JPS60219223A - 組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、少くとも6個の末端エポキシ基を有するエポ
キシ化された非線状ノボラックを含む組成物に係る。
キシ化された非線状ノボラックを含む組成物に係る。
本発明の組成物は、優れた貯蔵寿命、硬化時の高温特性
、及び銅に対する良好な付着性を有し、プリント回路板
用マトリックス材料として特に適している。
、及び銅に対する良好な付着性を有し、プリント回路板
用マトリックス材料として特に適している。
回路板は、ラジオ、テレビ、電気器具及び種々の電気装
置の如き分野の電気産業に於て広範囲に用いられている
。回路板を形成するために広く用いられている技術は、
織られたファイバガラス・ノートに樹脂組成物を含浸さ
せそして上記樹脂を含浸されたファイバガラス・ノート
の片1Jll]又は両側に銅ノートを積層化する方法で
ある。次に、上記銅ノート中に電気回路をエツチングし
て、回路板を形成し、使用時に上記回路板に電気接続体
をろう付けすることができる。
置の如き分野の電気産業に於て広範囲に用いられている
。回路板を形成するために広く用いられている技術は、
織られたファイバガラス・ノートに樹脂組成物を含浸さ
せそして上記樹脂を含浸されたファイバガラス・ノート
の片1Jll]又は両側に銅ノートを積層化する方法で
ある。次に、上記銅ノート中に電気回路をエツチングし
て、回路板を形成し、使用時に上記回路板に電気接続体
をろう付けすることができる。
回路板を形成するためにファイバガラスに含浸される種
々の樹脂が従来提案されている。例えば、ポリイミド樹
脂がその様な目的に用いられている。
々の樹脂が従来提案されている。例えば、ポリイミド樹
脂がその様な目的に用いられている。
ポリイミド樹脂を用いた場合には、高温に対する優れた
耐性、低い熱膨張、及び高い電気抵抗を含む良好な電気
特性を有する良質の回路板が得られる。しかしながら、
ポリイミド樹脂から形成された回路板は、エポキシ樹脂
を含浸されたファイバガラス・7−トから形成された回
路板に比べて、相対的に高価である。エポキシ樹脂を含
浸されたファイバガラス・シートの回路板は、ポリイミ
ド樹脂を用いて形成された回路板よりも相当に安価であ
るが、ポリイミド樹脂を含浸されたファイバガラス・ノ
ートの回路板に比べて、高温に対する耐性が特に高くな
く、より低い電気特性及びよシ高い熱膨張を有している
。更に、他の型の位j詣系もこの目的のために提案され
ている。例えば、或ル種のエポキシ樹脂と成る種の特定
のビスマレイミド材料との組合せが米国特許第4294
877号及び第4294743号の明細書に於て提案さ
れている。
耐性、低い熱膨張、及び高い電気抵抗を含む良好な電気
特性を有する良質の回路板が得られる。しかしながら、
ポリイミド樹脂から形成された回路板は、エポキシ樹脂
を含浸されたファイバガラス・7−トから形成された回
路板に比べて、相対的に高価である。エポキシ樹脂を含
浸されたファイバガラス・シートの回路板は、ポリイミ
ド樹脂を用いて形成された回路板よりも相当に安価であ
るが、ポリイミド樹脂を含浸されたファイバガラス・ノ
ートの回路板に比べて、高温に対する耐性が特に高くな
く、より低い電気特性及びよシ高い熱膨張を有している
。更に、他の型の位j詣系もこの目的のために提案され
ている。例えば、或ル種のエポキシ樹脂と成る種の特定
のビスマレイミド材料との組合せが米国特許第4294
877号及び第4294743号の明細書に於て提案さ
れている。
樹脂組成物は、望ましくは、硬化時に、比較的、高いガ
ラス転移温度及び高温に対する優れた耐性を示すべきで
ある。従って、集積回路板用マトリックス材料として適
当である組成物は、硬化時の比較的高いガラス転移温度
、低沸点溶媒中に於ける可溶性及び安定性、ファイバガ
ラス・シートへの付着性、低い熱膨張、並びに高い電気
抵抗等の多くの多様な特性を有していなければならない
。
ラス転移温度及び高温に対する優れた耐性を示すべきで
ある。従って、集積回路板用マトリックス材料として適
当である組成物は、硬化時の比較的高いガラス転移温度
、低沸点溶媒中に於ける可溶性及び安定性、ファイバガ
ラス・シートへの付着性、低い熱膨張、並びに高い電気
抵抗等の多くの多様な特性を有していなければならない
。
本発明の目的は、低沸点溶媒中に於て極めて高い安定性
を示し、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、硬
化時に極めて低い熱膨張特性を有する組成物を提供する
ことである。
を示し、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、硬
化時に極めて低い熱膨張特性を有する組成物を提供する
ことである。
本発明は、低沸点溶媒中に於て極めて高い安定性を示し
、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、硬化時に
極めて低め熱膨張特性を有する組成物を提供する。
、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、硬化時に
極めて低め熱膨張特性を有する組成物を提供する。
本発明の組成物は、(A)約25乃至約30重量部の、
約350乃至約450エポキシ当量を有するビスフェノ
ール−Aの四臭素化ジグリシジン・エーテルと、(B)
約10乃至約15重量部の、約60O乃至約750エポ
キシ当量を有するビスフェノ−ル’ −A 117)四
臭素化ラグリシジル・ニーテルト、(C1約55乃至約
65重量部の、少くとも6個の末端エポキシ基を有する
少くとも1つのエポキシ化された非線状ノボラックとを
含む。上記量は、上記組成物中の上記(h)、(BJ及
び(C)の全重量に基づいている。
約350乃至約450エポキシ当量を有するビスフェノ
ール−Aの四臭素化ジグリシジン・エーテルと、(B)
約10乃至約15重量部の、約60O乃至約750エポ
キシ当量を有するビスフェノ−ル’ −A 117)四
臭素化ラグリシジル・ニーテルト、(C1約55乃至約
65重量部の、少くとも6個の末端エポキシ基を有する
少くとも1つのエポキシ化された非線状ノボラックとを
含む。上記量は、上記組成物中の上記(h)、(BJ及
び(C)の全重量に基づいている。
本発明の上記組成物は、硬化剤とともに繊維性基板に含
浸されて、製品を形成する。
浸されて、製品を形成する。
本発明に於て用いられるエポキシ化ノボラックは、非線
状(例えば、高度の枝分れを有する)でなければならず
、少くとも約6個の、好ましくは約8個の末端エポキシ
基を含んでいなければならない。エポキシ化ノボラック
重合体は、一般に入手可能であシ、周知の方法にまり、
多核2価フェノールの熱可塑性フェノール−アルデヒド
をハローエポキシ・アルカンと反応させることによって
形成することができる。
状(例えば、高度の枝分れを有する)でなければならず
、少くとも約6個の、好ましくは約8個の末端エポキシ
基を含んでいなければならない。エポキシ化ノボラック
重合体は、一般に入手可能であシ、周知の方法にまり、
多核2価フェノールの熱可塑性フェノール−アルデヒド
をハローエポキシ・アルカンと反応させることによって
形成することができる。
多核゛2価フェノールは次式を有することができる。
上記式に於て、Arはナフチレン、好ましくはフェニレ
ンの如き2価の芳香族炭化水素であり、相互に同一の又
は異なるA及びA1は好ましくは1乃至4個の炭素原子
を有するアルキル基;弗素、塩素、臭素及び沃素のハロ
ゲン原子;又は好ましくは1乃至4個の炭素原子を有す
るアルコキシ基であり、X及びyは置換基により置換え
ることができる芳香族の基(Ar )に於ける水素原子
の数に対応する0乃至最大値の整数であり、R1はジヒ
ドロオキシジフェニルに於ける如き隣接する炭素原子間
の結合源であシ、又は例えば、 −c−1−〇−1−s−1−8O−1S O2−1I 及び−5−S−; アルキレン、アルキリデン、例えばシクロアルキレン及
びシクロアルキリデン等の脂環式の基、ハロゲン化され
アルコキシ又はアリールオキシで置換されたアルキレン
、アルキリデン及び脂環式の基、及びアルカリレンの如
き2価の炭化水素の素;並びにハロゲン化されアルキル
、アルコキシ、又はアリールオキシで置換された芳香族
の基及びArの基に融合された環を含む芳香族の基;を
含む2価の基であり、R1は又ポリアルコキシ;ポリシ
ロキシ;或は芳香族の環、第ろアミン基、エーテル結合
、カルボニル基、又はスルホキシドの如き硫黄を含む基
により分離されている2つ又はそれ以上のアルキリデン
の基等であることができる。
ンの如き2価の芳香族炭化水素であり、相互に同一の又
は異なるA及びA1は好ましくは1乃至4個の炭素原子
を有するアルキル基;弗素、塩素、臭素及び沃素のハロ
ゲン原子;又は好ましくは1乃至4個の炭素原子を有す
るアルコキシ基であり、X及びyは置換基により置換え
ることができる芳香族の基(Ar )に於ける水素原子
の数に対応する0乃至最大値の整数であり、R1はジヒ
ドロオキシジフェニルに於ける如き隣接する炭素原子間
の結合源であシ、又は例えば、 −c−1−〇−1−s−1−8O−1S O2−1I 及び−5−S−; アルキレン、アルキリデン、例えばシクロアルキレン及
びシクロアルキリデン等の脂環式の基、ハロゲン化され
アルコキシ又はアリールオキシで置換されたアルキレン
、アルキリデン及び脂環式の基、及びアルカリレンの如
き2価の炭化水素の素;並びにハロゲン化されアルキル
、アルコキシ、又はアリールオキシで置換された芳香族
の基及びArの基に融合された環を含む芳香族の基;を
含む2価の基であり、R1は又ポリアルコキシ;ポリシ
ロキシ;或は芳香族の環、第ろアミン基、エーテル結合
、カルボニル基、又はスルホキシドの如き硫黄を含む基
により分離されている2つ又はそれ以上のアルキリデン
の基等であることができる。
特定の多核2価フェノールの例としては、2゜’2−ビ
ス(4−ヒドロオキシフェニル)フロパン、2.4’−
ジヒドロオキシジフェニルメタン、ビス(2−ヒドロオ
キシフェニル)メタ/、ビス(4−ヒドロオキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロオキシ−2,6−シメチ
ルー3−メトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4
−ヒドロ、t−+ジフェニル)エタン、1.2−ビス(
4−ヒドロオキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4
−ヒドロオキシ−2−クロルフェニル)エタン、1゜1
−ビス(6−メチル−4−ヒドロオキシフェニル)エタ
ン、1,3−ビス(3−メチル−4−ヒドロオキシフェ
ニル)フロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロオキシフェニル)フロパン、2,2−ビス(6−イ
ノプロビル−4−ヒドロオキシフェニル)プロパン、2
..2−ビス(2−イ:/プロピルー4−ヒドロオキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
ナフチル)フロパン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)ペンタン、3.3−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)へブタン、ビス(4−ヒドロオキシフェニル
)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロオキシフェニル)
シクロヘキシルメタン、1.2−ビス(4−ヒドロオキ
シフェニル)−1、2−ビス(フェニル)プロパン、及
び21.2−ビス(4−ヒドロオキシフェニル)−1−
フェニルプロパンの如キビス(ヒドロオキシフェニル)
アルカン;ビス(4−ヒドロオキシフェニル)スルホン
、2.4’−ジヒドロオキシジフェニル・スルホン、5
’−クロル−2,41−ジヒドロオキシジフェニル・ス
ルホン、及び51−クロル−4,41−ジヒドロオキシ
ジフェニル・スルホンの類キジ(ヒドロオキシフェニル
)スルホン;並ヒニビス(4−ヒドロオキシフェニル)
エーテル、4.3’−14、2’ −12,2’−12
,31−ジヒドロオキシジフェニル・エーテル、4゜4
1−ジヒドロオキシ−2,6−シメチルジフエニル・エ
ーテル、ビス(4−ヒドロオキシ−ろ−イソブチルジフ
ェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオキシ−6=イン
プロピルフエニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオキシ
−ろ−クロルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオ
キシ−ろ−フルオルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒ
ドロオキシ−3−ブロムフェニル)エーテル、ビス(4
−ヒドロオキシナフチル)エーテ/l/、ビス(4−ヒ
ドロオキシ−3−クロルナフチル)エーテル、ビス(2
−ヒドロオキシジフェニル)エーテル、4,41−ジヒ
ドロオキシ−2,6ジメトキシジフエニル・エーテル、
及ヒ4.4’−ジヒドロオキシ−2,5−ジェトキシジ
フェニル・エーテルの類キシ(ヒドロオキシフェニル)
エーテル等が挙げられる。
ス(4−ヒドロオキシフェニル)フロパン、2.4’−
ジヒドロオキシジフェニルメタン、ビス(2−ヒドロオ
キシフェニル)メタ/、ビス(4−ヒドロオキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロオキシ−2,6−シメチ
ルー3−メトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4
−ヒドロ、t−+ジフェニル)エタン、1.2−ビス(
4−ヒドロオキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4
−ヒドロオキシ−2−クロルフェニル)エタン、1゜1
−ビス(6−メチル−4−ヒドロオキシフェニル)エタ
ン、1,3−ビス(3−メチル−4−ヒドロオキシフェ
ニル)フロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロオキシフェニル)フロパン、2,2−ビス(6−イ
ノプロビル−4−ヒドロオキシフェニル)プロパン、2
..2−ビス(2−イ:/プロピルー4−ヒドロオキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
ナフチル)フロパン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)ペンタン、3.3−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロオキシ
フェニル)へブタン、ビス(4−ヒドロオキシフェニル
)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロオキシフェニル)
シクロヘキシルメタン、1.2−ビス(4−ヒドロオキ
シフェニル)−1、2−ビス(フェニル)プロパン、及
び21.2−ビス(4−ヒドロオキシフェニル)−1−
フェニルプロパンの如キビス(ヒドロオキシフェニル)
アルカン;ビス(4−ヒドロオキシフェニル)スルホン
、2.4’−ジヒドロオキシジフェニル・スルホン、5
’−クロル−2,41−ジヒドロオキシジフェニル・ス
ルホン、及び51−クロル−4,41−ジヒドロオキシ
ジフェニル・スルホンの類キジ(ヒドロオキシフェニル
)スルホン;並ヒニビス(4−ヒドロオキシフェニル)
エーテル、4.3’−14、2’ −12,2’−12
,31−ジヒドロオキシジフェニル・エーテル、4゜4
1−ジヒドロオキシ−2,6−シメチルジフエニル・エ
ーテル、ビス(4−ヒドロオキシ−ろ−イソブチルジフ
ェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオキシ−6=イン
プロピルフエニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオキシ
−ろ−クロルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロオ
キシ−ろ−フルオルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒ
ドロオキシ−3−ブロムフェニル)エーテル、ビス(4
−ヒドロオキシナフチル)エーテ/l/、ビス(4−ヒ
ドロオキシ−3−クロルナフチル)エーテル、ビス(2
−ヒドロオキシジフェニル)エーテル、4,41−ジヒ
ドロオキシ−2,6ジメトキシジフエニル・エーテル、
及ヒ4.4’−ジヒドロオキシ−2,5−ジェトキシジ
フェニル・エーテルの類キシ(ヒドロオキシフェニル)
エーテル等が挙げられる。
好ましい多核2価フェノールは次式によって表わされる
。
。
上記式に於て、A及びA1は前述の如く定義され、X及
びyは0乃至4の値を有し、R1は2価の飽和した脂肪
族炭化水素の基であって、特に1乃至6個の炭素原子を
有するアルキレン及びアルキリデンの基、並びに10個
迄の炭素原子を有するシクロアルキレンの基である。最
も好ましい2価フェノールは、ビスフェノール−A1即
チ2I2−ビス(p−ヒドロオキシフェニル)フロノ々
ンである。
びyは0乃至4の値を有し、R1は2価の飽和した脂肪
族炭化水素の基であって、特に1乃至6個の炭素原子を
有するアルキレン及びアルキリデンの基、並びに10個
迄の炭素原子を有するシクロアルキレンの基である。最
も好ましい2価フェノールは、ビスフェノール−A1即
チ2I2−ビス(p−ヒドロオキシフェニル)フロノ々
ンである。
縮合剤として用いられている特定のフエノールと縮合す
る任意のアルデヒドが用いられ、それらのアルデヒドに
は、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルプヒド、ヘプトアルデヒド、シ
クロヘキサノン、メチルシフ、ロヘキサノン、シクロペ
ンタノン、ベンズアルデヒド、並びにトルイルアルデヒ
ド、ナンドアルデヒド、フルフルアルデヒド、グリオキ
サール及びアクロレインの如き核アルキル置換ベンズア
ルデヒド、又はパラ−ホルムアルデヒド、ヘキサメチレ
ン・テトラアミンの如きアルデヒドを生じることができ
る化合物等がある。それらのアルデヒドは又、一般に入
手用能なホルマリンの如き溶液の形でも用いることがで
きる。好ましいアルデヒドはホルムアルデヒドである。
る任意のアルデヒドが用いられ、それらのアルデヒドに
は、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルプヒド、ヘプトアルデヒド、シ
クロヘキサノン、メチルシフ、ロヘキサノン、シクロペ
ンタノン、ベンズアルデヒド、並びにトルイルアルデヒ
ド、ナンドアルデヒド、フルフルアルデヒド、グリオキ
サール及びアクロレインの如き核アルキル置換ベンズア
ルデヒド、又はパラ−ホルムアルデヒド、ヘキサメチレ
ン・テトラアミンの如きアルデヒドを生じることができ
る化合物等がある。それらのアルデヒドは又、一般に入
手用能なホルマリンの如き溶液の形でも用いることがで
きる。好ましいアルデヒドはホルムアルデヒドである。
ハローエポキシアルカンは次式によって表わすことがで
きる。
きる。
上記式に於て、Xはハロゲン原子(例えば、塩素、臭素
、及び同種のもの)であり、pは1乃至8の整数であり
、R2は各々水素又は7個迄の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、エポキシ・アルキル基に於ける炭素原子の
数は合計で多くて10個である。
、及び同種のもの)であり、pは1乃至8の整数であり
、R2は各々水素又は7個迄の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、エポキシ・アルキル基に於ける炭素原子の
数は合計で多くて10個である。
本発明に於ては、エピクロルヒドリンから誘導された如
きグリシジル・エーテルが特に好ましいが、より多数の
炭素原子を有するエポキシ・アルコキン基を含むエポキ
シ重合体も文通している。
きグリシジル・エーテルが特に好ましいが、より多数の
炭素原子を有するエポキシ・アルコキン基を含むエポキ
シ重合体も文通している。
こレラハ、エピクロルヒドリンを、1−クロル−2,3
〜エポキシブタン、1−クロル−6,4−エポキシブタ
ン、2−クロル−6,4−エポキシブタン、1−クロル
−2−メチル−2,3−エポキシプロパン、1−ブロム
−2,3−エポキシペンタン、2−クロル−メチル−1
,2−エポキシブタン、1−ブロム−4−メチル−6,
4−エポキシペンタン、1−ブロム−4−エチル−2,
3エポキシペンタン、4−クロル−2〜y’−f−ルー
2゜6−エポキシペンタン、1−クロル−2,3−エポ
キシオクタン、1−クロル−2−メチル−2゜5−エポ
キシオクタン、又は1−クロル−2,3−エポキシデカ
ンの如き、代表的な対応するモノヒドロオキシ・エポキ
シアルカンの塩化物は臭化物で置換することによって形
成される。上記の数よりも多い炭素原子を有するノ・ロ
ーエポキシアルカンを用いることも可能であるが、合4
10個よりも多い炭素原子を有するノ・ローエポキシア
ルカンを用いても概して何ら利点はない。
〜エポキシブタン、1−クロル−6,4−エポキシブタ
ン、2−クロル−6,4−エポキシブタン、1−クロル
−2−メチル−2,3−エポキシプロパン、1−ブロム
−2,3−エポキシペンタン、2−クロル−メチル−1
,2−エポキシブタン、1−ブロム−4−メチル−6,
4−エポキシペンタン、1−ブロム−4−エチル−2,
3エポキシペンタン、4−クロル−2〜y’−f−ルー
2゜6−エポキシペンタン、1−クロル−2,3−エポ
キシオクタン、1−クロル−2−メチル−2゜5−エポ
キシオクタン、又は1−クロル−2,3−エポキシデカ
ンの如き、代表的な対応するモノヒドロオキシ・エポキ
シアルカンの塩化物は臭化物で置換することによって形
成される。上記の数よりも多い炭素原子を有するノ・ロ
ーエポキシアルカンを用いることも可能であるが、合4
10個よりも多い炭素原子を有するノ・ローエポキシア
ルカンを用いても概して何ら利点はない。
本発明に於て用いられる好捷しいエポキシ化ノボラック
は次式によって表わされる。
は次式によって表わされる。
上記ノボラックは、EPI−RFJZ 5U−8(商品
名)として一般に入手可能である。
名)として一般に入手可能である。
本発明の組成物は父、2つの異なる、ビスフェノール−
Aの四臭素化ジクリ/ジル・エーテルを含む。本発明の
組成物に於て用いられるビスフェノール−Aの四臭素化
ジグリンジル・エーテルは周知であり、一般に入手b」
能である。それらは、四臭素化されたビスフェノール−
A f、ハローエポキシ・アルカンと反応させることに
よって得るととができる。ハローエポキ/・アルカンハ
次式によって表わすことができる。
Aの四臭素化ジクリ/ジル・エーテルを含む。本発明の
組成物に於て用いられるビスフェノール−Aの四臭素化
ジグリンジル・エーテルは周知であり、一般に入手b」
能である。それらは、四臭素化されたビスフェノール−
A f、ハローエポキシ・アルカンと反応させることに
よって得るととができる。ハローエポキ/・アルカンハ
次式によって表わすことができる。
上記式に於て、Xはハロゲン原子(例えば、塩素、臭素
、及び同種のもの)であシ、pは1乃至8の整数であり
、R2は各々水素又は7個迄の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、エポキ/・アルキル基に於ける炭素原子の
数は合計で多くて101固である。好ましいハローエポ
キシ・アルカンはエピクロルヒドリンである。
、及び同種のもの)であシ、pは1乃至8の整数であり
、R2は各々水素又は7個迄の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、エポキ/・アルキル基に於ける炭素原子の
数は合計で多くて101固である。好ましいハローエポ
キシ・アルカンはエピクロルヒドリンである。
用いられる第1の臭素化エポキシ重合体は、約350乃
至約450のエポキシ当量を有し、最も好ましくは約3
80乃至約420のエポキ/当量を有する。
至約450のエポキシ当量を有し、最も好ましくは約3
80乃至約420のエポキ/当量を有する。
用いられる第2の臭素fヒエポキシ重合体は、約600
乃全約750のエポキシ当量を有し、最も好ましくは約
650乃至約700のエポキ/当量を有する。
乃全約750のエポキシ当量を有し、最も好ましくは約
650乃至約700のエポキ/当量を有する。
本発明の組成物(は、(A)約25乃至約30重量部、
好ましくは約27乃至約2.9重量部の、約350乃至
約450エポキシ当量を有する臭素化エポキ/と、(B
)約10乃至約15重量部、好ましくは約11乃至約1
3重量部の、約600乃至約750エポキシ当量を有す
る臭素化エポキシと、(C)約55乃至約65重葉部、
好ましくは約58乃至約62重量部のエポキシ化された
非線状ノボラックとを含む。上記量は、上記組成物中の
上記(A)、 (B)及び+C>の全重量に基づいてい
る。
好ましくは約27乃至約2.9重量部の、約350乃至
約450エポキシ当量を有する臭素化エポキ/と、(B
)約10乃至約15重量部、好ましくは約11乃至約1
3重量部の、約600乃至約750エポキシ当量を有す
る臭素化エポキシと、(C)約55乃至約65重葉部、
好ましくは約58乃至約62重量部のエポキシ化された
非線状ノボラックとを含む。上記量は、上記組成物中の
上記(A)、 (B)及び+C>の全重量に基づいてい
る。
本発明によシ達成される特性を得るためには、2つの異
なる臭素化エポキシ材料を用いることが不可欠である。
なる臭素化エポキシ材料を用いることが不可欠である。
臭素化エポキシ材料は、硬化された製品に必要な程度の
難燃性を与える1、シかしながら、他の臭素化エポキシ
材料を用いずに、約650乃至約450エポキシ当量を
有する臭素化エポキシ材料を用いた場合には、重合体材
料の溶液の形成後、数日以内に、臭素化エポキ/材料が
溶液から析出してし壕う。又、他の臭素化エポキ/材料
を用いずに、約600乃至約750エポキシ当量を有す
る臭素化エポキシ材料を用いた場合には、回路板の形成
に必要とされる高いガラス転移温度(Tg)が得られな
い。
難燃性を与える1、シかしながら、他の臭素化エポキシ
材料を用いずに、約650乃至約450エポキシ当量を
有する臭素化エポキシ材料を用いた場合には、重合体材
料の溶液の形成後、数日以内に、臭素化エポキ/材料が
溶液から析出してし壕う。又、他の臭素化エポキ/材料
を用いずに、約600乃至約750エポキシ当量を有す
る臭素化エポキシ材料を用いた場合には、回路板の形成
に必要とされる高いガラス転移温度(Tg)が得られな
い。
従って、2つの異なる臭素化エポキシ材料を組合わせる
ことにより、安定な溶液、及び硬化時の高いガラス転移
温度が得られる。本発明の組成物は、硬化時に、約17
5℃又はそれ以上のTgを有することが好ましい。
ことにより、安定な溶液、及び硬化時の高いガラス転移
温度が得られる。本発明の組成物は、硬化時に、約17
5℃又はそれ以上のTgを有することが好ましい。
更に、本発明の組成物は、硬化剤及び/若しくは促進剤
を含んでいない場合に、良好な貯蔵寿命を有する。
を含んでいない場合に、良好な貯蔵寿命を有する。
回路板を形成するために本発明の組成物を用いた場合に
は、回路板中に開孔を形成する際の汚れが減少する。
は、回路板中に開孔を形成する際の汚れが減少する。
本発明の組成物は、有機溶媒中に於ける液体の形で形成
されることが好ましい。その溶媒は、メチル・セロセル
プの如き低沸点の溶媒であることが好ましく、最も好ま
しくはアセトン、メチルエチル・ケトン、及びメチルイ
ソブチル・ケトンの如きケトンである。上記溶媒は、組
成物中の固体材料100重量部に基づいて、約90乃至
約120重数部、好ましくは約100乃至約116重量
部の量で存在する。
されることが好ましい。その溶媒は、メチル・セロセル
プの如き低沸点の溶媒であることが好ましく、最も好ま
しくはアセトン、メチルエチル・ケトン、及びメチルイ
ソブチル・ケトンの如きケトンである。上記溶媒は、組
成物中の固体材料100重量部に基づいて、約90乃至
約120重数部、好ましくは約100乃至約116重量
部の量で存在する。
更に、使用される直前に、硬化剤及び促進剤又は触媒が
、本発明の組成物に、該組成物の硬化を容易にするため
に加えられる。
、本発明の組成物に、該組成物の硬化を容易にするため
に加えられる。
適当な硬化剤の例としては、フェノール型アルデヒド・
ノボラックの如きノボラック硬化剤が挙げられる。フェ
ノール部分は、m−クレゾール、p−クレゾール、及び
キシレノールの如き、フェノール又は置換されたフェノ
ールであることができる。アルデヒドの反応物質は、好
ましくはホルムアルデヒドである。適当な硬化剤には、
126当址のクレゾール−ノボラックであるC1ba
HT94?I]、110当HYの変性されたフェノール
−ノボラックであるCe1anese EP ICUR
E8451、Durez 16227、及びBakel
iteBv9700(各々、商品名)等がある。好まし
い硬化剤は、110当量の変性されたフェノール−ノボ
ラックであるCelanese社製のEPICURE
RDX58470(商品名)である。これは、より少な
い(例えば、ヘキサメチレン・テトラアミン)を含んで
いること以外は、EP I CURE 8451と同様
である。
ノボラックの如きノボラック硬化剤が挙げられる。フェ
ノール部分は、m−クレゾール、p−クレゾール、及び
キシレノールの如き、フェノール又は置換されたフェノ
ールであることができる。アルデヒドの反応物質は、好
ましくはホルムアルデヒドである。適当な硬化剤には、
126当址のクレゾール−ノボラックであるC1ba
HT94?I]、110当HYの変性されたフェノール
−ノボラックであるCe1anese EP ICUR
E8451、Durez 16227、及びBakel
iteBv9700(各々、商品名)等がある。好まし
い硬化剤は、110当量の変性されたフェノール−ノボ
ラックであるCelanese社製のEPICURE
RDX58470(商品名)である。これは、より少な
い(例えば、ヘキサメチレン・テトラアミン)を含んで
いること以外は、EP I CURE 8451と同様
である。
硬化剤は、その反応性を増すために、小さな百分率の、
ヘキサメチレン・テトラアミンの如き、アミンを含んで
もよい。Durezl 6227及びBakelite
BV9700 も、同様に用いるこトカできるフェノ
ール−ノボラック硬化剤である。
ヘキサメチレン・テトラアミンの如き、アミンを含んで
もよい。Durezl 6227及びBakelite
BV9700 も、同様に用いるこトカできるフェノ
ール−ノボラック硬化剤である。
硬化剤は、エポキシ化された非線状ノボラック成分と、
2つの臭素化エポキシ重合体成分との全重量である10
0重量部に基づいて、約66乃至約48、好ましくは約
40乃至約44重量部の量で用いられることが好ましい
。
2つの臭素化エポキシ重合体成分との全重量である10
0重量部に基づいて、約66乃至約48、好ましくは約
40乃至約44重量部の量で用いられることが好ましい
。
促進剤又は硬化剤の例としては、イミド型、イミン型、
及びアミン型の硬化剤の如き、エポキシ重合体のだめの
周知の硬化剤が挙げられる。適当なイミドには、2−メ
チルイミダゾール、2,4−メチル・エチル・イミダゾ
−ル(EMI−24=商品名)等があり、適当なアミン
には、ジエチレントリアミン、2,4.6−トリーN、
N’−ジメチルアミンエチルフェノール、トリエチレン
テトラアミン、テトラエチレンペンタアミン、ベンジル
・ジメチルアミン等がある。上記硬化剤は、エポキシ化
された非線状ノボラック成分と、2つの臭素化エポキシ
重合体成分との全重量である100重量部に基づいて、
約0.05乃至約0.4、好ましくは約01乃至約02
重量部の量で用いられる。
及びアミン型の硬化剤の如き、エポキシ重合体のだめの
周知の硬化剤が挙げられる。適当なイミドには、2−メ
チルイミダゾール、2,4−メチル・エチル・イミダゾ
−ル(EMI−24=商品名)等があり、適当なアミン
には、ジエチレントリアミン、2,4.6−トリーN、
N’−ジメチルアミンエチルフェノール、トリエチレン
テトラアミン、テトラエチレンペンタアミン、ベンジル
・ジメチルアミン等がある。上記硬化剤は、エポキシ化
された非線状ノボラック成分と、2つの臭素化エポキシ
重合体成分との全重量である100重量部に基づいて、
約0.05乃至約0.4、好ましくは約01乃至約02
重量部の量で用いられる。
本発明の組成物は、プリント回路板の形成に用いられる
ととが好ましい。回路板の形成に於ては、繊維性の基板
が本発明の組成物により被覆及び含浸される。従来の被
覆装置を用いることができる。
ととが好ましい。回路板の形成に於ては、繊維性の基板
が本発明の組成物により被覆及び含浸される。従来の被
覆装置を用いることができる。
被覆及び含浸された基板が、約140乃至約160℃の
温度で約2乃至約6分間、乾燥されそして部分的に硬化
されて、プリプレグと呼ばれる乾燥した基板が形成され
る。本発明の組成物は、ファイバガラス、゛ポリイミド
、及びグラファイトの如き繊維性の基板を被覆及び/若
しくは含浸させるために用いることができる。
温度で約2乃至約6分間、乾燥されそして部分的に硬化
されて、プリプレグと呼ばれる乾燥した基板が形成され
る。本発明の組成物は、ファイバガラス、゛ポリイミド
、及びグラファイトの如き繊維性の基板を被覆及び/若
しくは含浸させるために用いることができる。
プリプレグが形成された後、銅又は他の導電材のシート
が、約35乃至約56にり70m2、約150乃至20
0℃、約60分間乃至約5時間の如き積層化条件を用い
て、1つ又はそれ以上のプリプレグの層に積層化される
。それから、周知の技術を用いて、上記導電層に回路が
エツチングされて、−回路板が形成される。本発明の組
成物を用いて形成された積層板は、銅の剥離に対して良
好な耐性を示す。
が、約35乃至約56にり70m2、約150乃至20
0℃、約60分間乃至約5時間の如き積層化条件を用い
て、1つ又はそれ以上のプリプレグの層に積層化される
。それから、周知の技術を用いて、上記導電層に回路が
エツチングされて、−回路板が形成される。本発明の組
成物を用いて形成された積層板は、銅の剥離に対して良
好な耐性を示す。
次に、本発明の1例を示す。
見
8官能性のエポキシ重合体である、約60重量部のEP
I−REZ 5U−8と;約400エポキシ当量を有す
る、Celanese社製のEPI−REZ5166(
商品名)iして入手可能である、約28重量部の臭素化
エポキシ重合体と:約650エポキシ当量を有する、E
PI−REZ 5183(商品名)として入手可能であ
る、約12重量部の臭素化エポキシ重合体と;約110
重量部のメチル・エチル・ケトンとが混和された。この
組成物は、室温に於て少くとも6ケ月間安定である。
I−REZ 5U−8と;約400エポキシ当量を有す
る、Celanese社製のEPI−REZ5166(
商品名)iして入手可能である、約28重量部の臭素化
エポキシ重合体と:約650エポキシ当量を有する、E
PI−REZ 5183(商品名)として入手可能であ
る、約12重量部の臭素化エポキシ重合体と;約110
重量部のメチル・エチル・ケトンとが混和された。この
組成物は、室温に於て少くとも6ケ月間安定である。
更に、上記組成物は、EPICURE RDX5847
0として入手可能である。約42重量部のフェノール−
ノボラック硬化剤、及ヒ約0.1 重量部のベンジル−
ジメチルアミンと混合される。
0として入手可能である。約42重量部のフェノール−
ノボラック硬化剤、及ヒ約0.1 重量部のベンジル−
ジメチルアミンと混合される。
それから、上記組成物がガラスファイバに含浸され・含
浸された16層を0.1 m2 当シ約28gの電解銅
箔(両面が付着のために予め処理されている)とともに
、170℃に於て21 KP/cm2で約1時間の間圧
綿することによシ、積層体が形成される。、約2.5c
m当り64乃至67#の銅剥離強度が得られる。ガラス
転移温度は約175℃である。上記積層体は、良好な不
燃性の特性を有している。
浸された16層を0.1 m2 当シ約28gの電解銅
箔(両面が付着のために予め処理されている)とともに
、170℃に於て21 KP/cm2で約1時間の間圧
綿することによシ、積層体が形成される。、約2.5c
m当り64乃至67#の銅剥離強度が得られる。ガラス
転移温度は約175℃である。上記積層体は、良好な不
燃性の特性を有している。
′ 本発明により、低沸点溶媒中に於て極めて高い安定
性を示し、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、
硬化時に極めて低い熱膨張特性を有する組成物が得られ
る。
性を示し、更に高温に対して極めて優れた耐性を有し、
硬化時に極めて低い熱膨張特性を有する組成物が得られ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 25乃至30重量部の、350乃至450エポキシ当量
を有するビスフェノール−Aの四臭素化ジグリフジル・
エーテルと、 10乃至15重量部の、600乃至750エボキ7当量
ヲ有するビスフェノール−Aの四臭素化ジグリシジル・
エーテルと、 55乃至65重敗部の、少くとも6個の末端エポキシ基
を有する少くとも1つのエボギ/化された非線状ノボラ
ックとを有む組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US600619 | 1984-04-16 | ||
| US06/600,619 US4550128A (en) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Epoxy composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60219223A true JPS60219223A (ja) | 1985-11-01 |
| JPS6251972B2 JPS6251972B2 (ja) | 1987-11-02 |
Family
ID=24404330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60002275A Granted JPS60219223A (ja) | 1984-04-16 | 1985-01-11 | 組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4550128A (ja) |
| EP (1) | EP0158915B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60219223A (ja) |
| DE (1) | DE3571831D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS641753A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 | Matsushita Electric Works Ltd | Epoxy resin composition for glass-epoxy laminate |
| JP2000512232A (ja) * | 1997-05-02 | 2000-09-19 | イゾラ ラミネイト システムズ コーポレイション | 回路板用押出し加工芯材積層体 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4590539A (en) * | 1985-05-15 | 1986-05-20 | Westinghouse Electric Corp. | Polyaramid laminate |
| IT1190399B (it) * | 1985-10-04 | 1988-02-16 | Zambon Spa | Processo per la preparazione di composti carbonilici otticamente attivi |
| US4690836A (en) * | 1985-10-23 | 1987-09-01 | International Business Machines Corp. | Process for the production of void-free prepreg sheets |
| JPS62273226A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-27 | Nippon Soda Co Ltd | 無電解メッキ用光硬化性レジスト樹脂組成物 |
| EP0264705A3 (en) * | 1986-10-10 | 1990-10-31 | The Dow Chemical Company | Blends of relatively low molecular weight epoxy resins and relatively high molecular weight epoxy or phenoxy resins and cured products therefrom |
| FR2633932B1 (fr) * | 1988-07-05 | 1992-02-21 | Europ Composants Electron | Matiere thermodurcissable a base de resine epoxyde |
| DE3829662A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-15 | Basf Ag | Epoxidharzmischungen fuer faserverbundwerkstoffe |
| EP0375980A3 (en) * | 1988-12-29 | 1991-10-30 | International Business Machines Corporation | Epoxy composition of increased thermal conductivity and use thereof |
| US5041470A (en) * | 1989-03-03 | 1991-08-20 | International Business Machines Corporation | Flame retardant photocurable adhesive for wires and circuit boards |
| US5061779A (en) * | 1989-03-14 | 1991-10-29 | International Business Machines Corporation | Liquid epoxy polymer composition and use thereof based on cycloaliphatic amine cured difunctional/polyfunctional resin blends |
| DE3915823A1 (de) * | 1989-05-16 | 1990-11-22 | Ruetgerswerke Ag | Verfahren zur herstellung von verbundwerkstoffen |
| JPH0819213B2 (ja) * | 1990-07-09 | 1996-02-28 | 三菱電機株式会社 | エポキシ樹脂組成物および銅張積層板 |
| US5510818A (en) * | 1991-01-31 | 1996-04-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Transfer-molding resin composition for use to manufacture ink jet recording head, and ink jet recording head manufactured by using the same |
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