JPS60219089A - 放電破壊記録媒体 - Google Patents
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、放電破壊記録(電気腐食記録)媒体に関する
ものである。
ものである。
本明細書で開示される放電破壊記録媒体には可溶発性の
解重合可能なポリマーが使用される。この記録媒体は、
支持体(基体)と、基体を保護する基層と、基層上に堆
積される放電破壊可能な導電性薄膜と、保護用オーバコ
ート層とを含む。可溶発性(ablatab’le )
ポリマーは、放電破壊記録中の残渣発生を少くするため
に、基層若しくは頂部保護層又は両層中にバインダとし
て使用される。
解重合可能なポリマーが使用される。この記録媒体は、
支持体(基体)と、基体を保護する基層と、基層上に堆
積される放電破壊可能な導電性薄膜と、保護用オーバコ
ート層とを含む。可溶発性(ablatab’le )
ポリマーは、放電破壊記録中の残渣発生を少くするため
に、基層若しくは頂部保護層又は両層中にバインダとし
て使用される。
放電破壊記録は、電気信号に応じて記録媒体に文字、数
字、記号、回路パターンなどのパターンなど様々なマー
キングを生成するための周知の技術である。電気信号は
、スパークを開始させて、記録媒体から物質を除去ない
し壊含する。典型的な場合、記録媒体から除去される物
質は、スパークに伴う局部的可熱に応じて蒸発する導電
層である0 電気アークによって一部分が壊食された記録媒体は、用
途に応じてオフセット原版または直接ネガとして使用す
ることができる。一般に放電破壊記録に関する参考文献
には、米国特許第2983220号:米国特許第30’
48515号:米国特許第2554017号;米国特許
第3138547号;米国特許第3411948号があ
る。
字、記号、回路パターンなどのパターンなど様々なマー
キングを生成するための周知の技術である。電気信号は
、スパークを開始させて、記録媒体から物質を除去ない
し壊含する。典型的な場合、記録媒体から除去される物
質は、スパークに伴う局部的可熱に応じて蒸発する導電
層である0 電気アークによって一部分が壊食された記録媒体は、用
途に応じてオフセット原版または直接ネガとして使用す
ることができる。一般に放電破壊記録に関する参考文献
には、米国特許第2983220号:米国特許第30’
48515号:米国特許第2554017号;米国特許
第3138547号;米国特許第3411948号があ
る。
放電破壊記録媒体は、最小限、支持体と電気スパークに
応じて蒸発する薄い導電材料膜を含んている。支持層す
なわち基板は、マイラー(デュポン(E、1.dupo
nt denemours)社の商標)やその他のある
種のポリマー材料など、様々な拐料から構成することが
できる。基板の厚さは重要ではないが、典型的な場合約
50〜125マイクロメートルの範囲である。壊食され
てパターンまたはマーキングをもたらす薄い導電層は、
典型的な場合、厚さ約100〜500大の真空蒸着また
はスパッタされたアルミニウム層である。この導電層の
厚さは、その単位面積当りの抵抗によって測定され、で
きれば約1−5オーム/平方の範囲にあることが望まし
い。これは、記録媒体表面に接触する電極に電圧を印加
して1局部加熱したとき、残渣なしにアルミニウムの蒸
発と壊食をもたらす。
応じて蒸発する薄い導電材料膜を含んている。支持層す
なわち基板は、マイラー(デュポン(E、1.dupo
nt denemours)社の商標)やその他のある
種のポリマー材料など、様々な拐料から構成することが
できる。基板の厚さは重要ではないが、典型的な場合約
50〜125マイクロメートルの範囲である。壊食され
てパターンまたはマーキングをもたらす薄い導電層は、
典型的な場合、厚さ約100〜500大の真空蒸着また
はスパッタされたアルミニウム層である。この導電層の
厚さは、その単位面積当りの抵抗によって測定され、で
きれば約1−5オーム/平方の範囲にあることが望まし
い。これは、記録媒体表面に接触する電極に電圧を印加
して1局部加熱したとき、残渣なしにアルミニウムの蒸
発と壊食をもたらす。
放電破壊記録は、一本または複数本のスタイラスを記録
媒体表面に対して相対移動させることによって実現され
る。スタイラスに電気書込み信号を送って制御された電
気パルスを作り、それが記録媒体表面でスパークを生じ
る。これが導電層の選択された部分を加熱し、蒸発によ
って除去する。
媒体表面に対して相対移動させることによって実現され
る。スタイラスに電気書込み信号を送って制御された電
気パルスを作り、それが記録媒体表面でスパークを生じ
る。これが導電層の選択された部分を加熱し、蒸発によ
って除去する。
導電性材料が除去される位置は、記録しよりとする標識
ないし像と一致する。放電破壊記録の間、スタイラスは
、放電破壊される導電層と接触して、記録媒体表面に対
して相対的に移動する。
ないし像と一致する。放電破壊記録の間、スタイラスは
、放電破壊される導電層と接触して、記録媒体表面に対
して相対的に移動する。
実際の記録システムでは、一度に一行ずつ、かなりの解
像度をもつ印刷パターンをもたらすように30本以上も
のスタイラスが配列されることがある。書込み制御装置
が個々のスタイラスに電圧パルスを与える。これらのパ
ルスは、所期の情報パタごンを記録するために、アーク
を起こして導電性材料層を蒸発させるのに充分な強さで
ある。
像度をもつ印刷パターンをもたらすように30本以上も
のスタイラスが配列されることがある。書込み制御装置
が個々のスタイラスに電圧パルスを与える。これらのパ
ルスは、所期の情報パタごンを記録するために、アーク
を起こして導電性材料層を蒸発させるのに充分な強さで
ある。
放電破壊記録では、薄い導電層が脆いことおよびスタイ
ラス圧力に差があることのために、かなりの機械的引掻
き(すなわち導電層の望ましくない除去)がしばしば起
こる。この引掻きは、書込み信号がないときに起こり、
高速で高解像力の放電破壊記録の際に特に厄介である。
ラス圧力に差があることのために、かなりの機械的引掻
き(すなわち導電層の望ましくない除去)がしばしば起
こる。この引掻きは、書込み信号がないときに起こり、
高速で高解像力の放電破壊記録の際に特に厄介である。
この引掻きは純粋に機械的で非電気的な性質のものてあ
り、スタイラスの摩耗作用によって導電性金属層の望ま
しくな(・除去をもたらす。このため、スタイラスの引
掻き効果を減らすため゛に導電層表面に潤滑剤または保
護層が用いられてきた。この保護層は、通常は石墨、二
硫化モリブテン、窒化ホウ素、Ca F 2、MgF2
、硫化タングステンなどの固体潤滑剤を含むポリマー・
バインダである。石墨を使用するときは、典型的な場合
で50〜80重量%使用する。保護層ないし保設膜の厚
さは、通常は約100〜500人である。石墨などの固
体潤滑フィラーを多量含むポリマー有機バインダを使つ
た潤滑−保護層は、1982年12月30日に米国に出
願された米国特許出願第454744号に記載されてい
る。
り、スタイラスの摩耗作用によって導電性金属層の望ま
しくな(・除去をもたらす。このため、スタイラスの引
掻き効果を減らすため゛に導電層表面に潤滑剤または保
護層が用いられてきた。この保護層は、通常は石墨、二
硫化モリブテン、窒化ホウ素、Ca F 2、MgF2
、硫化タングステンなどの固体潤滑剤を含むポリマー・
バインダである。石墨を使用するときは、典型的な場合
で50〜80重量%使用する。保護層ないし保設膜の厚
さは、通常は約100〜500人である。石墨などの固
体潤滑フィラーを多量含むポリマー有機バインダを使つ
た潤滑−保護層は、1982年12月30日に米国に出
願された米国特許出願第454744号に記載されてい
る。
放電破壊記録媒体のもう一つの既知の改良は、基層と呼
ばれることの多い中間層を支持体と導電性材料層の間に
使用することである。この基層は、一般に印刷性能向上
のための微粒子を含むポリマー層である。この微粒子は
、カラス、ソリ・力1.CaCO3、T i□ Z n
O2を含んでいる。この基層は比較2・ 的硬く(ヌープ硬度20〜60)、下側の支持基板が印
刷中に可塑変形しないように保護する。基層の厚さは、
典型的な場合5〜7マイクロメードルである。代表的な
基層は、1982年12月60日に米国に出願された米
国特許出願第454746号の教示にもとづいて、架橋
ポリマーから形成されたものである。
ばれることの多い中間層を支持体と導電性材料層の間に
使用することである。この基層は、一般に印刷性能向上
のための微粒子を含むポリマー層である。この微粒子は
、カラス、ソリ・力1.CaCO3、T i□ Z n
O2を含んでいる。この基層は比較2・ 的硬く(ヌープ硬度20〜60)、下側の支持基板が印
刷中に可塑変形しないように保護する。基層の厚さは、
典型的な場合5〜7マイクロメードルである。代表的な
基層は、1982年12月60日に米国に出願された米
国特許出願第454746号の教示にもとづいて、架橋
ポリマーから形成されたものである。
放電破壊の間に、基層(中間層)と薄い導電層の界面が
放電破壊に関与する。ポリマー基層か粘着性残渣を残し
て分解する場合、この有機質の絶縁体残渣がスタイラス
を覆って、スタイラスを流れる電流の量を減らす恐れが
ある。保護層からも粒着性のポリマー残置粒子が生じ得
るが、この層は薄(て主として石墨などの潤滑剤ででき
ているので、このスタイラスを汚す問題の主な原因とな
るのは、薄い導電層と支持基体の間にある基層である。
放電破壊に関与する。ポリマー基層か粘着性残渣を残し
て分解する場合、この有機質の絶縁体残渣がスタイラス
を覆って、スタイラスを流れる電流の量を減らす恐れが
ある。保護層からも粒着性のポリマー残置粒子が生じ得
るが、この層は薄(て主として石墨などの潤滑剤ででき
ているので、このスタイラスを汚す問題の主な原因とな
るのは、薄い導電層と支持基体の間にある基層である。
特に様々な種類のセルロース性ポリマーは、放電破壊の
際に黒い粒着性の残渣を残す傾向がある。
際に黒い粒着性の残渣を残す傾向がある。
上記の汚れを起こす問題の他にも、放電破壊中にゆっく
りしたガス放出などの問題が生じることがある。これは
、不快なあるいは有毒な煙を生じることがある。
りしたガス放出などの問題が生じることがある。これは
、不快なあるいは有毒な煙を生じることがある。
一般的に言って基層は、放電破壊印刷中に支持層の可塑
変形を防止するための、硬い耐摩耗性被覆をもたらさな
ければならない。基層が導電性の蒸発または除去に悪影
響を及ぼさない場合、印刷品質の向上と書込みエネルギ
ーの減少が実現される。同時に、基層は貯蔵および取扱
い中に、充分な接着力と耐摩耗性をもたらし、薄い導電
層を損傷から保護すべきである。
変形を防止するための、硬い耐摩耗性被覆をもたらさな
ければならない。基層が導電性の蒸発または除去に悪影
響を及ぼさない場合、印刷品質の向上と書込みエネルギ
ーの減少が実現される。同時に、基層は貯蔵および取扱
い中に、充分な接着力と耐摩耗性をもたらし、薄い導電
層を損傷から保護すべきである。
したがって、放電破壊記録媒体用の改良された基層と保
護層を提供することが、本発明の主目的である。
護層を提供することが、本発明の主目的である。
本発明の第2の目的は、印刷ヘッドに壊食されたくずが
蓄まらずに、きれいな放電破壊記録を可能にする放電破
壊記録用材料を提供することである。
蓄まらずに、きれいな放電破壊記録を可能にする放電破
壊記録用材料を提供することである。
本発明の第3の目的は、電極スタイラスの汚れを減らず
放電破壊記録媒体を提供することである。
放電破壊記録媒体を提供することである。
本発明の第4の目的は、放電破壊記録中に粘着性残渣と
有毒な煙の発生を最小限に抑える放電破壊記録媒体を提
供することである。
有毒な煙の発生を最小限に抑える放電破壊記録媒体を提
供することである。
不発明の第5の目的は、印刷中に保護膜が除去され基層
が印刷に関与しても、汚れその他の問題を引き起こす粒
着性残渣や有毒な副産物を生じない放電破壊記録媒体の
保護層および基層用材料を提供することである。
が印刷に関与しても、汚れその他の問題を引き起こす粒
着性残渣や有毒な副産物を生じない放電破壊記録媒体の
保護層および基層用材料を提供することである。
本発明の第6の目的は、薄い導電層と支持層との間に基
層が存在する放電破壊記録媒体において放電破壊中に薄
(・導電層が基層から容易に分離し壊食される上記基層
用の材料を提供することである。
層が存在する放電破壊記録媒体において放電破壊中に薄
(・導電層が基層から容易に分離し壊食される上記基層
用の材料を提供することである。
本発明の第7の目的は、そのU料を使用すれば、汚れ問
題の軽減された放電破壊が実施できる放電破壊記録媒体
の保護層および基層用の材料を提供することである。
題の軽減された放電破壊が実施できる放電破壊記録媒体
の保護層および基層用の材料を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明による基層又は保護
層は、放電破壊記録中に熱によって誘発される主鎖切断
を受けて、残tI!t、をほとんど又(i全(残さずに
モノマー又は低分子量の化学種になる可溶発性(abl
atable)ポリマーを含むものである。
層は、放電破壊記録中に熱によって誘発される主鎖切断
を受けて、残tI!t、をほとんど又(i全(残さずに
モノマー又は低分子量の化学種になる可溶発性(abl
atable)ポリマーを含むものである。
このようなポリマーには、下記のものがある。
1 下記の構造で表されるような、α置換アクリラート
・モノマーから誘導されるポリマー。
・モノマーから誘導されるポリマー。
ただし、x = −CH6、−CFろ、C2H5、C6
H5 Rニー1−L−CH3、−CH2CH2CH2CF5、
CH2C6H5、−C2H5 2ポリ−α−メチルスチレンやポリ−α、β、β−トリ
フルオロスチレンなどの、α置換スチレン脅ポリマー。
H5 Rニー1−L−CH3、−CH2CH2CH2CF5、
CH2C6H5、−C2H5 2ポリ−α−メチルスチレンやポリ−α、β、β−トリ
フルオロスチレンなどの、α置換スチレン脅ポリマー。
ろ 下記の構造式で表されるような、ビニルケトン・モ
ノマーから誘導されるポリマー。
ノマーから誘導されるポリマー。
ただし、X=−CH6、C6H5、CH2CH3Rニー
CH−CH2CH3、C6H5 3・ 4 ポリオキシメチレン +CH2−0+nこれらの洞
料は、単一成分としても使用でき、またS + 02、
z、no、カーボン・ブラック、石墨、T i O2、
A I 2 C3などを含むフィラー用バイング系とし
て組み合せて使用することもできる。これらの可溶発性
ポリマーは、熱分解生成物の蒸発による損失のために、
狭し・温度範囲で重量がかなり急激に減少する特徴をも
つ。
CH−CH2CH3、C6H5 3・ 4 ポリオキシメチレン +CH2−0+nこれらの洞
料は、単一成分としても使用でき、またS + 02、
z、no、カーボン・ブラック、石墨、T i O2、
A I 2 C3などを含むフィラー用バイング系とし
て組み合せて使用することもできる。これらの可溶発性
ポリマーは、熱分解生成物の蒸発による損失のために、
狭し・温度範囲で重量がかなり急激に減少する特徴をも
つ。
これらの改良されたパオ料は、硬い耐)枯耗性の被覆を
もたらし、高見・ガラス転移温度Tg(Tg>100℃
)を特徴とするものである。
もたらし、高見・ガラス転移温度Tg(Tg>100℃
)を特徴とするものである。
これらの材料は、熱によって誘発さiする主鎖切断を受
けて、はとんどまたは全く残渣なしに、モノマーまたは
低分子量の化学種になる。これらの材料は熱によって解
重合でき、放電破壊記録媒体用として秀れた可溶発性を
もっている。これらの材料は、普通は基層および保護層
のパイン・ダとして使用されるが、これらの可溶発性材
料からなる薄い層を薄い導電層と基層の間に使用するこ
とも可能である。これらの材料は、現在改良された放電
破壊記録をもたらすことが知られているものなど、他の
基層処方中に粒状体として使用することもできる。
けて、はとんどまたは全く残渣なしに、モノマーまたは
低分子量の化学種になる。これらの材料は熱によって解
重合でき、放電破壊記録媒体用として秀れた可溶発性を
もっている。これらの材料は、普通は基層および保護層
のパイン・ダとして使用されるが、これらの可溶発性材
料からなる薄い層を薄い導電層と基層の間に使用するこ
とも可能である。これらの材料は、現在改良された放電
破壊記録をもたらすことが知られているものなど、他の
基層処方中に粒状体として使用することもできる。
本発明は、一般的に言って放電破壊記録媒体に使用でき
る材料、さらに具体的には記録操作中に電気アーク条件
の下で可溶発性をもつ顔料充填ポリマー層の塗布に関す
るものである。これらの可溶発性材料は、ポリマー残渣
の形成を減らし、全体性能を向」ニさせる。これらの4
2料は、壊食される薄い導電層と支持体(すなわち基板
)の間にある基層(中間層)に使用することができ、ま
た薄い導電層用の潤滑および保護層として働く上層にも
使用できる。
る材料、さらに具体的には記録操作中に電気アーク条件
の下で可溶発性をもつ顔料充填ポリマー層の塗布に関す
るものである。これらの可溶発性材料は、ポリマー残渣
の形成を減らし、全体性能を向」ニさせる。これらの4
2料は、壊食される薄い導電層と支持体(すなわち基板
)の間にある基層(中間層)に使用することができ、ま
た薄い導電層用の潤滑および保護層として働く上層にも
使用できる。
第1図および第2図は、先行技術で周知の種類の放電破
壊記録媒体の例を概略的に表したものである。第1図に
おいて、支持体すなわち基体10は典型的な場合マイラ
ー(テユポン(Dupont)社の商標)でできている
が、その上に基層(すなわち中間層)12がついている
。次の層14は、アルミニウムなどの導電性材料の薄い
層であり、記録媒体の近くに電極を取りつけると壊食で
きる。
壊記録媒体の例を概略的に表したものである。第1図に
おいて、支持体すなわち基体10は典型的な場合マイラ
ー(テユポン(Dupont)社の商標)でできている
が、その上に基層(すなわち中間層)12がついている
。次の層14は、アルミニウムなどの導電性材料の薄い
層であり、記録媒体の近くに電極を取りつけると壊食で
きる。
層14の上には、潤滑/保護層16がついている。
層10〜16の機能とその典型的な寸法は、先に述べた
のでここでは繰り返さない。
のでここでは繰り返さない。
第2図は、配録媒体の別の実施例を示したもので、やは
り支持体10、基層12、薄い壊食可能な層14、保護
層16からできている。第2図は、薄い導電層14と基
層12の間に追加層18が設けられている点が、第1図
と異なる。後に説明するように、分離層18は本発明で
説明する可溶発性材料で作ることができる。分離層18
は、層14から容易に分離するため、層14の壊食を助
ける。分離層1Bはまた、層12が本発明の可溶発性材
料でできていない場合、放電破壊中に基層12を遮蔽し
て、残渣の形成を最小限に抑える。
り支持体10、基層12、薄い壊食可能な層14、保護
層16からできている。第2図は、薄い導電層14と基
層12の間に追加層18が設けられている点が、第1図
と異なる。後に説明するように、分離層18は本発明で
説明する可溶発性材料で作ることができる。分離層18
は、層14から容易に分離するため、層14の壊食を助
ける。分離層1Bはまた、層12が本発明の可溶発性材
料でできていない場合、放電破壊中に基層12を遮蔽し
て、残渣の形成を最小限に抑える。
第1図および葬2図において、本発明の可溶発性材料を
基層12、保護層16、および分離層18に使用するこ
とができる。放電破壊記録媒体の最終的構造は、股引要
件に応じ叱、6つの層12.16.18のすべて、その
うち適当な2層の組合せ、または層12あるいは層16
だけを含むことができる。これらの可溶発性材料は、バ
インダとして使用することができ、また他のバインダ材
料と組み合せることもできる。ただし、本発明の可溶発
性材料が完全なバインダ機能をもたらす場合に、上記の
利点が最大となる。リン酸エステル、フタール酸エステ
ルまたは脂肪酸エステルなど適当な可塑剤を加えること
によって、これらのバインダに関して改善された被覆組
成を作ることができる。
基層12、保護層16、および分離層18に使用するこ
とができる。放電破壊記録媒体の最終的構造は、股引要
件に応じ叱、6つの層12.16.18のすべて、その
うち適当な2層の組合せ、または層12あるいは層16
だけを含むことができる。これらの可溶発性材料は、バ
インダとして使用することができ、また他のバインダ材
料と組み合せることもできる。ただし、本発明の可溶発
性材料が完全なバインダ機能をもたらす場合に、上記の
利点が最大となる。リン酸エステル、フタール酸エステ
ルまたは脂肪酸エステルなど適当な可塑剤を加えること
によって、これらのバインダに関して改善された被覆組
成を作ることができる。
本発明では、基層、分離層および保護層のポリマー成分
は、熱によって誘発される解重合を受けて、比較的簡単
な反応経路による主鎖切断により、はとんどまたは全く
粘着性残渣なしに揮発性のモノマーまたは低分子量の化
学種を形成する材料からできている。分解の様式は、ラ
ジカルが再結合してオリゴマーを形成することができな
いものである。これらの材料を使用すると、膜特性、簿
い導電層14と可塑性支持体10に対する接着力の点で
改良された特性が得られ、また薄い導電層14の壊食が
容易になる。また、これらの材料の使用によって、電極
印刷ヘッドに有機質の残渣が形成される問題も最小限に
抑えられる。もう一つの利点として、石墨などの潤滑剤
用のかかるポリマー・バインダを含む被覆組成物は、取
扱(・または貯蔵中に剥離する問題のない薄(・導電層
14に対する接着力の強い薄し・保護層として塗布でき
ることがわかって℃・る。
は、熱によって誘発される解重合を受けて、比較的簡単
な反応経路による主鎖切断により、はとんどまたは全く
粘着性残渣なしに揮発性のモノマーまたは低分子量の化
学種を形成する材料からできている。分解の様式は、ラ
ジカルが再結合してオリゴマーを形成することができな
いものである。これらの材料を使用すると、膜特性、簿
い導電層14と可塑性支持体10に対する接着力の点で
改良された特性が得られ、また薄い導電層14の壊食が
容易になる。また、これらの材料の使用によって、電極
印刷ヘッドに有機質の残渣が形成される問題も最小限に
抑えられる。もう一つの利点として、石墨などの潤滑剤
用のかかるポリマー・バインダを含む被覆組成物は、取
扱(・または貯蔵中に剥離する問題のない薄(・導電層
14に対する接着力の強い薄し・保護層として塗布でき
ることがわかって℃・る。
放電破壊印刷中に、画像領域の局部温度が高まると、こ
れらのバインダが解重合し−(モノマーまたは低分子量
の化学種となり、それが揮発してポリマー基質の局部破
壊を引き起こし、その結果基層12と導電層14の界面
で変形が生じ接着が解離する。これによって、金属を含
む層14が除去されやすくなり、記録のためのエネルギ
ーが減ることもある。
れらのバインダが解重合し−(モノマーまたは低分子量
の化学種となり、それが揮発してポリマー基質の局部破
壊を引き起こし、その結果基層12と導電層14の界面
で変形が生じ接着が解離する。これによって、金属を含
む層14が除去されやすくなり、記録のためのエネルギ
ーが減ることもある。
これらの材料は、窒素中で行なった熱重量分析によれば
、分解後の残渣の少ないこと(2%以下)が特徴である
が、また放電破壊中に印刷ヘットにひつつく粘着性副産
物ができないように分解する。
、分解後の残渣の少ないこと(2%以下)が特徴である
が、また放電破壊中に印刷ヘットにひつつく粘着性副産
物ができないように分解する。
すなわち、本発明での使用に適した可溶発性材料は、熱
によって誘発される急激な分解開始で分解し始め、その
後はとんど残渣なしまで急速に分解する材料である。こ
れらの材料は、有毒なまたは電気スタイラスに引つつ(
恐れのある粘着性の副産物をゆっくりと放出することが
ないものであるべきである。さらに、放電破壊に必要な
以下の温度できれいに燃えるものであるべきであり、こ
れらのポリマーの分解中に生成する生成物は、CO2や
H20などモノマーや低分子量の生成物または燃焼生成
物であるべきである。
によって誘発される急激な分解開始で分解し始め、その
後はとんど残渣なしまで急速に分解する材料である。こ
れらの材料は、有毒なまたは電気スタイラスに引つつ(
恐れのある粘着性の副産物をゆっくりと放出することが
ないものであるべきである。さらに、放電破壊に必要な
以下の温度できれいに燃えるものであるべきであり、こ
れらのポリマーの分解中に生成する生成物は、CO2や
H20などモノマーや低分子量の生成物または燃焼生成
物であるべきである。
次にこれらの利点をもたらす可溶発性ポリマーについて
、さらに詳しく説明する。
、さらに詳しく説明する。
1 下記の構造で表されるようなα置換アクリラート・
モ/′マーから誘導されるポリマーX X / I C0ORC0OR モノマー ポリマー ただし、X=−CHろ、−CF3、−C2H5、C6H
うR= −HlC[(3、−Cf−12C)[2CH2
CF3、−C6F■5、 CH2C6H5、C2H5こ
の構造をもつポリマーの例としては、次のものがある。
モ/′マーから誘導されるポリマーX X / I C0ORC0OR モノマー ポリマー ただし、X=−CHろ、−CF3、−C2H5、C6H
うR= −HlC[(3、−Cf−12C)[2CH2
CF3、−C6F■5、 CH2C6H5、C2H5こ
の構造をもつポリマーの例としては、次のものがある。
ポリメヂルメタクリラート(PMMA)ポリメチルトリ
フルオロメタクリラートポリフル丼ロブチルメタクリラ
ート ポリエチルメタクリラート ポリメタクリル酸 ポリ無水メタクリル酸 メチルメタクリラ−1・−無水メタクソル酸共重合体 メメルメタクリラートーメタクリル酸共重合体ポリフェ
ニルメタクリラート 2 α置換スチレン・ポリマー a、下記の構造式で示されるスチレン・モノマーから誘
導されるポリマー X CH2 \ / X モノマー ポリマー ただし、X=−CH3、C2H5、−F、−CFろy=
−H,−CH6、C2Hs、−0CHろ、−QC2H5
、−COOR(R=ニーCHs、C2H3) b、下記の構造特性をもつスチレン・ポリマただし、y
=−Hl CHz、、 C2HsC1下記の構造で表さ
れるα置換スチレンとα置換アクリラートがら誘導され
る共重合体ただし、X及びX”” CF3、 CH3、
C2J(5y=−Hl−CH3、−C2H5、 C2H3 R−” CHz、、 C21−I s、 C6)I 5
6 下記の構造式で示されるビニルケトン・モノマーか
も誘導されるポリマー X X / 1 モノマー ポリマー ただし、X = Cl43、 C6H5、CH2CH3
RニーCHろ、−CH2CH5、−C6■(5その一例
は、ポリメチルイソプロペニルケトンである。
フルオロメタクリラートポリフル丼ロブチルメタクリラ
ート ポリエチルメタクリラート ポリメタクリル酸 ポリ無水メタクリル酸 メチルメタクリラ−1・−無水メタクソル酸共重合体 メメルメタクリラートーメタクリル酸共重合体ポリフェ
ニルメタクリラート 2 α置換スチレン・ポリマー a、下記の構造式で示されるスチレン・モノマーから誘
導されるポリマー X CH2 \ / X モノマー ポリマー ただし、X=−CH3、C2H5、−F、−CFろy=
−H,−CH6、C2Hs、−0CHろ、−QC2H5
、−COOR(R=ニーCHs、C2H3) b、下記の構造特性をもつスチレン・ポリマただし、y
=−Hl CHz、、 C2HsC1下記の構造で表さ
れるα置換スチレンとα置換アクリラートがら誘導され
る共重合体ただし、X及びX”” CF3、 CH3、
C2J(5y=−Hl−CH3、−C2H5、 C2H3 R−” CHz、、 C21−I s、 C6)I 5
6 下記の構造式で示されるビニルケトン・モノマーか
も誘導されるポリマー X X / 1 モノマー ポリマー ただし、X = Cl43、 C6H5、CH2CH3
RニーCHろ、−CH2CH5、−C6■(5その一例
は、ポリメチルイソプロペニルケトンである。
CHz。
■
(CH2−C−)−
C0CHろ
X=R=CHのモノマーから誘導さり、る。
ろ
4、ポリオギアメチレン
−f’CH2−0妊
これらのoT溶発注ポリマー材料は、単一成分として使
用するでともでき、またSiO2、ZnO、カーホン・
フラッフ、石墨、T i O2、A620 z。
用するでともでき、またSiO2、ZnO、カーホン・
フラッフ、石墨、T i O2、A620 z。
などを含むフィラー用のバインダ系とし、て組・り合せ
−〔使用することもできる。すなわち、これらの4・ツ
料は、基層12と保護層16に通常加えられるどんなフ
ィラーを含んでもよい。
−〔使用することもできる。すなわち、これらの4・ツ
料は、基層12と保護層16に通常加えられるどんなフ
ィラーを含んでもよい。
例えは、典型的な基層12の組成は、有機バインダと屈
曲剤(j’lexing agent) 70〜90重
、R%および5102などの粗面化剤(roughin
gagent)10〜60重計%を含んでいる。これら
の基1層を支持体10に約3〜6マイクロメードルの乾
燥厚さまでコートする。基層1cAlなどの薄い導電(
オ相膜を約250〜400大の厚さくC被着−rること
ができる。導′改層の破着は、通常は真空蒸着よたばス
パッタリングにより−(行なう。次に導tti層14を
薄い潤滑−保護層16てオーバーコートする(任意)。
曲剤(j’lexing agent) 70〜90重
、R%および5102などの粗面化剤(roughin
gagent)10〜60重計%を含んでいる。これら
の基1層を支持体10に約3〜6マイクロメードルの乾
燥厚さまでコートする。基層1cAlなどの薄い導電(
オ相膜を約250〜400大の厚さくC被着−rること
ができる。導′改層の破着は、通常は真空蒸着よたばス
パッタリングにより−(行なう。次に導tti層14を
薄い潤滑−保護層16てオーバーコートする(任意)。
層16は、潤滑と耐引掻き1ノ1ユをもたらすため、上
記の11溶発注ポリマー・バインダに溶かした石墨分散
液を含むことができる。
記の11溶発注ポリマー・バインダに溶かした石墨分散
液を含むことができる。
放電破壊記録の間1′こ、これらの1科は熱によ一′フ
て分解する。これは、主として遊離ノ、H−、H,,伴
うi’+’J ;f合機構によって起こる。炭(ヒした
残渣を残さない熱分解の二つの例(ポリメチルメタクリ
ラートとポリ−α−メチルスチレン)をここに示す。
て分解する。これは、主として遊離ノ、H−、H,,伴
うi’+’J ;f合機構によって起こる。炭(ヒした
残渣を残さない熱分解の二つの例(ポリメチルメタクリ
ラートとポリ−α−メチルスチレン)をここに示す。
(J IJ
′+ 汁
これらの熱分解反応は、下記のものに記載されている。
エッチ・エッチ・ジー・ジエリネツ/(I(、H。
G、JellineK、) ”ポリマーの減成と安定化
(Aspects of Degradation a
nd ’5tabilization of Poly
mers)”、エルスバイヤー(Elsevier)、
1978エヌ・グラツシー(N、Grassie)”ポ
リマー減成の進展−■(Developments i
nPolymer Degradation−1)”、
応用化学出版業者(Applied S’cience
Publishers)、977 熱プロフィル(第6図〜第6図) 第6図乃至第6図は、本発明にもとづく代表的な4種の
可溶発性ポリマーの熱プロフィルを示したものである。
(Aspects of Degradation a
nd ’5tabilization of Poly
mers)”、エルスバイヤー(Elsevier)、
1978エヌ・グラツシー(N、Grassie)”ポ
リマー減成の進展−■(Developments i
nPolymer Degradation−1)”、
応用化学出版業者(Applied S’cience
Publishers)、977 熱プロフィル(第6図〜第6図) 第6図乃至第6図は、本発明にもとづく代表的な4種の
可溶発性ポリマーの熱プロフィルを示したものである。
これらの熱プロフィルは、窒素雰囲気中で25〜600
℃の温度範囲で毎分20°の一定加熱速度で実施した熱
重量分析によって作成したものである。
℃の温度範囲で毎分20°の一定加熱速度で実施した熱
重量分析によって作成したものである。
これらの材料の熱重量分析(TGA)曲線は、熱分解生
成物の揮発による狭い温度範囲内での比較的急激な重量
減少がその特徴である。例えば、低分子量から高分子量
(MW=20 K−500K)のポリ−α−メチルスチ
レンの熱分析(第6図)では、分解開始温度約300℃
、50%重量損失温度340℃であり、10095重量
損失は385〜390℃で起こる。ポリ−α−メチルス
チレンのガラス転移温度(Tg)は、167〜168℃
である。
成物の揮発による狭い温度範囲内での比較的急激な重量
減少がその特徴である。例えば、低分子量から高分子量
(MW=20 K−500K)のポリ−α−メチルスチ
レンの熱分析(第6図)では、分解開始温度約300℃
、50%重量損失温度340℃であり、10095重量
損失は385〜390℃で起こる。ポリ−α−メチルス
チレンのガラス転移温度(Tg)は、167〜168℃
である。
ポリ(フェニルメタクリラート)(MW=2−2.5X
106)の熱分解が、第4図に示しである。
106)の熱分解が、第4図に示しである。
この材料は、約600℃で分解し始め、次に急激な重量
損失を受けて370℃で約50%、約450℃でほぼゼ
ロの重量に達する。このポリマーのガラス転移温度(T
g)は、約109℃である。
損失を受けて370℃で約50%、約450℃でほぼゼ
ロの重量に達する。このポリマーのガラス転移温度(T
g)は、約109℃である。
ポリメチルメタクリラート(PMMA )(MA約80
,000)のTGA曲線(第5図)は、重量損失を伴う
分解が約ろ00℃で始まり、続いて627℃までに約5
0%損失となり、450℃までに約100%の重量損失
となることを示している。
,000)のTGA曲線(第5図)は、重量損失を伴う
分解が約ろ00℃で始まり、続いて627℃までに約5
0%損失となり、450℃までに約100%の重量損失
となることを示している。
P’M M Aの’rgは、約105℃である。
ターポリマー(ポリMMA−MAA−MA>ポリ(メチ
ルメタクリラート−無水メタクリル酸−メタクリル酸)
のTGA温度記録図(第6図)は、重量損失を伴う分解
が約650℃で始まり、続いて約450〜460℃の温
度でほとんど残渣なしに、急速な重量損失が起こること
を示している。
ルメタクリラート−無水メタクリル酸−メタクリル酸)
のTGA温度記録図(第6図)は、重量損失を伴う分解
が約650℃で始まり、続いて約450〜460℃の温
度でほとんど残渣なしに、急速な重量損失が起こること
を示している。
とのポリマーの分子里MWは、40〜80X10である
。
。
第6図ないし第6図の熱プロフィルは、窒素雰囲気中で
得られたものである。酸素または空気雰囲気を使用した
場合、これらの可溶発注ポリマーの残渣の量はゼロにな
る。
得られたものである。酸素または空気雰囲気を使用した
場合、これらの可溶発注ポリマーの残渣の量はゼロにな
る。
本発明の可溶発性材料とは対照的に、セルロース性エス
テルなどの通常の有機バインダ(例えば、酢酸酪酸セル
ロース(CAB )、エチル・セルロースおよびウレタ
ン架橋CAB ’)は、重量損失の速度がずっと遅く、
また重量損失がもつと早い温度で始まり、必ず若干の炭
化残渣が残る。−例として、CA B 553.4 (
Eastman Chemicals社製)の熱プロフ
ィルは、約260℃で重量損失が開始し、続いて温度の
上昇と共に重量損失が続(・て400℃で10%の残渣
、590℃で約05%の残渣となることを示している。
テルなどの通常の有機バインダ(例えば、酢酸酪酸セル
ロース(CAB )、エチル・セルロースおよびウレタ
ン架橋CAB ’)は、重量損失の速度がずっと遅く、
また重量損失がもつと早い温度で始まり、必ず若干の炭
化残渣が残る。−例として、CA B 553.4 (
Eastman Chemicals社製)の熱プロフ
ィルは、約260℃で重量損失が開始し、続いて温度の
上昇と共に重量損失が続(・て400℃で10%の残渣
、590℃で約05%の残渣となることを示している。
このように、本発明を実施する際に、可溶発性ポリマー
を放電破壊印刷構造の製造用のコーティング組成物に使
って、放電破壊記録用電極のエツジに蓄まるグレイ・ケ
ーキなどの残直による「汚れ」問題や「ヘーキング」問
題をなくすることができる。この可溶発性材料は、基層
またをま上層や潤滑保護層に使用する。ことができる。
を放電破壊印刷構造の製造用のコーティング組成物に使
って、放電破壊記録用電極のエツジに蓄まるグレイ・ケ
ーキなどの残直による「汚れ」問題や「ヘーキング」問
題をなくすることができる。この可溶発性材料は、基層
またをま上層や潤滑保護層に使用する。ことができる。
使用できる可溶発性ポリマーの諸クラスと各クラスの適
当なポリマーの例について説明してきた。
当なポリマーの例について説明してきた。
これらの化学的定義(構造式など)に加えて、それらが
もつべき追加的性質にもとづいて可溶発性ポリマーを選
択する。これらの性質には、以下のものが含まれる。
もつべき追加的性質にもとづいて可溶発性ポリマーを選
択する。これらの性質には、以下のものが含まれる。
1 ポリマーは熱によってきれいに解重合して、熱分解
中に再結合することなく、低分子量の揮発性モノマーに
ならねばならない。
中に再結合することなく、低分子量の揮発性モノマーに
ならねばならない。
2 これらのポリマーの熱分解によって、有毒な副産物
ができてはならなし・。
ができてはならなし・。
ろ、ポリマーは、放電破壊記録媒体の他の成分と融和性
がなければならず、膜として形成可能でなければならな
し・。
がなければならず、膜として形成可能でなければならな
し・。
4 これらのポリマーは、分解後の残渣が少ないことお
よび粘着性副産物などがないことが特徴でなければなら
ない。
よび粘着性副産物などがないことが特徴でなければなら
ない。
5 適切なポリマーは、また熱によって急激に分解が開
始し、急速に分解して残渣がほぼセロになるものでなけ
ればならない。
始し、急速に分解して残渣がほぼセロになるものでなけ
ればならない。
6 熱分解が始まる温度は、放電破壊に必要な温度以下
であるべきである。
であるべきである。
これらの基準の範囲内で、当業者は本発明を実施する際
に使用できる可溶発性ポリマーの例を他にも選択できる
。
に使用できる可溶発性ポリマーの例を他にも選択できる
。
下記の代表的な例は、本発明にもとづく放電破壊印刷媒
体の製造を例示したものである。
体の製造を例示したものである。
例■
基層(12):基層のコーティング処方は、下記のよう
にして調製する。
にして調製する。
T、 HF −)ルエン4:1混合物に溶かした酢酸酪
酸セルロース(イース斗マン・コダック社CAB553
.4)20°/3溶液(重量比)158重量部を、無定
形シリカ端末(イリノイ・ミネラル社(111inoi
s Mineral Co、 )のIMSILI08H
)1.9部と分散媒(七ベイ社(MobayCo、)の
R22l−75)0.15部と合せて、混合物をボール
・ミルで12〜16時間粉砕する。
酸セルロース(イース斗マン・コダック社CAB553
.4)20°/3溶液(重量比)158重量部を、無定
形シリカ端末(イリノイ・ミネラル社(111inoi
s Mineral Co、 )のIMSILI08H
)1.9部と分散媒(七ベイ社(MobayCo、)の
R22l−75)0.15部と合せて、混合物をボール
・ミルで12〜16時間粉砕する。
できた分散液に、THF−トルエン4:1混合物に溶か
したポリ−α−メチルスチレン(−uW5ろ3I()1
0%溶液10部を加えてさらにろ時間ボール・ミルで粉
砕を続け、その後T HF−トルエン3部に溶かしたポ
リイソソアナート(モベイ(Mobay)社のCl3−
75)溶e、1〜2部と界面活性剤(3M社のFC43
0)0.01部を分散液に加えて10分間撹拌し、すべ
ての成分が完全に混合するようにする。
したポリ−α−メチルスチレン(−uW5ろ3I()1
0%溶液10部を加えてさらにろ時間ボール・ミルで粉
砕を続け、その後T HF−トルエン3部に溶かしたポ
リイソソアナート(モベイ(Mobay)社のCl3−
75)溶e、1〜2部と界面活性剤(3M社のFC43
0)0.01部を分散液に加えて10分間撹拌し、すべ
ての成分が完全に混合するようにする。
次に、この処方を通常のウェブ・コーティング装置を用
いて、厚さ2ミルのポリエステル基板(Mylar(テ
ユポン社の商標)XM728)のシートに塗布し、続い
て95〜110℃で6〜5分間溶媒を蒸発させ/乾燥し
、厚さ6〜6マイクロメードルのコーティングを得る。
いて、厚さ2ミルのポリエステル基板(Mylar(テ
ユポン社の商標)XM728)のシートに塗布し、続い
て95〜110℃で6〜5分間溶媒を蒸発させ/乾燥し
、厚さ6〜6マイクロメードルのコーティングを得る。
導電性A4層
上記の基層の上に通常の真空メタライゼーンヨン法で厚
さ325^OA1層を蒸着させる。
さ325^OA1層を蒸着させる。
この材料を60〜60ボルトで放電破壊記録に使用する
と、「直接ネガ」または印刷機の1オフセット原版」と
して使用できる高品質の印刷媒体がもたらされた。画像
領域は疎水性でインキ受容性であることがわかったが、
AA衣表面つ℃・た非書込み領域は親水性で、親油性の
印刷インキがぬれない。
と、「直接ネガ」または印刷機の1オフセット原版」と
して使用できる高品質の印刷媒体がもたらされた。画像
領域は疎水性でインキ受容性であることがわかったが、
AA衣表面つ℃・た非書込み領域は親水性で、親油性の
印刷インキがぬれない。
石墨などの固体潤滑剤を、米国特許出願第454743
号で開示されているようなセルロース性バインダまたは
熱によって解重合できるポリマー・バインダに混ぜた処
方からなる保護潤滑層を塗布すると、上記の構造が耐摩
耗性の点でさらに改善される。
号で開示されているようなセルロース性バインダまたは
熱によって解重合できるポリマー・バインダに混ぜた処
方からなる保護潤滑層を塗布すると、上記の構造が耐摩
耗性の点でさらに改善される。
保護層(16)
導電層14を剥離や引掻きから保護し、記録媒体の品質
を全体的に改善するために、Al膜を、固形物4〜7重
量%きしての下記の潤滑剤処方でオーバーコートする。
を全体的に改善するために、Al膜を、固形物4〜7重
量%きしての下記の潤滑剤処方でオーバーコートする。
THF−トルエン4:1混合物に溶かしたポリ−α−メ
チルスチレン(MW533I()10%溶液4−6部を
10重量%の精製カーボン石墨固形物(ス、< 1)ア
ー・グラファイト社(Supe口0rGraphite
Co、)の製品No、211など)を含む儂福コロイ
ド懸濁液95部と合せて、30分〜1時間ボール・ミル
で粉砕する。得られた分散液を25:1のTHF−4ル
工ン12部で希釈し、高速スターンを使って完全に混合
する。
チルスチレン(MW533I()10%溶液4−6部を
10重量%の精製カーボン石墨固形物(ス、< 1)ア
ー・グラファイト社(Supe口0rGraphite
Co、)の製品No、211など)を含む儂福コロイ
ド懸濁液95部と合せて、30分〜1時間ボール・ミル
で粉砕する。得られた分散液を25:1のTHF−4ル
工ン12部で希釈し、高速スターンを使って完全に混合
する。
この組成物を、通常のウェブ・コーティング法で連続乾
燥サイクルを使って90〜100°Cで3〜10分間塗
布して、厚さが2〜15mg/Cm2のコーティング重
量に対応する保護層を形成する。
燥サイクルを使って90〜100°Cで3〜10分間塗
布して、厚さが2〜15mg/Cm2のコーティング重
量に対応する保護層を形成する。
ポリ−α−メチルメチレフ10%溶e、5〜10部また
は別法としてここに述べる熱によって解重合できるポリ
マー系を石墨またはカーボン野濁液として処方すること
によって、有機バインダ含量がもつと高いオーバーコー
ト組成物を形成することができる。
は別法としてここに述べる熱によって解重合できるポリ
マー系を石墨またはカーボン野濁液として処方すること
によって、有機バインダ含量がもつと高いオーバーコー
ト組成物を形成することができる。
上記の処方のポリ−α−メチルスチレンの代りに、35
:1のTHF−トルエンに溶かしたポリフェニルメタク
リラート(MW2.3X106)7.5%溶液を使って
、同様の保護コーティングをA1層の上に形成した。こ
の記録媒体に放電破壊印刷すると、印刷ヘッドに壊食さ
れたくずが僅んど蓄まらない、秀れた印刷品質の「直接
ネガ」がもたらされた。
:1のTHF−トルエンに溶かしたポリフェニルメタク
リラート(MW2.3X106)7.5%溶液を使って
、同様の保護コーティングをA1層の上に形成した。こ
の記録媒体に放電破壊印刷すると、印刷ヘッドに壊食さ
れたくずが僅んど蓄まらない、秀れた印刷品質の「直接
ネガ」がもたらされた。
例II
THFとトルエンの6:1混合物145部にポリフェニ
ルメタクリラート(MW=2.3X106)125重量
部を溶かした溶液を、無定形シリカ(イリノイ・ミネラ
ル社(Illinois MineralCo、)のI
MSIL A108H)0.32部を合せて、混合物を
ボール・ミルで6〜8時間破砕し、均一な懸1r:Jt
!、を形成する。これを、酢酸エチル−トルエン(1:
1)2部で希釈し、通常のウェブ・コーティング装置を
使って厚さ2ミルのマイラー基板に塗布し、続いて90
〜100°Cで3〜5分間溶媒を蒸発させ/乾燥して、
基層(12)として厚さ2〜4umのコーティングを得
る。次に、通常の真空メタライセーソヨノ法によって、
基層に厚さ600〜400大の導′屯層、典型的な賜金
はアルミニウム層を形成する。
ルメタクリラート(MW=2.3X106)125重量
部を溶かした溶液を、無定形シリカ(イリノイ・ミネラ
ル社(Illinois MineralCo、)のI
MSIL A108H)0.32部を合せて、混合物を
ボール・ミルで6〜8時間破砕し、均一な懸1r:Jt
!、を形成する。これを、酢酸エチル−トルエン(1:
1)2部で希釈し、通常のウェブ・コーティング装置を
使って厚さ2ミルのマイラー基板に塗布し、続いて90
〜100°Cで3〜5分間溶媒を蒸発させ/乾燥して、
基層(12)として厚さ2〜4umのコーティングを得
る。次に、通常の真空メタライセーソヨノ法によって、
基層に厚さ600〜400大の導′屯層、典型的な賜金
はアルミニウム層を形成する。
得られた金属被覆構造は、直接ネガる二製造する際の放
電破壊記録に使用でき、また、通常の親油性(oleo
philic )インキと標準的な付・↓水性インキ(
water clampering−4n’k)’、e
サイクルを使った印刷機のオフセット原版として直接使
用できる。
電破壊記録に使用でき、また、通常の親油性(oleo
philic )インキと標準的な付・↓水性インキ(
water clampering−4n’k)’、e
サイクルを使った印刷機のオフセット原版として直接使
用できる。
保護層(16)
耐摩耗性および耐剥離性の記録媒体を得るため、金属被
覆構造に、ポリメチルメタクリラート、ポリフルオロブ
チルメチルメタクリラート、ポリフェニルメタクリラー
トまたは熱によって解重合できるその他のバインダ系に
分散させた石墨などの固体潤滑剤を含む保護層を設ける
。
覆構造に、ポリメチルメタクリラート、ポリフルオロブ
チルメチルメタクリラート、ポリフェニルメタクリラー
トまたは熱によって解重合できるその他のバインダ系に
分散させた石墨などの固体潤滑剤を含む保護層を設ける
。
代表的な処方では、−50gのスペリアー・グラファイ
ト(5uperior Graphite)社のNo。
ト(5uperior Graphite)社のNo。
211を207のメチルエチルエトンに溶かしたメチル
メタクリラート−メタクリル酸共重合体(65:34)
2gと合せ、高速スターンを使って混合して均一な分散
液として、それを次に4:1のMEK−)ルエンで希釈
して、通常のウェブ・コーティング装置で塗布し、続い
て1oo=iiO℃で、6−5分間溶媒を蒸発させて乾
燥する。
メタクリラート−メタクリル酸共重合体(65:34)
2gと合せ、高速スターンを使って混合して均一な分散
液として、それを次に4:1のMEK−)ルエンで希釈
して、通常のウェブ・コーティング装置で塗布し、続い
て1oo=iiO℃で、6−5分間溶媒を蒸発させて乾
燥する。
乾燥後の望ましい保護層の厚さは、50〜20μg/
c m であり、顔料とバインダの重量比は8:2〜1
:1である。30〜60ボルトの放電破壊装置を使って
記録媒体と′して使用すると、保護層を溶媒で除去した
後にオフセット原版として印刷機で使用できる、秀れた
品質の直接ネガが形成された。
c m であり、顔料とバインダの重量比は8:2〜1
:1である。30〜60ボルトの放電破壊装置を使って
記録媒体と′して使用すると、保護層を溶媒で除去した
後にオフセット原版として印刷機で使用できる、秀れた
品質の直接ネガが形成された。
本発明をその特定の実施例に則して説明してきたが、当
業者には明らかなように、本発明の精神と範囲から外れ
ることなくそれに変更を加えることができる。可溶発性
ポリマーがもつべき特徴について数多くの基準を示した
ので、これらの基準と本発明の教示を使って具体的に列
挙した以外に適切なポリマーなしてどんなものがあるか
を決めることは、普通の技術の範囲に含まれる。さらに
、基層または保護層中のこれらのポリマーの割合を変え
ることができる。これらのポリマーをこれらの層中で唯
一のバインダとして使用すれば最も有利な結果が得られ
るが、これらのポリマーをこれらの層中で他のポリマー
と組み合せて使用すれば、これらの層に使用される望ま
しい材料の相対量に応じて、それだけ有利でない結果が
得られることがある。
業者には明らかなように、本発明の精神と範囲から外れ
ることなくそれに変更を加えることができる。可溶発性
ポリマーがもつべき特徴について数多くの基準を示した
ので、これらの基準と本発明の教示を使って具体的に列
挙した以外に適切なポリマーなしてどんなものがあるか
を決めることは、普通の技術の範囲に含まれる。さらに
、基層または保護層中のこれらのポリマーの割合を変え
ることができる。これらのポリマーをこれらの層中で唯
一のバインダとして使用すれば最も有利な結果が得られ
るが、これらのポリマーをこれらの層中で他のポリマー
と組み合せて使用すれば、これらの層に使用される望ま
しい材料の相対量に応じて、それだけ有利でない結果が
得られることがある。
本発明によれば、放電破壊記録中に生じる残置を少くす
ることができる。
ることができる。
第1図は、中間層または保護層に本発明の可溶発性ポリ
マーを含む放電破壊記録媒体を示す概略図である。 第2図は、薄い導電層と中間層の間に、本発明の可溶発
性ポリマーを含む付加層18を使用した放電破壊記録媒
体を示す概略図である。 第3図、第4図、第5図及び第6図は、本発明で使用で
きる代表的な4種の可溶発性ポリマーの重量と温度をプ
ロットした熱重量分析(TGA )温度記録図である。 10・・・・支持体、12・・・・基層、14・・・・
導電層、16・・・・保護層、18・・・・分離層。 放電破壊記録中【体の根す各図 第1図 別の放電tL堰記徐媒体の概略図 第2図 湿度(0C) fリーグ−メチ)しス子レジの熱ろ1h回第3図 温度(0C) 止ζ1〕()に;しメタクリラート)の熱会祈図1度(
0C) 温度(0C) セリ(MMA−MAA−MA)の熱亦桁図偶Tρかl 第1頁の続き 0発 明 者 ケイス・サミュエル・ アペニントン
− @発明者ミツチェルΦシモン ア ズ・コーエン し・ メリカ合衆国ニューヨーク州すマーズ、ロンドンプリ・
レーン(番地なし) メリカ合衆国ニューヨーク州オシニング、グレゴリ−・
−ン2旙地
マーを含む放電破壊記録媒体を示す概略図である。 第2図は、薄い導電層と中間層の間に、本発明の可溶発
性ポリマーを含む付加層18を使用した放電破壊記録媒
体を示す概略図である。 第3図、第4図、第5図及び第6図は、本発明で使用で
きる代表的な4種の可溶発性ポリマーの重量と温度をプ
ロットした熱重量分析(TGA )温度記録図である。 10・・・・支持体、12・・・・基層、14・・・・
導電層、16・・・・保護層、18・・・・分離層。 放電破壊記録中【体の根す各図 第1図 別の放電tL堰記徐媒体の概略図 第2図 湿度(0C) fリーグ−メチ)しス子レジの熱ろ1h回第3図 温度(0C) 止ζ1〕()に;しメタクリラート)の熱会祈図1度(
0C) 温度(0C) セリ(MMA−MAA−MA)の熱亦桁図偶Tρかl 第1頁の続き 0発 明 者 ケイス・サミュエル・ アペニントン
− @発明者ミツチェルΦシモン ア ズ・コーエン し・ メリカ合衆国ニューヨーク州すマーズ、ロンドンプリ・
レーン(番地なし) メリカ合衆国ニューヨーク州オシニング、グレゴリ−・
−ン2旙地
Claims (3)
- (1)非導電性支持体と、 放電破壊記録中に除去される薄い導電層と、前記支持体
と前記導電層の間に配置された基層とを具備し、 前記基層が、放電破壊記録中に熱によって誘発される主
鎖切断を受けて残渣をほとんどまたは全く残さずにモノ
マーまたは低分子量の化学種になる可溶定性ポリ:マー
を含むことを特徴とする放電破壊記録媒体。 - (2)非導電性支持体と、 薄い導電層と、 前記導電層を保護するための保護層とを具備し、前記保
護層が潤滑剤と、放電破壊記録中に熱によって誘発され
る主鎖切断を受けて、残渣をほとんどまたは全く残さず
にモノマーまたは低分子量の化学種になる可溶発性ポリ
マーを含んでいることを特徴とする放電破壊記録媒体。 - (3)非導電性支持体と、 薄い導電層と、 前記支持体と前記導電層との間に配置された基層と、 前記導電層と前記基層との間に配置された分離層とを具
備し、 前記分離層が、放電破壊記録中に熱によって誘発される
主鎖切断を受けて、残渣をほとんど又は全く残さずにモ
ノマー又は低分子量の化学種になる可溶発性ポリマーを
含むことを特徴とする放電破壊記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/599,875 US4550061A (en) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | Electroerosion printing media using depolymerizable polymer coatings |
| US599875 | 1990-10-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60219089A true JPS60219089A (ja) | 1985-11-01 |
Family
ID=24401452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60022141A Pending JPS60219089A (ja) | 1984-04-13 | 1985-02-08 | 放電破壊記録媒体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4550061A (ja) |
| EP (1) | EP0158276B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60219089A (ja) |
| CA (1) | CA1233022A (ja) |
| DE (1) | DE3580996D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189693A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | 旭硝子株式会社 | 電子部品の防湿コ−テイング方法 |
| US5109771A (en) * | 1988-08-19 | 1992-05-05 | Presstek, Inc. | Spark-discharge lithography plates containing image-support pigments |
| DE68914634T2 (de) * | 1989-01-23 | 1994-11-17 | Ibm | Elektroerosions-Aufzeichnungsmaterial mit verbesserter Korrosionsbeständigkeit. |
| US5217829A (en) * | 1990-02-22 | 1993-06-08 | Presstek, Inc. | Method for producing photomasks |
| US5353705A (en) * | 1992-07-20 | 1994-10-11 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5379698A (en) * | 1992-07-20 | 1995-01-10 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging |
| US5339737B1 (en) * | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| AU699030B2 (en) * | 1992-07-20 | 1998-11-19 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| USRE35512F1 (en) * | 1992-07-20 | 1998-08-04 | Presstek Inc | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging |
| US5354633A (en) * | 1993-09-22 | 1994-10-11 | Presstek, Inc. | Laser imageable photomask constructions |
| US7506440B2 (en) * | 2005-06-28 | 2009-03-24 | General Electric Company | Titanium treatment to minimize fretting |
| CN103342063B (zh) * | 2013-06-08 | 2015-11-18 | 深圳九星印刷包装集团有限公司 | 一种导电电化铝 |
| JP6913668B2 (ja) * | 2016-03-28 | 2021-08-04 | 株式会社カネカ | グラフト共重合体、および、それを含有するアクリル系樹脂組成物 |
| WO2020090338A1 (ja) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120833A (ja) * | 1974-08-13 | 1976-02-19 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5124240A (ja) * | 1974-08-22 | 1976-02-27 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5137658A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5152847A (ja) * | 1974-11-05 | 1976-05-10 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5770696A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-01 | Ricoh Co Ltd | Electronic recording stencil sheet |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2983220A (en) * | 1955-03-16 | 1961-05-09 | Timefax Corp | Electro-sensitive planographic printing plate |
| US3138547A (en) * | 1959-10-23 | 1964-06-23 | Minnesota Mining & Mfg | Electrosensitive recording sheets |
| US3048515A (en) * | 1960-01-11 | 1962-08-07 | Timefax Corp | Plural-ply paper and method of manufacture with one or more conductive plies |
| US3242075A (en) * | 1962-04-09 | 1966-03-22 | Acheson Ind Inc | High temperature lubricant |
| US3411948A (en) * | 1964-04-08 | 1968-11-19 | Hewlett Packard Co | Electrosensitive recording medium |
| US3514325A (en) * | 1966-11-17 | 1970-05-26 | Hewlett Packard Co | Electrosensitive recording article and method of making the same |
| DE2748161C3 (de) * | 1977-10-27 | 1980-09-18 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Aufzeichnungsträger für Registriergeräte |
| JPS6049435B2 (ja) * | 1980-07-30 | 1985-11-01 | 本州製紙株式会社 | 放電記録媒体 |
| US4339758A (en) * | 1981-05-15 | 1982-07-13 | Dennison Manufacturing Company | Electrosensitive recording |
-
1984
- 1984-04-13 US US06/599,875 patent/US4550061A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-02-08 JP JP60022141A patent/JPS60219089A/ja active Pending
- 1985-03-01 CA CA000475571A patent/CA1233022A/en not_active Expired
- 1985-04-04 DE DE8585104055T patent/DE3580996D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-04-04 EP EP85104055A patent/EP0158276B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120833A (ja) * | 1974-08-13 | 1976-02-19 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5124240A (ja) * | 1974-08-22 | 1976-02-27 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5137658A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5152847A (ja) * | 1974-11-05 | 1976-05-10 | Ricoh Kk | Hodenkirokuzairyo |
| JPS5770696A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-01 | Ricoh Co Ltd | Electronic recording stencil sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3580996D1 (de) | 1991-02-07 |
| CA1233022A (en) | 1988-02-23 |
| EP0158276B1 (en) | 1991-01-02 |
| EP0158276A3 (en) | 1988-01-07 |
| EP0158276A2 (en) | 1985-10-16 |
| US4550061A (en) | 1985-10-29 |
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