JPS60225149A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPS60225149A
JPS60225149A JP8148284A JP8148284A JPS60225149A JP S60225149 A JPS60225149 A JP S60225149A JP 8148284 A JP8148284 A JP 8148284A JP 8148284 A JP8148284 A JP 8148284A JP S60225149 A JPS60225149 A JP S60225149A
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JP
Japan
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formula
sensitizer
photosensitive resin
ethylenically unsaturated
resin composition
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JP8148284A
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English (en)
Inventor
Kazutaka Masaoka
正岡 和隆
Yoshitaka Minami
好隆 南
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Eiji Fujita
藤田 瑛二
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds

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  • Inorganic Chemistry (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性樹脂組成物、更に詳しくは印刷配線板の
製造、金属の精密加工等に用いられるエツチングレジス
ト又はめつきレジストとして、特に優れた密着性と作業
性又は高感度を有する感光性樹脂組成物に関する。
(従来技術) 印刷配線板の製造、金属の精密加工等の分野において、
エツチング、めっき等の基材の化学的。
電気的手法を用いる際にレジスト材料として感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを使用するこ
とが知られている。感光性エレメントとしては支持体上
に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用されてい
る。
従来、印刷配線板の製造法には、テンティング去とめつ
き法という二つの方法がある。テンティング法は、チッ
プ塔載のための銅スルーホールをレジストで保護し、エ
ンチング、レジストハぐりを経て、電気回路成形を行な
うのに対し、めっき法Vi、電気めっきによってスルー
ホールに銅ヲ析出させ、半田めっきで保護し、レジスト
はぐり。
エツチングによって電気回路の形成を行なう方法である
。多くの印刷配線板のメーカーは、この方法を用途によ
って使い分けている。従って、使用する感光性樹脂組成
物は、現像液や水洗のスプレー圧に耐えつる充分な膜強
度と、長時間のめつき液浸漬に耐えうる充分な耐薬品性
を有することが要求される。
従来の感光性樹脂組成物は、特公昭45−28063号
公報に開示されているように、エチレン性不飽和化合物
として、1官能以上のアクリレート又はメタクリレート
を1種以上用いることによって。
良好な感度、解像度、密着性を得ることができる。 I
特に、高感度の感光性樹脂組成物を得る方法として1組
成物が遊離ラジカル発生開始剤及び不飽和化合物からな
る車台系においては、それに用いられる不飽和化合物の
感光度を高めることが一般的である。このような目的で
種々の不飽和化合物が検討されているが多価アルコール
のポリアクリレート類が広く使われている。その中でも
高感度のアクリレートとしてポリエーテル結合、特にポ
リエチレングリコール構造を有するアクリレートが特に
有用である。この目的に合致したものとしてテトラエチ
レングリコールジアクリレート1ノナエチレングリコー
ルシアクリ1ノート等があり、これらは市販品として例
えは新中村化学■より、NKエステルA−40,A−9
Gとして提供源れている。場合によっては不飽和化合物
以外にも同様の目的でポリエチレングリコール構造を導
入することもある。特公昭55−33801号公報には
そのような例がボされている。
しかしながら、このようなポリエチレングリコール構造
を有するアクリレート等の化合物は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントの感度向上には有用
であるが、ポリエチレングリコール構造が親水性である
ため、めっき液などとの親和性が強く耐めっき性を低下
させるという欠点を有する。特にめっき液のpHが高く
、比較的高温で使用されるピロリン酸鋼めっきの耐性ケ
よ。
とりわけ悪く実用に供することができない。このため耐
めっき性が要求される用途には、このようなポリエチレ
ングリコール構造を有するアクリレート等の化合物の使
用量は制限され、その分感光度の低下を1ねくという問
題があった。
一方、従来の感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和化
合物は、感光速度を速め、光照射後の架橋密度を高くす
るという目的で3官能の化合物を用いてきた。しかしな
がら、3官能の化合物を1種又は2株以上使用しても、
架橋密度が十分ではなく、スルーホールのテント破れ、
欠け、スルーホールエツチングなどの製品欠陥が発生す
るという欠点があった。従って、エチレン性不飽和化合
物として、4官能以上の化合物を使用し、光照射後の架
橋密度を更に高くして、膜強度を上げる要求が生じた。
しかしながら、工業用に市販されている4官能以上のエ
チレン性不飽和化合物は、その数が限られて、ム・す、
入手が困難であるは力・りか市販きれているものでも粘
朋が為いものが多く。
実際にフイJLムに塗工する際、希釈済媒を多螢に用い
なけ1lr−1ならず、1柴的に有用であるとはいい難
い。
(発明の目的) 本発明者らは、上記の欠点を解消すべく研究を重ねた結
果2本発明に至った。
本発明は優れた耐めっき性と強固な膜強度を与える感光
性樹脂組成物全提供すめこと金目的とする。
(発明の構成゛ 本発明は。
(A) 式(1)で衣わされるエチレン性不胞和化合物
工 式(1) (式中R,1,R2け水素又はメチル基、mF′il父
は2の整数、a、bはa+b=6となる整数でろり。
a又はbはOでもよい) 及び式([11で表わされるエチレン性不飽和化合物(
CH2=CRICOOCH2−入−c−x 式(ロ);
 (式中R+?i水素又はメチル基、Xはエチル基又は
ヒドロキシメチル基である) CB+ 有機ハロゲン化合物 □ FCI フィルム性付与ホリマ ならびに ■)活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及び
/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
このように、エチレン性不飽和化合物として。
ポリエチレングリコール構造を持たない6官能のアクリ
レート、又はメタクリレート及びポリエチレングリコー
ル構造を持たない3官能のアクリレート又はメタクリレ
ートを組合せて用いることによって、従来用いられてき
た3官能以下のエチレン性不飽和化合物の組合せでは得
られなかった耐めっき性と強固な膜強度を得ることかで
さる。
弐(1)で表わされるアクリレート又はメタクリレート
であるエチレン性不飽和化合物は6官能であり、従来用
いられてきた3官能以下のものと比較すると、光照射後
の架橋密度が高く、テント強度は、促来のものが390
 gf/3.2φであったのに対し460 gf/3.
2φ乃至はそれ以上のテント強度を持つようになる。又
、このような6官能のエチレン性不飽和化合物は、1分
子中にラジカル1合性の不飽和基を数多く持っているた
め、感光速度が速く、同一露光量で比較すると感度が0
5〜1.0段高くなる。又、同時に光発色剤を存在させ
ておくと、光照射後の色相が濃く、印刷配線板の製造工
程中の修正作業が容易になるという利点金持つ。
式(旧で表わされるエチレン性不飽和化合物を。
式11)で表わされ/、)6官能のエチレン性不飽和化
合物と組合せると、従来児ら7″Lfr、かった耐めっ
き性。
特に耐ピCI IJン醗銅めつき性が著しく向−ヒする
。
これは式(旧で表わ芒れるエチレン性不飽和化合物の構
造は、J−チル結合を含丑ないためポリエチレングリコ
ール構造に比べて疎水性であり、めっき液などとの親和
力が極めて低く1長時間めっき液に浸漬しても、めすき
液が感光性樹脂組成物中に浸透しにぐいことによる。
通常、めっき工程の最初には、現像工程−までに基板に
付着した手あかや油又はレジストかすなどを除去するた
め脱脂を行なう。この脱脂法には中性脱脂、酸性脱脂、
アルカリ脱脂、電解脱脂などがあるが殊にその中でもア
ルカリ電解脱脂液及びリン酸電解脱脂液は感光性樹脂組
成物に強い浸透性を示す。しかしながら1本発明の組み
合わせになる感光性樹脂組成物がこれらの脱脂液に対し
従来にない耐性を示すことは驚くべきことである。
また、6官nヒアクリレート又はメタクリレートと、2
官能以下のアクリレート又はメタクリレートとの組合せ
よりも光照射後の架橋密度が高いため感度が高く強固な
膜強度を有する。
本発明に用いらicる式(11で表わされるエチレン性
不飽和化合物のm、a、bの値には例えV!、表1のよ
うな場合があるが 表 1 (3)の場合が好°土しい。この化合物としては、Z2
゜2!2′−テトラキス(ヒドロキシメチル) −3,
3’−オキシジブロバノールと6−へギサノリド付加物
との婦合物とアクリル酸のエステル化物が好ましい。
式tn+で表わされるエチレン性不飽和化合物としテハ
、トリメチロールプロノシントリアクリレート。
トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ペンタJ−リスリトー
ルトリメタクリレートなどが用いられるが、感度の点か
らアクリレ−)?11−用いることが望ましい。
本発明における感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和
化合物の他に、第3成分として従来知られているものを
加えて用いることができるが、感度が高いという点より
、アクリレート単量体又はメタクリレート単量体の使用
が好ましい。例えは1.6−ヘキサンジオールジアクリ
レート、ス2−ビス(4−メタクリロキンエトキシフェ
ニル)プロパン、λ2−ビス(4−アクリロキシエトキ
シフェニル)フロパン、シペンタエリスリトールベ71
71”)V−1等0多価7′″−′vOyt?’)71
 。
リレート又はポリメタクリレート、トリメチA・プロパ
ントリグリ/ジルエーテルのアクリル酸又はメタクリル
ihにとの付加′+多ハヒスフェノールAエピクロルヒ
ドリン糸のエポキシ槌孔゛のアクリル酸又はメタクリル
畝付加物等のエホキ7つ′クリレート。
無、水フタル酸−ネオペンナルグリコールーアクリル酸
の1:1:2の縮合物等の低分子不飽和ポリエステルが
挙げられる。
フィルム性付与ポリマに対して式(11で表わされるエ
チレン性不飽和化合物を10〜45n量係。
式(■)で表わされるエチレン性不飽和化合物を10〜
45重量%用いることが好ましい。弐filで表わされ
るエチレン性不飽和化合物が10重量%未満では感度が
不足し、45N量チを越えると耐めっき性が低下する傾
向がある。式(II)で表わされるエチレン性不飽和化
合物が10i量チ未満では感度が不足し、45重量%を
越えると耐めっき性の低下′(+−まねく傾向がある。
有機・・ロゲン化合物としては、活性光により容易にハ
ロゲンラジカルを遊離するもの又は連鎖移動により容易
にハロゲンラジカルを遊離するものが好ましい。
有機・・ロケン化合物の例としては、四塩化炭素。
クロロポルム、ブロモホルム、l、l、1−)IJクロ
ロエタン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メナレ
ン、四臭化炭素、ヨードホルム、i、t、λ22−テト
ラプモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモアセト
フエノノ、ビス−(トリブロモメチル)スルホ/l ト
リブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩素化
メレフイン等が挙げられる。炭素−ハロケン結合強度の
弱い脂肪族ノ・ロゲン化合物、特に同一炭素−ヒに2個
以上のノ・ロゲン原子が結合しCいる化合物とりわけ有
機ブロム化合物が好nしい。トリブロモメチル基を有す
る有機・・ロゲン化合物が一層好守しい結果をあたえる
。
本発明に用いられるフィルム性付与ポリマは。
特に制限はないがビニル共重合によって得られる高分子
量体が好ましい、ビニル共重合体に用いられるビニル重
合性単量体としては、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸ブーブール、メタクリル#1a−エチルへ?f−/ル
、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸エチル、アクリル
酸メチルスチレン、ビニルトルエン、N−ビニルピロリ
ドン、a−メチルスチレン、α−ヒドロギシエチルメタ
クリレート。
2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、
アクリロニトリル、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート等が用いられる
。
又1本発明における活性線により遊離ラジカルを生成し
うる増感剤及び増感剤系についても何ら制限はなく、従
来知られているものを用いることができる。例えば、ベ
ンゾフェノン、4.4’−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、4.4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、4.4
’−ジクロルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、2
−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン等
のアントラキノン類、2−クロロチオキサントン、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾイン・「ソプロピルエー
テル、ベンジル、2,4.5−トリアリールイミダゾー
ルニ量体(ロフインニ量体)などの1種又は2種以上が
用いられる。
本発明になる感光性樹脂組成物においてフィルム性付与
ポリマ、弐(11で表わされるエチレン性不飽和化合物
および式(■)で表わされるエチレン性不飽和化合物の
100重量部に対して、活性線により遊離ラジカルを生
じうる増感剤及び/又は増感剤系を0.5〜10!i部
、有機ハロゲン化合物を0.2〜10重量部用いること
が好ましい。これらの材料の混合順序、混合法等につい
ては特に制限はない。
なお1本発明になる感光性樹脂組成物には、染料、可塑
剤、顔料、難燃剤、安定剤等を必要に応じて添加するこ
ともできる。又、密着性付与剤を使用することもb」能
である。
(実施例) 本発明の詳細な説明する。
実施例1 −a 以下に記した手順によりフィルム性付与ポリマを合成し
た。
表2の配合K(7Eつてモノマ混合溶液4009を調整
した。次に冷却器、温度計1滴下装置がつながつfc1
14ノロ反応フラスコにトルエン2509、表1で秤量
したモノマ溶液者400gのうち150gを入れ、窒素
気流を通じ93℃に昇温した。次いで残りのモノマ25
09.トルエン1509、アゾビスイソブチロニトリル
o、sogを混合し、溶解したものを3時間にわたって
滴下した。
滴下終了後更に7時間保温を続けた。この間フラスコの
温度は93℃に保たれた。次にアゾビスイソブチロニト
リル0.259をトルエン75gK1解したものを30
分にわたり滴下した。滴下後4時間保温を続けたものケ
トルエン75g、メチルエナルケトン759で希釈した
ものをそれぞれポリマ(1)、(2)とした。得られた
ポリマの特性を衣3に2」又した。
以゛ 表 2 (数字は重お係であり、総量は400gである)−b 表4に示す配合で以下の感光性樹脂組成物を配合した。
以下余自 1−c ■−1〜V−12の感光性樹脂組成物溶液を。
厚み23μmを有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(東し@製ルミラ」■)に−乾燥後の膜厚が50μ
mとなるように塗工乾燥し、厚み酪 35μmのポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレ
メントを得た。得られた感光性エレメントからポリエチ
レンフィルムを剥離しながら、その感光層面を、スコン
チプライド■バフロール(住友スIJ−M製)により研
磨、乾燥し清浄にされた銅張績Wt板(100aunX
 200mm)の錐面上に日立高温ラミネーターを用い
連続的に積層して試験片を得た。積層条件を表5に示す
。
表5 −d 1−cで得られ1ζ各試験片につき1次に不す試験を行
なった。
(1)耐ビロリン酸銅めっき性試験 1−cで得られた各試験片を、超高圧水銀灯(オーク社
製HMW−6−N型、2KSv;+−r21段ステノプ
タブレノトの7段になるように露光し。
1、 L、1−1− II 、70uエタンン−v”/
−に!ッT:埃像した(60秒、l 8’C,1,5k
g/cm2)。
得られた基仏奮表6に7Iテすめつき条件でめっきし、
レジストのライン際のめっき液の浸透状態を・目視ど、
ゾーン°けくリフ゛ストによって計価し1こ。
以下余白 評価基準を表7に不ず。
(2)膜強度試験 直径3.2mmのスルーホール銅張積層板に表5の条件
で感光性エレメントを積層し、21段ステンブタブレノ
トで7段になるように露光しl、 1. i−トリクロ
ロエタンンヤワーで現像する。第1図に示すようにスル
ーホール3に硬化した感光層2でテントを張った状態と
する。次に第1図に示すように2IlII11径の針1
 k 、 5 rim/ m i nでテント部を押し
、荷車を増してゆきテントが破れる時の荷重を測定し、
#強度と17だ。4は銅張積層板である。
(3) 感度試験 21段ステンブタブレノトをそなえたネガを通し、超高
圧水銀灯により60 mJ乃lでニー〇で得られた試馳
片を露光した。30分放置後、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムヲ剥離り、1,1゜1−トリクロロエタン
ンヤワーで現像しステンプタプレットの硬化段数を読み
とった。数字が大きい程、感度が高いことを示す。
FIL (21,+3)の実験結果を表8に示す。 4
.J、下る表8で明らかなよう罠、−ヒ記のDPCA−
60とA−TMPT (V−51又はA−TMM−3L
(V−6)とを組み合わせた系は、他に比較して耐ビロ
リン酸銅めっき性9M強度、感度とも良好な結果を示す
。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例で行なった膜強度試験法を示す略図で
ある。 符号の説明 1・・・針 2・・・硬化した感光層 3・・・スルーホール 4・・・銅張積層板代理人 弁
理士 若 林 邦 彦゛ 菌 1 口

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A) 式(1+で表わされるエチレン性不飽和化
    合物 式fll (式中Bl 、H,2は水素又はメチル基1mはl又は
    2の整数、a、bはa+b=6となる整数であり。 a又けbはOでもよい) 及び弐(El)で表わされるエチレン性不飽和化合物(
    CHz =CR+ C00CH2(C−X 式([11
    (式中R1は水素又はメチル基、Xはエチル基又はヒド
    ロキシメチル基である) (Bl 有機・・ロゲン化合物 (C) フィルム性付与ポリマ ならびに (D) 活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤
    及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 Z フィルム性付与ポリマに対して式(1)で表わされ
    るエチレン性不飽和化合物を10〜45重量%1式(■
    )で表わされるエチレン性不飽和化合物を10〜45重
    量%とした特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂組成
    物。 3、式(1)で表わ場れるエチレン性不飽和化合物が、
    λz Z/ 2/−テトラキス(ヒドロキシメチル)−
    3,3’−オキシジグロバノールと6−ヘキサノリド付
    加物との縮合物とアクリル酸とのエステル化物であり1
    式(Il)で表わされるエチレン性不飽和化合物がアク
    リレートである特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    感光性樹脂組成物。 4.有機・・ロゲン化合物がトリブロモメチル基を有す
    る有機・・ロゲン化合物である特許請求の範囲第1項、
    第2項又は第3項の感光性樹脂組成物。
JP8148284A 1984-04-23 1984-04-23 感光性樹脂組成物 Pending JPS60225149A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6259946A (ja) * 1985-09-10 1987-03-16 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH01219734A (ja) * 1988-02-27 1989-09-01 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6259946A (ja) * 1985-09-10 1987-03-16 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH01219734A (ja) * 1988-02-27 1989-09-01 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法

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