excellent moisture permeability. Moreover, there is no variation in its moisture permeability. When the component ratio of the composition deviates from the above values, layer separation tends to occur and moisture permeability decreases. The thin film formed when boron oxide is contained in excess has poor moisture permeability.

酸化バリウムと酸化アルミニウムの合計量が過少である
と薄膜は耐水性に劣る。アモルファス状透明薄膜は上記
の成分に特定される必要はなく、それ以外の成分を含有
していても本発明の目的は達成される。しかし、これら
他の成分として1例えば、酸化ナトリウムなどのアルカ
リ金属酸化物が多量に含まれるとその親水性のために耐
透湿性が損なわれる。また、真空蒸着を行って得られる
蒸着薄膜の成分含量にバラツキを生じやすい。
If the total amount of barium oxide and aluminum oxide is too small, the thin film will have poor water resistance. The amorphous transparent thin film does not need to be limited to the above-mentioned components, and the object of the present invention can be achieved even if it contains other components. However, if a large amount of an alkali metal oxide such as sodium oxide is included as one of these other components, moisture permeability will be impaired due to its hydrophilic nature. Further, the component content of the vapor-deposited thin film obtained by performing vacuum vapor deposition tends to vary.

上記アモルファス状薄膜基材表面に形成される方法とし
ては、スパッタリング法が好ましい。スパッタリングの
蒸着源として上記組成物を用いるとほぼ同じ組成のアモ
ルファス状薄膜が形成される。真空蒸着法、イオンブレ
ーティング法によっても、アモルファス状薄膜が形成さ
れうる。真空蒸着法では、一般に、蒸気圧の異なる混合
物質をそのままの組成で薄膜層に形成するのは困難であ
るとされている。しかし2本発明者らは上記組成物をあ
らかじめ電気炉で溶融しガラス化して得た蒸発材を使用
し、これを電子銃加熱方式で蒸発させれば、はぼ同じ組
成の蒸着膜が得られることを確認した。混合物を真空蒸
着膜する時に用いられるフラッシュ蒸着法によっても、
上記の組成の蒸着膜が形成されうる 本発明の耐透湿性透明合成樹脂体は、基材の少なくとも
片面に上記二種類の蒸着膜が順次もしくはサンドインチ
状に積層されて形成される。例えば、第1図に示すよう
に透明合成樹脂フィルム基材1の表面にアモルファス状
薄膜2が形成され。
As a method for forming the amorphous thin film on the surface of the base material, a sputtering method is preferable. When the above composition is used as a deposition source for sputtering, an amorphous thin film having substantially the same composition is formed. An amorphous thin film can also be formed by a vacuum evaporation method or an ion blating method. In the vacuum evaporation method, it is generally considered difficult to form a thin film layer of mixed substances having different vapor pressures with the same composition. However, the present inventors used an evaporation material obtained by melting the above composition in an electric furnace and vitrifying it in advance, and evaporated it using an electron gun heating method. It was confirmed. The flash evaporation method used when vacuum-depositing mixtures also allows
The moisture-permeable transparent synthetic resin body of the present invention on which a vapor-deposited film having the above-mentioned composition can be formed is formed by laminating the above-mentioned two types of vapor-deposited films sequentially or in a sandwich pattern on at least one side of a base material. For example, as shown in FIG. 1, an amorphous thin film 2 is formed on the surface of a transparent synthetic resin film base material 1.

さらにその上にマグネシウム酸化物薄膜3が形成される
。これらアモルファス状透明薄膜2とマグネシウム酸化
物薄膜3とが、第2図に示すように。
Furthermore, a magnesium oxide thin film 3 is formed thereon. These amorphous transparent thin film 2 and magnesium oxide thin film 3 are formed as shown in FIG.

第1図とは逆の順序で形成されていてもよい。あるいは
、第3図に示すように、二層のマグネシウム酸化物薄膜
3.3の間にアモルファス状薄膜2力サンドインチ状に
配置されてもよい。三層以上の多層構造に構成すると得
られる合成樹脂体の耐透湿性は飛躍的に向上する。
They may be formed in the reverse order to that shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 3, an amorphous thin film may be arranged in the form of a two-layer sandwich between two magnesium oxide thin films 3.3. The moisture permeability resistance of the resulting synthetic resin body is dramatically improved when it has a multilayer structure of three or more layers.

マグネシウム酸化物薄膜をX線回折9及射型高速電子線
回折(RHEED)、走査電子顕微鏡などの手段で観察
すると、この薄膜は多結晶構造を有することがわかる。
When a magnesium oxide thin film is observed by means such as X-ray diffraction, high-speed electron diffraction (RHEED), and a scanning electron microscope, it is found that this thin film has a polycrystalline structure.

基材上にマグネシウム酸化物薄膜を形成しただけでは水
の分子はこの結晶の間を通りぬけてしまい、充分な耐透
湿性が得られない。アモルファス状薄膜には結晶が存在
してもその結晶粒子は非常に小さい。それゆえ、このア
モルファス状薄膜とマグネシウム酸化物薄膜とを積層す
ると、水分子の通過する経路が効果的に遮断され耐透湿
性に極めて優れた合成樹脂体が得られる。
If only a thin magnesium oxide film is formed on the base material, water molecules will pass through between the crystals, making it impossible to obtain sufficient moisture permeability. Even if crystals exist in an amorphous thin film, the crystal grains are very small. Therefore, when this amorphous thin film and a magnesium oxide thin film are laminated, the path through which water molecules pass is effectively blocked, and a synthetic resin body with extremely excellent moisture permeability resistance can be obtained.

マグネシウム酸化物薄膜がアモルファス状薄膜の上に形
成されると、マグネシウム酸化物薄膜の結晶粒子の大き
さは例えばマグネシウム酸化物薄膜がプラスチック基材
上に形成されたときよりもはるかに小さくなる。そのた
め、得られる合成樹脂体の耐透湿性はさらに向上する。
When a magnesium oxide thin film is formed on an amorphous thin film, the crystal grain size of the magnesium oxide thin film is much smaller than, for example, when the magnesium oxide thin film is formed on a plastic substrate. Therefore, the moisture permeability of the resulting synthetic resin body is further improved.

例えば厚さ15μmのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを基材としこれにマグネシウム酸化物の薄膜を形成
させるとその透湿度は0.5g/n(・24hrs、で
ある。
For example, if a thin film of magnesium oxide is formed on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 15 μm as a base material, the moisture permeability thereof is 0.5 g/n (·24 hrs).

同基材フィルムにアモルファス状薄膜を形成させるとそ
の透湿度は1.5g/rd・24hrs、となる。アモ
ルファス状薄膜をマグネシウム酸化物薄膜ではさむサン
ドインチ状の三層構造薄膜を基材上に形成するとその透
湿度は0.06 g / rd・24hrs、という低
い値になる。
When an amorphous thin film is formed on the same base film, its moisture permeability becomes 1.5 g/rd·24 hrs. When a sandwich-like three-layer thin film consisting of an amorphous thin film sandwiched between magnesium oxide thin films is formed on a base material, its moisture permeability is as low as 0.06 g/rd·24 hrs.

本発明の合成樹脂体はこのように透湿度に優れるため、
各透明薄膜の厚さを後述するように非常に薄くすること
が可能になり9例えば基材がフィルムのときでも蒸着時
のフィルムの熱劣化を極小にすることができ、それによ
って生産性が著しく向上する。
Since the synthetic resin body of the present invention has excellent moisture permeability as described above,
As will be described later, the thickness of each transparent thin film can be made extremely thin.9 For example, even when the base material is a film, thermal deterioration of the film during vapor deposition can be minimized, which significantly increases productivity. improves.

基材上に形成される各薄膜はそれぞれの厚さが100Å
以上で、しかもその合計の厚さが200〜5000人で
ある。薄膜の厚さが薄すぎると一様な連続膜が形成され
得ない。 各薄膜の合計の厚さが5000人を越えても
薄膜の透明性は損なわれないが。
Each thin film formed on the substrate has a thickness of 100 Å.
Above all, the total thickness is 200 to 5,000 people. If the thickness of the thin film is too thin, a uniform continuous film cannot be formed. Even if the total thickness of each thin film exceeds 5,000, the transparency of the thin film will not be impaired.

基材との密着性が悪くなり亀裂や剥離が生じる。Adhesion to the base material deteriorates, causing cracks and peeling.

基材がフィルムであるとき、このように各薄膜の合計が
5000人越える場合には、得られる合成樹脂体にはカ
ールの生じるおそれがある。
When the base material is a film, if the total number of thin films exceeds 5,000, curling may occur in the resulting synthetic resin body.

本発明の合成樹脂体をフィルム状の包装材料として使用
する場合には、この合成樹脂体フィルムはヒートシール
性を有することが好ましい。このような合成樹脂体フィ
ルムの作製は1例えば、フィルム上のアモルファス状薄
膜またはフィルム上のマグネシウム酸化物薄膜の上にヒ
ートシール性を有する合成樹脂フィルムが積層される。
When the synthetic resin body of the present invention is used as a film-like packaging material, it is preferable that the synthetic resin body film has heat sealability. To produce such a synthetic resin film, for example, a heat-sealable synthetic resin film is laminated on an amorphous thin film on the film or a magnesium oxide thin film on the film.

ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムを積層するに
は1例えば、接着剤を用いる法(ドライラミネート法)
1合成樹脂をフィルム状に溶融押出して基材に圧着する
法(エクストルージョンラミネート法)などがある。ド
ライラミネート法では2合成樹脂フィルムの種類により
使用される接着剤が異なるが一般にイソシアネート系の
接着剤が使われる。エクストルージョンラミネート法に
おいては。
To laminate synthetic resin films with heat-sealing properties 1. For example, a method using an adhesive (dry lamination method)
1. There is a method (extrusion lamination method) in which a synthetic resin is melt-extruded into a film and pressure-bonded to a base material. In the dry lamination method, the adhesive used differs depending on the type of the two synthetic resin films, but isocyanate-based adhesives are generally used. In extrusion lamination method.

透明薄膜層にアンカー効果を発現するために通常行われ
る有機チタネート系、イソシアネート系。
Organic titanates and isocyanates are commonly used to create an anchor effect in transparent thin film layers.

ポリエチレンイミン系などのアンカー剤によるアンカー
処理が不要となる。それゆえ、従来のように有機溶剤を
使用する必要がなくなる。製造作業環境を悪化させるこ
とも製品中に有機溶剤が残存することもなくなる。上記
ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムとしては9例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、エチレン系アイオノマーなどが挙げら
れる。このフィルムは透明性を有することはいうまでも
ない。
Anchor treatment using an anchoring agent such as polyethyleneimine becomes unnecessary. Therefore, there is no need to use organic solvents as in the past. This eliminates the possibility of deteriorating the manufacturing work environment or leaving organic solvents in the product. Examples of the synthetic resin film having heat sealability include polyethylene, polypropylene, ethylene/vinyl acetate copolymer, and ethylene ionomer. Needless to say, this film has transparency.

(実施例) 以下に本発明の実施例について説明する。(Example) Examples of the present invention will be described below.

実施例1 (A)アモルファス状薄膜の形成二二酸化ケイ素、酸化
ホウ素、酸化バリウムおよび酸化アルミニウムの混合物
(モル比3 : 1 : 0.67 : 0.33)を
電気炉で溶融しガラス化し溶融物を得た。
Example 1 (A) Formation of amorphous thin film A mixture of silicon dioxide, boron oxide, barium oxide and aluminum oxide (molar ratio 3:1:0.67:0.33) was melted in an electric furnace and vitrified to form a molten product. I got it.

厚さ15μmのポリエチレンテレフタレート(PET)
の透明フィルムを基材として真空槽内に配置した。槽内
をあらがじめ5 Xl0−5トールに排気したのち、上
記の溶融物を蒸発源として電子銃加熱方式で蒸発させ、
ioo人/sec、の成膜速度で基材上に蒸着した。形
成されたアモルファス状薄膜の厚さは500人であり、
その組成をX&51マイクロアナライザーで分析したと
ころ蒸発源の組成とほぼ同様であった。
15μm thick polyethylene terephthalate (PET)
The transparent film was placed in a vacuum chamber as a base material. After the inside of the tank was evacuated to 5 Xl0-5 torr in advance, the above melt was evaporated using an electron gun heating method as an evaporation source.
The film was deposited on the substrate at a deposition rate of 1,000 people/sec. The thickness of the amorphous thin film formed was 500 mm,
When its composition was analyzed using an X&51 microanalyzer, it was found to be almost the same as the composition of the evaporation source.

(B)酸化マグネシウム薄膜の形成: (A)項で得ら
れたアモルファス状薄膜が形成されたフィルムを真空槽
内に配置した。槽内をあらかじめ5Xl0−’)−ルに
排気したのち、純度99.7%の酸化マグネシウムを電
子ビーム加熱方式により蒸発させ、水晶発振式モニター
で成膜速度が約100人/sec、となるように制御し
ながら基材表面に蒸着し第1図に示される耐透湿性透明
合成樹脂体を得たマグネシウム酸化物薄膜の厚さは50
0人とした。
(B) Formation of magnesium oxide thin film: The film on which the amorphous thin film obtained in section (A) was formed was placed in a vacuum chamber. After the inside of the tank was evacuated to 5Xl0-')-1, magnesium oxide with a purity of 99.7% was evaporated using an electron beam heating method, and the film formation rate was adjusted to about 100 people/sec using a crystal oscillation monitor. The thickness of the magnesium oxide thin film, which was vapor-deposited on the surface of the substrate under controlled conditions to obtain the moisture-permeable transparent synthetic resin body shown in Figure 1, was 50 mm.
There were 0 people.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:得られた合成樹
脂体の透明性を観察した。透湿度をJISZ−0208
にもとづいて測定した。薄膜の密着性についてはJIS
’ D=0202にもとづいて試験を行った。その結果
を表1に示す。表1においてGはアモルファス状薄膜2
Mはマグネシウム酸化物薄膜を示し。
(C) Evaluation of moisture-permeable transparent synthetic resin body: The transparency of the obtained synthetic resin body was observed. Moisture permeability JISZ-0208
Measured based on Regarding the adhesion of thin films, JIS
' The test was conducted based on D=0202. The results are shown in Table 1. In Table 1, G is amorphous thin film 2
M indicates a magnesium oxide thin film.

かつ基材上に形成される各薄膜のうち基材上に直接蒸着
された薄膜を第1薄膜とし、この第1薄膜上に蒸着され
る薄膜を第2薄膜とし、そして第2薄膜上の薄膜を第3
薄膜とする。透明性の項において、■は透明性が良好で
あることを示す。薄膜の密着性の項において、◎は薄膜
と基材との密着性が良好であることを示す。
And among the thin films formed on the base material, the thin film directly deposited on the base material is defined as a first thin film, the thin film deposited on this first thin film is defined as a second thin film, and the thin film on the second thin film is defined as a first thin film. The third
Make it a thin film. In the transparency section, ■ indicates good transparency. In the term of adhesion of the thin film, ◎ indicates that the adhesion between the thin film and the base material is good.

1隻炭1 (λ)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じて酸化マグネシウム薄膜を形成した。
1 charcoal 1 (λ) Formation of magnesium oxide thin film: The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B).

(B)アモルファス状薄膜の形成:(A)項で得られた
酸化マグネシウム薄膜上に実施例1 (A)項の方法に
準じてアモルファス状薄膜を形成し。
(B) Formation of amorphous thin film: An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 1.

第2図に示される耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body shown in FIG. 2 was obtained.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

太旌開ユ (A)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じて酸化マグネシウム薄膜を形成した。
Formation of magnesium oxide thin film: The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B).

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
た酸化マグネシウム薄膜上に実施例1 (A)項の方法
に準じてアモルファス状薄膜を形成した。
(B) Formation of amorphous thin film: An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 1.

(C)酸化マグネシウム薄膜の形成: (B)項で得ら
れたアモルファス状薄膜上に実施例1 (B)項の方法
に準じて酸化マグネシウム薄膜を形成し。
(C) Formation of magnesium oxide thin film: A magnesium oxide thin film was formed on the amorphous thin film obtained in section (B) according to the method in section (B) of Example 1.

第3図に示される耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body shown in FIG. 3 was obtained.

(D)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例■と同様
である。
(D) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Same as Example ①.

苅較炎上 実施例1と同質の基材の透湿度をJIS Z−0208
にもとづいて測定した。その結果を表1に示す。
The moisture permeability of the same base material as in Flame Comparison Example 1 was determined according to JIS Z-0208.
Measured based on The results are shown in Table 1.

ル較炎て 実施例1 (A)項と同様の方法で基材上にアモルファ
ス状薄膜のみを形成した。得られた耐透湿性透明合成樹
脂体の評価法は実施例1 (C)項と同様である。
Only an amorphous thin film was formed on a substrate in the same manner as in Example 1 (A). The evaluation method for the obtained moisture permeable transparent synthetic resin body was the same as in Example 1 (C).

比較例3 実施例1 (B)項と同様の方法で基材上にマグネシウ
ム酸化物薄膜のみを形成した。得られた耐透湿性透明合
成樹脂体の評価法は実施例1 (C)項と同様である。
Comparative Example 3 Only a magnesium oxide thin film was formed on a substrate in the same manner as in Example 1 (B). The evaluation method for the obtained moisture permeable transparent synthetic resin body was the same as in Example 1 (C).

ル較炭土 (A)アモルファス状薄膜の形成:実施例1(A)項と
同様である。
Comparative coal soil (A) Formation of amorphous thin film: Same as Example 1 (A).

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
たアモルファス状薄膜上に実施例】 (A)項の方法に
準じてアモルファス状薄膜を形成し耐透湿性透明合成樹
脂体を得た。
(B) Formation of amorphous thin film: Example on the amorphous thin film obtained in Section (A) An amorphous thin film was formed according to the method in Section (A) to obtain a moisture-resistant transparent synthetic resin body. .

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

比較例5 (A)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じて酸化マグネシウム薄膜を形成した。
Comparative Example 5 (A) Formation of magnesium oxide thin film: The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B).

(B)#化マグネシウム薄膜の形成: (A)項で得ら
れた酸化マグネシウム薄膜上に実施例1(B)項の方法
に準じて酸化マグネシウム薄膜を形成し、耐透湿性透明
合成樹脂体を得た。
(B) Formation of #magnesium thin film: On the magnesium oxide thin film obtained in (A), a magnesium oxide thin film was formed according to the method in Example 1 (B), and a moisture-resistant transparent synthetic resin body was formed. Obtained.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

実施例4 <A)アモルファス状薄膜の形成:純度99,9%の酸
化ケイ素を蒸発源とし、電子ビーム加熱方式で加熱し1
000人の厚さのアモルファス状薄膜を形成したこと以
外は実施例1 (A)項と同様である。
Example 4 <A) Formation of amorphous thin film: Using silicon oxide with a purity of 99.9% as an evaporation source, heating was performed using an electron beam heating method.
The procedure was the same as in Example 1 (A) except that an amorphous thin film having a thickness of 1,000 mm was formed.

(B)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1(B)項
と同様である。
(B) Formation of magnesium oxide thin film: Same as Example 1 (B).

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。その結果は表2に示す。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section. The results are shown in Table 2.

以下、実施例4〜6.および比較例6〜7の結果はすべ
て表2に示す。
Examples 4 to 6 are as follows. All the results of Comparative Examples 6 and 7 are shown in Table 2.

実施例5 (A)酸化マグネシウム)W膜の形成:実施例1と同様
の基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法
に準じて酸化マグネシウム菌膜を形成した。
Example 5 (A) Formation of W film (magnesium oxide): The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide bacterial film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B). .

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
た酸化マグネシウム薄膜上に実施例4(A)項の方法に
準じてアモルファス状薄膜を形成し。
(B) Formation of amorphous thin film: An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 4.

耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body was obtained.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

犬旌桝立 (A)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じてマグネシウム酸化物薄膜を形成した。
Formation of magnesium oxide thin film: A substrate similar to that of Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this substrate according to the method described in Example 1 (B).

(、B)アモルファス状薄膜の形成= (A)項で得ら
れた酸化マグネシウム薄膜上に実施例4(A)項の方法
に準じてアモルファス状薄膜を形成した。
(,B) Formation of amorphous thin film = An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 4.

(C) 酸化マグネシウム薄膜の形成:(B)項で得ら
れたアモルファス状薄膜上に実施例1 (B)項の方法
に準してマグネシウム酸化物薄膜を形成し、耐透湿性透
明合成樹脂体を得た。
(C) Formation of magnesium oxide thin film: On the amorphous thin film obtained in (B), a magnesium oxide thin film was formed according to the method in Example 1 (B) to form a moisture-resistant transparent synthetic resin body. I got it.

(D)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(D) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

ル較炎を 実施例4 (A)項と同様の方法で基材上にアモルファ
ス状薄膜のみを形成した。得られた耐透湿性透明合成樹
脂体の評価法は実施例1 (C)項と同様である。
Only an amorphous thin film was formed on a substrate using the same method as in Example 4 (A). The evaluation method for the obtained moisture permeable transparent synthetic resin body was the same as in Example 1 (C).

ル較炎工 (A)アモルファス状薄膜の形成:実施例4(A)項と
同様である。
(A) Formation of amorphous thin film: Same as Example 4 (A).

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
たアモルファス状薄膜上に実施例4(A)項の方法に準
じてアモルファス状薄膜を形成し耐透湿性透明合成樹脂
体を得た。
(B) Formation of amorphous thin film: On the amorphous thin film obtained in (A), an amorphous thin film was formed according to the method in Example 4 (A) to obtain a moisture permeable transparent synthetic resin body. .

(以下余白) 去jf!1N7 (A)アモルファス状薄膜の形成:純度99.9%の酸
化アルミニウムを蒸発源とし、電子ビーム加熱方式で加
熱し1000人の厚さのアモルファス状薄膜を形成した
こと以外は実施例1 (A)項と同様である。
(Left below) Leave jf! 1N7 (A) Formation of amorphous thin film: Example 1 except that aluminum oxide with a purity of 99.9% was used as an evaporation source and an amorphous thin film with a thickness of 1000 mm was formed by heating with an electron beam heating method (A) ) is the same as the section.

(B)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1(B)項
と同様である。
(B) Formation of magnesium oxide thin film: Same as Example 1 (B).

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1と同様
である。その結果は表3に示す。以下。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Same as Example 1. The results are shown in Table 3. below.

実施例7〜9および比較例8〜9の結果はすべて表3に
示す。
The results of Examples 7 to 9 and Comparative Examples 8 to 9 are all shown in Table 3.

去旅炭工 (A)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じて酸化マグネシウム薄膜を形成した。
Satoru Tanko (A) Formation of magnesium oxide thin film: The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B).

(B)アモルファス状薄膜の形成= (A)項で得られ
た酸化マグネシウム薄膜上に実施例7 (A)項の方法
に準じてアモルファス状薄膜を形成し。
(B) Formation of amorphous thin film = An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method of Example 7 (A).

耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body was obtained.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価;実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body; Example 1 (C
) is the same as the section.

大旌拠主 (A)酸化マグネシウム薄膜の形成:実施例1と同様の
基材を準備し、この基材上に実施例1(B)項の方法に
準じてマグネシウム酸化物薄膜を形成した。
(A) Formation of magnesium oxide thin film: The same base material as in Example 1 was prepared, and a magnesium oxide thin film was formed on this base material according to the method in Example 1 (B).

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
た酸化マグネシウム薄膜上に実施例7 (A)項の方法
に準じてアモルファス状薄膜を形成し。
(B) Formation of amorphous thin film: An amorphous thin film was formed on the magnesium oxide thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 7.

耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body was obtained.

(C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
(C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

北較桝l 実施例7(A)項と同様の方法で基材上にアモルファス
状薄膜のみを形成した。得られた耐透湿性透明合成樹脂
体の評価法は実施例1 (C)項と同様である。
North Comparison Method Only an amorphous thin film was formed on a substrate in the same manner as in Example 7 (A). The evaluation method for the obtained moisture permeable transparent synthetic resin body was the same as in Example 1 (C).

比較例9 (A)アモルファス状薄膜の形成:実施例7(A)項と
同様である。
Comparative Example 9 (A) Formation of amorphous thin film: Same as Example 7 (A).

(B)アモルファス状薄膜の形成: (A)項で得られ
たアモルファス状薄膜上に実施例7(A)項の方法に準
じてアモルファス状薄膜を形成し。
(B) Formation of amorphous thin film: An amorphous thin film was formed on the amorphous thin film obtained in Section (A) according to the method in Section (A) of Example 7.

耐透湿性透明合成樹脂体を得た。A moisture permeable transparent synthetic resin body was obtained.

<C)耐透湿性透明合成樹脂体の評価:実施例1 (C
)項と同様である。
<C) Evaluation of moisture permeable transparent synthetic resin body: Example 1 (C
) is the same as the section.

(以下余白) (発明の効果) 本発明によれば、このように、透明合成樹脂基材上にマ
グネシウム酸化物透明薄膜とアモルファス状透明薄膜と
が少なくとも一層ずつ積層して設けられるため、得られ
る合成樹脂体は耐透湿性に著しく優れ、かつ透明性に優
れる。しかも、各合成樹脂体の耐透湿性にはバラツキが
ない。さらに。
(The following is a blank space) (Effects of the invention) According to the present invention, since at least one magnesium oxide transparent thin film and an amorphous transparent thin film are laminated on a transparent synthetic resin base material, The synthetic resin body has excellent moisture permeability and transparency. Moreover, there is no variation in the moisture permeability of each synthetic resin body. moreover.

これら薄膜は、従来技術とは異なって、基材の種類に関
係なく形成されるので所望の素材でかつ所望の形状の耐
透湿性合成樹脂体を得ることができる。基材として透明
合成樹脂フィルムを用いると従来にない高度な耐透湿性
能を有する透明性に優れた合成樹脂体フィルムが得られ
る。このような合成樹脂体フィルムは透明でかつ高防湿
性の要求される食品、医薬品、化学薬品などの包装材に
用いられうる。電子工業分野におけるEL素子や太陽電
池にも適用されうる。
Unlike the prior art, these thin films are formed regardless of the type of base material, so it is possible to obtain a moisture-permeable synthetic resin body made of a desired material and in a desired shape. When a transparent synthetic resin film is used as a base material, a synthetic resin film with excellent transparency and an unprecedentedly high degree of moisture permeation resistance can be obtained. Such synthetic resin films can be used as packaging materials for foods, medicines, chemicals, etc., which require transparency and high moisture resistance. It can also be applied to EL elements and solar cells in the electronics industry.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の透明合成樹脂フィルムの一実施例を示
す部分断面図、第2図および第3図はそれぞれ他の実施
例を示す部分断面図である。 ■・・・透明合成樹脂フィルム基材、2・・・アモルフ
ァス状薄膜、3・・・マグネシウム酸化物薄膜。 以上 出願人 積木化学工業・・株式会社 第1図 第2図 第3図
FIG. 1 is a partial sectional view showing one embodiment of the transparent synthetic resin film of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are partial sectional views showing other embodiments, respectively. ■... Transparent synthetic resin film base material, 2... Amorphous thin film, 3... Magnesium oxide thin film. Applicant: Block Chemical Industry Co., Ltd. Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、透明合成樹脂基材の少なくとも片面にマグネシウム
酸化物透明薄膜とアモルファス状透明薄膜とが少なくと
も一層ずつ積層された耐透湿性透明合成樹脂体。 2、前記アモルファス状透明薄膜が主としてケイ素酸化
物でなる組成物で形成される特許請求の範囲第1項に記
載の合成樹脂体。 3、前記アモルファス状透明薄膜が主として酸化アルミ
ニウムでなる組成物で形成される特許請求の範囲第1項
に記載の合成樹脂体。 4、前記アモルファス状透明薄膜が主として二酸化ケイ
素、酸化ホウ素および酸化バリウムでなる組成物で形成
される特許請求の範囲第1項に記載の合成樹脂体。 5、前記アモルファス状透明薄膜が主として二酸化ケイ
素、酸化ホウ素および酸化アルミニウムでなる組成物で
形成される特許請求の範囲第1項に記載の合成樹脂体。 6、前記アモルファス状透明薄膜が主として二酸化ケイ
素、酸化ホウ素、酸化バリウムおよび酸化アルミニウム
でなる組成物で形成される特許請求の範囲第1項に記載
の合成樹脂体。 7、前記アモルファス状透明薄膜を形成する組成物のモ
ル比は二酸化ケイ素が2〜4.酸化ホウ素が1〜2.そ
して酸化バリウムと酸化アルミニウムの総量が0.3〜
1である特許請求の範囲第4項、第5項もしくは第6項
に記載の合成樹脂体。 8、前記透明合成樹脂基材が厚さ5〜300μmの可撓
性フィルムであり、前記マグネシウム酸化物透明薄膜と
前記アモルファス状透明薄膜との厚さの合計が0.02
〜0.5μmである特許請求の範囲第1項に記載の合成
樹脂体。 9、前記マグネシウム酸化物透明薄膜と前記アモルファ
ス状透明薄膜とがそれぞれ蒸着膜である特許請求の範囲
第1項に記載の合成樹脂体。 10、前記アモルファス状透明薄膜が二層の前記マグネ
シウム酸化物透明薄膜によりサンドインチ状にはさまれ
た特許請求の範囲第1項に記載の合成樹脂体。
[Scope of Claims] 1. A moisture-permeable transparent synthetic resin body in which at least one transparent thin film of magnesium oxide and at least one transparent amorphous film are laminated on at least one side of a transparent synthetic resin base material. 2. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is formed from a composition mainly consisting of silicon oxide. 3. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is formed from a composition mainly consisting of aluminum oxide. 4. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is formed from a composition mainly consisting of silicon dioxide, boron oxide, and barium oxide. 5. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is formed from a composition mainly consisting of silicon dioxide, boron oxide, and aluminum oxide. 6. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is formed from a composition mainly consisting of silicon dioxide, boron oxide, barium oxide, and aluminum oxide. 7. The composition forming the amorphous transparent thin film has a molar ratio of silicon dioxide of 2 to 4. Boron oxide is 1-2. And the total amount of barium oxide and aluminum oxide is 0.3~
1. The synthetic resin body according to claim 4, 5 or 6. 8. The transparent synthetic resin base material is a flexible film with a thickness of 5 to 300 μm, and the total thickness of the magnesium oxide transparent thin film and the amorphous transparent thin film is 0.02.
The synthetic resin body according to claim 1, which has a diameter of 0.5 μm. 9. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the magnesium oxide transparent thin film and the amorphous transparent thin film are each vapor-deposited films. 10. The synthetic resin body according to claim 1, wherein the amorphous transparent thin film is sandwiched between two layers of the magnesium oxide transparent thin film.
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