JPS60219623A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関する。

従来例の構成とその問題点 近年磁気記録の高密度化の進展に伴い１強磁性金属薄膜
を磁気記録層とする磁気記録媒体が注目され、各方面で
実用化のだめの開発が進められている。

かかる媒体は、すべて高密度記録を目ざすものであるか
ら、トラック幅と記録波長の短縮は必須であり、耐久性
の改良に保護膜を用いる場合、スペーシング損失の点か
ら膜厚は大きくできないため困難が伴なっている。

比較的薄くて耐久性のある保護膜は、プラズマ重合膜で
あるとされているが、現状では、磁気ディスクとしての
信頼性を得るには、０．１μｍ以上の厚みが必要であっ
て、記録波長が１μｍ以下では、実用に不向きで改良が
望まれている。

発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、スペーシング
損失が少なくて、耐久性の改良された磁気記録媒体を提
供するものである。

発明の構成 本発明の磁気記録媒体は隆起を有する高分子基板上にプ
ラズマ重合膜を配し、前記プラズマ重合膜上に微粒子を
配した上に磁気記録層を配して成る粒状突起と隆起を有
することを特徴とし、耐久性の改良されたものである。

実施例の説明 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。

図は本発明の実施例における基本構成図の一例である。

高分子基板１は隆起２を基板の一方又は両方の面に有す
るものが用いられる。

隆起２？：有する高分子基板１上に、プラズマ重合膜３
を配し、その上に粒状突起を構成するための無機又は有
機、或いは無機と有機からなる微粒子４を配し、更に強
磁性金属薄膜６を配してなるものである。

本発明に用いることの出来る高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類。

ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリパラパニック酸、
ポリイミド等があげられる・本発明でいう隆起とは、樹
脂の塗布、或いは、塗布後の延伸などで得られる白味状
かそれ゛に近い形状で、高さとしては磁気記録媒体とし
て用いるには、高々６００人までである。

用いられる樹脂はポリエステル系、セルローズ系など特
に限定はない・ 本発明に用いることの出来るプラズマ重合膜は出発モノ
マーとして、ポリテトラフルオロエチレン、弗素化ポリ
エチレンの如きフルオロカーボン類、ポリクロロトリフ
ルオロエチレン等のクロロフルオロハイドロカーボン類
、ポリ弗化ビニリデン、ポリ弗化ビニル等のフルオロノ
・イドロカーボン類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポ
リカーボネート類、ポリフェニレンオキサイド類、ポリ
エチレンのような炭化水素類、アリルアミン、アクリル
アミド類、ピリジン、エチレンオキサイド等のへテロ原
子を含む環状有機化合物、テトラアルキルシラン、トリ
アルキルシラン等のシラン類等の単−又は混合物で、材
料に限定はない。

プラズマ重合膜の厚みは、隆起高さとの兼ね合いによる
が、余り厚いと隆起の形状が失われることがあるので、
むしろ連続膜のできる厚みの最小限に留めるのが好まし
い。材料と工法条件にもよるが、１００人もあれば十分
である。

本発明に用いられる微粒子は、１００八から１０００人
好ましくは１６０人から６００人のＴｉＯ、ＣａＦ　、
　ＳｉＯ，０ａｃＯ，０ｒＯ２，Ｎｏ、　、Ｍｏ　。

２　２　２　５ Ｏｒ、Ｗ、ポリエステル、ポリ弗化ビニリデン。

ポリエチレン等であり安定化のだめの被膜をもつ微粒子
も含まれる。

本発明に用いることの出来る強磁性金属薄膜とＱては、
電子ビーム蒸着法、スパッタリング法。

イオンブレーティング法、無電解めっき法等で形成した
、Ｃｏ　、　Ｆｅ　、　Ｎｊ　、　Ｇｏ−Ｎｉ　、　Ｇ
ｏ−Ｊｅ　、　Ｇｏ−Ｇｏ。

Ｃｏ−Ｃｊｒ　、　Ｇｏ−Ｃｕ　、　Ｃｏ−Ｂ、　Ｇｏ
−Ｂｉ　、　Ｃｏ−Ｇｅ　、　Ｇｏ−Ｌａ。

ｃｏ−Ｍｇ　、　Ｃｏ−Ｍｎ　、　Ｃｏ−Ｍｏ　、　Ｇ
ｏ−Ｐ　、　Ｃｏ−Ｐｔ　、　Ｃｏ−Ｒｕ。

Ｃｏ−Ｒｈ　、　Ｃｏ−ａｎ　、　Ｃｏ−８ｍ　、　Ｃ
ｏ−８ｉ　、　Ｃｏ−Ｔｉ　、　Ｃａ−ＴａＣｏ−Ｖ　
、　Ｇｏ−Ｗ　、　Ｃｏ−！ｆＬ−Ｏｒ　、　Ｃｏ−０
ｒ−Ｒｈ　、　Ｇｏ−１４ｉ−Ｐ及びそれらの部分酸化
膜９部分窒化膜等で磁化容易軸の方向とは無関係である
。

又、必要に応じて、軟磁性層、非磁性層との積層構造を
とることや、前記した構成を高分子基板の両面に構成す
ることも本発明の要旨を逸脱しない範囲で当燃可能であ
り、効果も同様に得られるものである。

本発明の構成により、隆起と無関係に微粒子が均一に表
面に分散できる。これは、隆起の構成材料、工法からく
る限界がＳＯＯ八程への隆起を得る条件では均一に表面
の性状を制御できないのに比べてプラズマ重合膜は極め
て均一であることから表面エネルギーの不均一に伴なう
微粒子の凝集や不均一分散等の不都合を皆無にできるこ
とに起因していると推察されるものである。

隆起と無関係に微粒子が均一に表面分散した結果構成さ
れる磁気記録層表面は、磁気ヘッドとの高速摺接が極め
て円滑に保持される。空気力学的な考察を十分加えるこ
とは困難であるが、隆起の形状効果と粒状突起による実
効接触抵抗の低下が滑らかな接触を生んでいるものと思
われる効果がテスト条件に選んだ実用範囲で安定に得ら
れるものである。

以下さらに具体的な一実施例を説明する。

厚み１０．５μｍのポリアミドフィルム上に、塗布法で
平均高さ４００人の隆起を、ポリアミド樹脂で形成した
。その上に、対向電極方式のグロ−放電処理機を利用し
、１３．５６　ＭＨｚの高周波グロー放電により、ヘキ
サメチルジシロキサンのプラズマ重合膜を３０人と６０
人の２水準形成した。

又比較例として重合膜を配さないものを準備した。

この３種類に、ＴｉＯ２微粒子（平均粒径４５０Ａ）を
ポリエステル樹脂をバインダとして、メチルエチルケト
ン溶剤に分散させて塗布、乾燥した。

微粒子の密度は任意に１０ケ所を選んで、顕微鏡観察で
測定した。

強磁性金属薄膜として０ｏＧｒ　（Ｏｒ、２ｏｗｔ％）
合金をターゲットとして１３．６６　ＭＨｚの高周波二
極スパッタリング法で、０ｏＯｒ垂直磁化膜を０．１５
μｍ形成した。それぞれｆ８１１Ｍ幅の磁気テープとし
て、回転シリンダに搭載したリング型磁気ヘッド（Ｃｏ
−Ｂ系非晶質合金ヘッド、ギャップ長０．１９μｍ）に
よりディジタル記録、再生を行い、エラーレイトが、回
路処理で補償できる限界を越える時間をストップモーシ
ョンモードで各環境で測定した結果と初期のＳ／Ｎを測
定した結果を表にまとめて示した。

尚ビット長は０．２μｍである。

（以下余白） 表より、本発明の効果としては、各環境共に、耐久性が
安定していることと、Ｓ／Ｎの７（ラツキが極めて小さ
いことと、耐久性、５ＩＮＯ値そのものも十分実用要求
を満足せしめるものであることがはっきりわかる。

なお、本実施例以外の前述の他の材料の組み合わせでも
同様の効果を有するし、磁気テープの形態に限るもので
はなく、磁気ディスク、磁気シートでも同様に効果を確
認した。

発明の効果 以上のように本発明は、隆起を有する高分子基板上にプ
ラズマ重合膜を形成し、その上に微粒子を配することで
、スペーシング損失が小さいので短波長で優れたＳ／Ｎ
を得られると共に、エラーレイトの上昇も小さく、耐久
性が改良されているもので、その実用的効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。 １・・・・・・高分子基板、２・・・・・・隆起、３・
・・・・・プラズマ重合膜、４・・・・・・微粒子、６
・・・・・・強磁性金属薄膜（磁気記録層）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 隆起を有する高分子基板上にプラズマ重合膜を配し、前
   記プラズマ重合膜上に微粒子を配した上に磁気記録層を
   配してなる粒状突起と隆起を有することを特徴とする磁
   気記録媒体。