JPS6021974B2 - エタノ−ルの製造方法 - Google Patents

エタノ−ルの製造方法

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JPS6021974B2
JPS6021974B2 JP57017411A JP1741182A JPS6021974B2 JP S6021974 B2 JPS6021974 B2 JP S6021974B2 JP 57017411 A JP57017411 A JP 57017411A JP 1741182 A JP1741182 A JP 1741182A JP S6021974 B2 JPS6021974 B2 JP S6021974B2
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JP
Japan
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methanol
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ethanol
cobalt
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JP57017411A
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JPS58135829A (ja
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宜雄 磯貝
元征 細川
隆 大川
奈都子 涌井
利康 渡辺
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/32Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions without formation of -OH groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメタノール、一酸化炭素および水素からエタノ
ールを選択的に製造する方法に関する。
メタノール、一酸化炭素および水素を炭化水素溶媒中コ
バルトーハロゲン化物一第3ホスフィン触媒の存在下反
応させてエタノールを製造する方法は持関和51一14
9213として知られている。又コバルトと他の第8族
金属、沃素又は臭素、及び第3ホスフィン触媒存在下反
応させる方法は英国特許第2036739として知られ
ている。しかしながら、このような方法においては目的
とするエタノール以外に、ジメチルェーテル、メチルエ
チルエーテル、ジエチルエーテル、アセトアルデヒド、
ジメトキシヱタン、酢酸、酢酸メチル、酢酸エチル、ギ
酸メチル、その他C3以上の化合物など多数の創生物が
同時に生成し、遊離のエタノールへの選択性が低く、か
つ、反応生成物からのエタノールの分離に複雑な工程を
要するなどの欠点がある。本発明はか)る欠点を解消し
、副生成物の生成が少なく高選択率でエタノールを製造
する方法を提供するもので、メタノール、一酸化炭素お
よび水素を不活性溶媒中‘1’コバルト、【2}マンガ
ン及び‘31第三級ホスフィンを有効成分とする触媒の
存在下反応させることによりなる。
本発明において使用するコバルト触媒としては、ジコバ
ルトオクタカルボニル、コバルトヒドリドテトラカルボ
ニルなどのコバルトカルボニルの外に、水酸化コバルト
、炭酸コバルト、塩基性炭酸コバルト、ハロゲン化コバ
ルトの如き無機コバルト化合物、コバルト有機塩酸、コ
バルトセン・コバルトアセチルァセトネートの如き有機
コバルト化合物など、反応系内でコバルトカルボニルを
生成する種々のコバルト化合物を使用しうる。
コバルト化合物の使用量はメタノール、1モルに対し、
コバルト原子換算1〜300の9原子、好ましくは5〜
100柵原子である。
これより少なくても反応は進行するが反応速度が遅くな
る。又この範囲より多くても悪影響はないが経済的でな
い。本発明におけるマンガンとしては二酸化マンガン、
炭酸マンガン、ハロゲン化マンガンの如き無機マンガン
化合物、酢酸マンガンの如き有機酸塩、マンガンアセチ
ルアセトネートの如き有機マンガン化合物あるいはマン
ガンカルボニルなどが使用しうる。マンガンの使用量は
メタノール1モルに対し、マンガン原子換算0.1〜1
00の9原子、好ましくは1〜30雌原子である。本発
明におけるアルキルホスフインとしては例えば、トリー
nブチルホスフイン、トリフエニルホスフイン、トリ−
パラ一トリルホスフイン、トリシクロヘキシルホスフイ
ン、1・4−ビスジフエニルホスフイノブタン、1・6
ービストリフエニルホスフイノヘキサンなどが使用しう
る。
アルキルホスフィンの使用量はメタノール1モル当り、
リン原子として2〜600ミリグラム原子、好ましくは
10〜200ミリグラム原子である。これより少ない場
合はエーテル類、ェステル類の副生を抑制する効果が少
なく、この範囲より多い場合はメタノール反応率および
エタノール選択率が低下し好ましくない。本発明を好適
に実施しうるコバルト:マンガン:リンの原子比は1:
0.01〜0.5:0.1〜2、好ましくは1:0.0
5〜0.4:0.5〜1.5である。
この範囲外では、エーテル類、ェステル類、高沸点生成
物の創生が多くなり好ましくない。本発明における不活
性溶媒とは反応に悪影響を及ぼさない溶媒を意味し、好
ましくは炭化水素類又はエーテル類である。
炭化水素溶媒としてはベンゼン、トルェン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族
炭化水素及びシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素が使
用しうる。エーテル溶媒としてはジェチルェーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなどが使用し得る。尚、本発明においては従来法にお
いて必須要件であったヨウ素含有成分の非存在下におい
て十分高いエタノール選択率が得られるので、ョウ素含
有成分の共存は必ずしも必要ではないが、反応速度を高
める上においてヨウ素成分を共存させる事も出来る。
溶媒の使用量はメタノール1モル当り0.01〜5モル
、好ましくは0.1〜2モルである。
これより少ない場合は共存の効果が少ない。これより多
い場合は反応に何ら差し支えないが、空時収率が4・さ
くなり実用的でない。反応温度は使用する触媒系及び反
応条件により異なるが、一般に15び0〜3000○、
好ましくは200℃〜260qCである。
これ以下でも反応は進行するが、反応速度が遅くなる。
この範囲以上では副生物が多くなるので好ましくない。
反応圧力は50k9/係以上あればよく、上限は特 /
にないが、実用的には150〜450k9/地の範囲が
好適である。
一酸化炭素:水素のモル比は4:1〜1:4、好ましく
は2:1〜1:3の範囲である。反応に使用する一酸化
炭素及び水素には、例えばアルゴン、窒素、炭酸ガス、
メタン及びヱタンなど、反応に不活性なガスが混入して
いてもよいが、この場合には一酸化炭素及び水素の分圧
を上記の圧力範囲に対応させる必要がある。本発明の方
法は回分式および連続式のいずれにおいても実施できる
本発明によればメタノール、一酸化炭素及び水素から選
択的にエタノールを製造する事が出来る。
以下に示す実施例および比較例におけるメタノール反応
率、エタノール選択率、実質メタノール反応率、実現可
能エタノール選択率は次の如く定義される。
メタノール反応率(%)= (仕込みメタノール‐禾反応メタノール)、モルXI。
〇仕込みメタノール、モル各生成物への選択率(%)= 各生成物へ転化し案こ〆応タノール、モル(仕込みメタ
ノール一夫反じ、メタノール)、モル×100実質メタ
ノール反応率(%)=(仕込みメタノール−未反応メタ
ノール‐変換メタノール)、モル(注1)X,。
〇仕込みメタノール、モル実現可能なエタノール選択率
(%)= 実現可能なエタノールへ転化したメタノール、モル(注
2)(仕込みメタノール‐未反応メタノール−変換メタ
ノール)、モル(注,)×100(注1)ジメトキシメ
タン、メチルェステルなど加水分解により容易に回収さ
れるメタノール分を意味する。
(注2) 遊離のエタノールおよびアセトアルデヒド、
ジメトキシヱタン、エチルヱステルなどの水素化又は加
水分解により容易に回収されるエタノール分を意味する
実施例 1 内容積100泌のステンレス製振とう式オートクレープ
にメタノール10夕(0.3121モル)、ジコバルト
オクタカルボニル2夕(0.00球モル)、塩化マンガ
ン2水和物0.5夕(0.0025モル)、トリ−n−
ブチルホスフイン3夕(0.0148モル)、およびト
ルェン10夕(0.1086モル)を仕込み、次に、水
素と一酸化炭素の混合ガス(日2/COモル比=1)2
00kg/のを庄入し、230℃で3時間反応させた。
反応後、オートクレープを冷却して残留ガスをパージし
、反応生成液についてガスクロマトグラフによる内部標
準法にて分析を高なった。その結果メタノール反応率2
2.5%、遊離エタノール選択率734%となり、その
他の各成分への選択率はギ酸メチル1.0%、メチルエ
チルエーテル3.5%、酢酸メチル1.4%であり、ジ
メトキシェタンは痕跡量であった。これは実費メタノー
ル反応率21.8%において、実現可能なエタノール選
択率80.7%である。実施例 2 塩化マンガン・2水和物の代りに、ジマンガン・デカカ
ルボニル0.5夕(0.0041モル)を用いた以外、
実施例1と同様にして反応を行なった。
その結果、メタノール反応率33.2%、遊離ェタノー
ルへの選択率70.1%となり、その他の各成分への選
択率はギ酸メチル0.3%、メチルエチルエーテル3.
3%、酢酸メチル0.4%であり、ジメトキシヱタンは
痕跡量であった。これは実質メタノール反応率32.6
%において、実現可能なエタノールへの選択率74%で
ある。実施例 3 ジコバルトオクタカルボニル2夕(0.00斑モル)、
塩化マンガン2水和物0.5夕(0.0025モル)、
ヨウ素0.5夕(0.002モル)、トリーn−ブチル
ホスフイン3夕(0.0148モル)及びトルエン10
夕(0.1086モル)を仕込み、反応温度230℃で
1時間反応させた以外実施例1と同様にして反応を行な
った。
その結果、メタノール反応率30.5%、遊離エタノー
ルへの選択率70.6%となり、その他各成分への選択
率はギ酸メチル0.3%、メチルエチルエーテル4.5
%、酢酸メチル2.1%、ジメトキシヱタン3.5%で
あった。これは実質メタノール反応率28.4%におい
て実現可能なエタノールへの選択率82.2%である。
実施例 4〜6 メタノ−ル10夕(0.3121モル)、ジコバルトオ
クタカルボニル2夕(0.0058モル)、塩化マンガ
ン2水和物0.5夕(0.0025モル)、トリ−nー
ブチルホスフイン3夕(0.0148モル)、及びnー
オクタン、シクロヘキサン又はジオキサン溶媒を所定量
仕込む以外実施例1と同様にして反応を行なった。
結果を第1表に示す。
第1表 比較例 1〜4 ジコバルトオクタカルボニルを主触媒とし、塩化マンガ
ン2水和物、トリ−nーブチルホスフイン又はトルェン
の中から選ばれた1種又は2種の共存下において、実施
例1と同様の条件で反応を行なつた。
結果を第2表に示したが、ジコバルトオクタカルポニル
、塩化マンガン2水和物、トリーnーフチルホスフイン
およびトルヱンの4成分が共存しない場合はエーテル類
、ェステル類などの創生物が多く、遊離のエタノールお
よび実現可能なエタノールへの選択率が抵し、ことがわ
かる。
第2表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 メタノール、一酸化炭素および水素を不活性溶媒中
    、(1)コバルト、(2)マンガン及び(3)第3級ホ
    スフインを有効成分とする触媒の存在下反応させること
    を特徴とするエタノールの製造方法。
JP57017411A 1982-02-08 1982-02-08 エタノ−ルの製造方法 Expired JPS6021974B2 (ja)

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US06/426,140 US4423258A (en) 1982-02-08 1982-09-28 Process for producing ethanol
CA000413348A CA1184206A (en) 1982-02-08 1982-10-13 Process for producing ethanol

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JPS58135829A JPS58135829A (ja) 1983-08-12
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CA1184206A (en) 1985-03-19
US4423258A (en) 1983-12-27
JPS58135829A (ja) 1983-08-12

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