JPS6022724A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドの製造方法

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Publication number
JPS6022724A
JPS6022724A JP13146583A JP13146583A JPS6022724A JP S6022724 A JPS6022724 A JP S6022724A JP 13146583 A JP13146583 A JP 13146583A JP 13146583 A JP13146583 A JP 13146583A JP S6022724 A JPS6022724 A JP S6022724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic heads
processing
magnetic head
processed
plural magnetic
Prior art date
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Pending
Application number
JP13146583A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Okamura
康弘 岡村
Masaaki Shiga
正明 志賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP13146583A priority Critical patent/JPS6022724A/ja
Publication of JPS6022724A publication Critical patent/JPS6022724A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3163Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
    • G11B5/3166Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は複数個の磁気ヘッドを同時に加工する磁気ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
[従来技術〕 第1図に複数の磁気ヘッドを化学処理、蒸着処理等を用
いて同時に製造する薄膜ヘッドの構造を示す。図におい
て(1)はコア:h、(2)はコアB、(3)はコイル
を示す。コアA(1)とコアB(2)の突合せ部の図上
δで示す部分をスo −ト高さと称し、このスロート高
さδの寸法が磁気ヘッドの電磁変換特性に影響を与える
。す万わちスロート高さδが太であると読み出し電圧が
低くなり、スロート高さδが小になると記録がしにくく
なる。従ってd己録と読み出しの特性を考慮した所定の
値にスロート高さδを加工する必要がある。
この磁気ヘッドのスロート高さδけ、一般に機械的寸法
を、例えば光学的に測定して加工している。しかし各部
分の寸法測定公差の積み重ねが影響して、寸法精度が落
ちるという欠点がある。
〔発明の目的〕
この発明は上述の欠点を除去し、さらに複数個の磁気ヘ
ッドを同時に加工できる磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
〔発明の概要〕
この発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気ヘッドの加工
寸法を決定するために、導体パターンを1個以上、複数
個の被加工磁気ヘッドを有する基板上に設けて、同時に
複数個の磁気ヘッドを加工することを特徴とするもので
ある。
〔実施例〕
この発明の磁気ヘッドの製造方法を実施例に基いて説明
する。第2図は、この発明の一実施例を示す。第2図に
おいて(4)は基板、(5a)乃至(5n)は基板(4
)上に配置された磁気ヘッドである。磁気ヘッド(5a
)〜(5n)は例えば第1図に示した薄膜ヘッドである
。(6a)、(6blは基板(1)の両端に設けられた
U字形の導体パターン、(7a)乃至(7d)は導体パ
ターン(6a)、(6b)に設けられた端子である。
被数個の磁気ヘッド(5a)〜(5n)を加工する際に
、基板(4)の両端に設けた導体パターン(6a)の端
子(7al、(7b)及び導体バター/(6b)の端子
(7c ) #(7d)の導通を測定しておハ加工にょ
シ導体パターン(6a)、(6b)が切断して、端子(
7a)と端子(7b)間及び端子(7c)と(7d)間
の導通が無くなった時点を加工終了点とする。このこと
にょシ、複数個の磁気ヘッドのスロート高さδを正確に
得るようにしたものである。
この実施例においては導体パター7 (6a)、(6b
)をU字形としたが第6図に示すように、平行した2本
の導体パターン(6c)、(6d)として、加工により
2本の導体パターン(6c)、(6d)の先端に刃物が
接触して、端子(7a)、(7b)に導通が生じた時点
を加工終了点とすることもできる。又第4図に示すよう
に、加工面の導体パターン(6e)の面積を大とし、導
体パターン(6e)を切断し、て行ぐ過程での抵抗値の
値で加工終了点を定めることもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように この発明の磁気ヘッドの製造方法
においては、磁気ヘッドの加工を光学的測定によシ加工
する場合に比較して、複数個の磁気ヘッドを同時に、正
確に加工することができ、さらに加工寸法は機械に基板
を装置したまま測定でき、作業時間を短縮できるという
効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は薄膜ヘッドの構造図、第2図はこの発明の一実
施例の構造図、第6図及び第4図は、それぞれ導体パタ
ーンの構造図である、 図中、(1)はコアA、(2+けコアB、(3)はコイ
ル、(4)は基板、(5a)乃至(5n)は磁グヘッド
、(6a)乃至(6e)は導体パターンである。 なお各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第1図 第3図 第 4図 手続補正帯(自発) 昭和59年2灸役18日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 58−131465号2、発
明の名称 磁気ヘッドの製造方法 3、補正をする者 明lf!A書の「発明の詳細な説明」の欄06、補正の
内容

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁気ヘッドの製造工程において、磁気ヘッドの加工寸法
    を決定するための導体パターンを、1個所以上複数個の
    被加工磁気ヘッドを有する基板上に設けたことを特徴と
    する磁気ヘッドの製造方法、
JP13146583A 1983-07-19 1983-07-19 磁気ヘツドの製造方法 Pending JPS6022724A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE35477E (en) * 1990-06-29 1997-03-18 Quantum Corporation Thin film head slider fabrication process

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE35477E (en) * 1990-06-29 1997-03-18 Quantum Corporation Thin film head slider fabrication process

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