JPS60228544A - 電磁波遮へい性フイルム及びその製造方法 - Google Patents

電磁波遮へい性フイルム及びその製造方法

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JPS60228544A
JPS60228544A JP8407884A JP8407884A JPS60228544A JP S60228544 A JPS60228544 A JP S60228544A JP 8407884 A JP8407884 A JP 8407884A JP 8407884 A JP8407884 A JP 8407884A JP S60228544 A JPS60228544 A JP S60228544A
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JP
Japan
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film
electromagnetic wave
aromatic compound
wave shielding
thermoplastic polymer
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JP8407884A
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English (en)
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Toshiaki Tamamura
敏昭 玉村
Osamu Niwa
修 丹羽
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NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子機器部品、IC等の包装用あるいは成形体
製造用として適する電磁波遮へい性フィルム及びその製
造方法に関する。
〔従来技術〕
近年電子機器のみならず、各種家庭用機器にも、IC特
にLSIが使用されてくるようになり、外部の通信機器
等への妨害や、他の放電源による機器や、IC,LSI
の破壊等の問題が重大になってきている。これらの問題
を除去するためKは、包装用フィルムや成形体として導
電性プラスチックを使用するのが有効である。
このような導電性フィルムの導電性成形体としては各種
熱可塑性樹脂に導電性光てん剤を混入しfcv1専′1
41.性材料を表部にコートしたものが使用されてきた
。
導電性充てん剤としては金属微粒子、金属繊維、金属化
カラス繊維、カーボン繊維、カーボン微粒子等が用いら
れてきた。しかしながら、導電性充てん剤を含む電磁波
頭へいフィルムは高導電性金得るのに多量の充てん剤會
必要とし、フィルム性が著しく劣り、また10μm以下
の薄膜にすることが困難である。
また、樹脂と充てん剤を均一に混練し、均一な導電性フ
ィルムを得ること、更に片面が導電性、反対の面が絶縁
性のフィルムを得ることも困難である。
〔発明の目的〕
本発明の目的はこれらの難点を解決した電磁波頭へい性
フィルム及びその製造方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明全概説すれば本発明の第1の発明は電磁波頭へい
性フィルムに関する発明であって、熱可塑性高分子フィ
ルム中に、芳香族化合物の電解酸化重合により製造した
導電性高分子材が分散してなることを特徴とする。
そして、本発明の第2の発明は電磁波頭へい性フィルム
の製造方法に関する発明であって、熱可塑性高分子フィ
ルム中に、芳香族化合物の電解酸化重合により製造した
導電性高分子材を分散させることを特徴とする。
ある種の芳香族化合物線電解酸化反応に19重合し、電
極基板上に高導電性フィルムを与える。特にビロール、
3−メチルビロール、N−メチルビロール等のビロール
類、チオフェン、2−メチルチオフェン等のチオフェン
類は高い電気伝導度で、かつ大気中での安定性、更には
短時間での熱安定性に優れた導電性高分子材を与える。
本発明は、これら電解酸化重合により得られる導電性高
分子材を熱可塑性高分子フィルム中に分散させたことを
特徴として得られる電磁波頭へい用フィルム及びその製
造方法である。熱可塑性高分子フィルム中に該導電性高
分子材を分散させる方法としては、浴融した熱可塑性樹
脂中に繊維状にした該導電性高分子材を混練させること
が可能である。特に該導電性高分子材は、汎用性高分子
フィルム材として代表的なポリ塩化ビニル系フィルム、
ポリ塩化ビニリデンフィルムとほぼ同程度の1.6前後
の比重をもつため、均一にフィルム化ができる。
しかしながら、より簡単に分散し、かつ高い電気伝導度
をもつ電磁波頭へい用フィルムを得るには、芳香族化合
物の電解酸化重合を行う際、電極基板上にあらかじめ、
熱可塑性高分子フィルムをコートしておき、このフィル
ム付電極基板上で電解酸化重合を行うことである。すな
わち、通常電極基板面を、絶縁性高分子フィルムでコー
トする乏通電されないはずであるが高分子フィルムが薄
く、また、電解酸化重合溶液を高分子フィルム棟に対し
て適切に調製した場合、芳香族化合物や電解質がフィル
ム中に拡散して電極基板表面にまで拡散でき重合が開始
され、更に重合した導電性篩分子材を熱可塑性高分子フ
ィルム中に分散させることができる。
本発明の1実施の態様は、このように電極基板上にコー
トした熱可塑性高分子フィルム中に、芳香族化合物の電
解酸化重合により導電性高分子材を分散させたことを特
徴とする電磁波頭へい性フィルムとその製造方法である
。
このような熱可塑性樹脂中フィルムとしては、ポリ塩化
ビニル系樹脂、すなわち、ポリ塩化ビニル及び塩化ビニ
ルと他のモノマー類との共重合体がある。他の共重合性
モノマーの例としては、各種ビニルエステル類、ビニル
エーテル類、アクリル酸及びそのエステル類、メタクリ
ル酸及びそのエステル類、マレイン酸及びそのエステル
類、フマル酸及びそのエステル類、無水マレイン酸、ス
チレンを始めとする芳香族ビニル化合物、ハロゲン化ビ
ニリデン化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、プ四ピレン等が挙げられる。
また、ポリ塩化ビニリデン、及び塩化ビニリデンと各種
ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、塩化ビニル等の共重合体、史にポ
リエチレン、及びエチレンと上記各徨モノマーとの共重
合体も使用することができる。
更に以上の初詣に可塑剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収
剤、防タイ剤、顔料、染料等全配合したフィルムも1史
用できる。
1次、電解酸化重合できる芳香族化合物としてハ、ビロ
ール、5−メチルビロール、N−メチルビロール、チオ
フェン、フラン、フェノール、チオフェノール、セレノ
フェン、テルロフェン、ビフェニル、アズレン、p−タ
ーフェニル、0−ターフェニル、p−クォータフェニル
、2−ヒドロキシビフェニル、ジフェニルスルフィ)”
、2−(α−チェニル)チオフェン、2−(α−チェニ
ルンフラン、2−(2−ピロリル)ビロール、2−(2
−ピロリル)チオフェン、2−フェニルチオフェン、α
−チェニルフェニルエーテル、β−フリル−α−チェニ
ルセレニド、2−(2−ピロリル)セレノフェン、2−
 −(2−セレニエニル)テルロフェン、N−ビニルカ
ルバゾール、N−エチニルカルバゾール、メチルアズレ
ン、ピレン等の芳香族化合物が使用できる。また、芳香
族化合物ではないが各種置換ブタジェン化合物も使用で
きる。
次に、電解重合時の電解質としては有機第4級アンモニ
ウム塩、無機塩、プロトン酸及びエステル等種々の化合
物が使用できる。溶剤としてはアセトニトリル系のもの
を造営使用するが、芳香族化合物の電解重合が可能で、
適当な電解質全溶解させるものであれば選択できる。
更に電解酸化重合用の基板としては、金、白金、パラジ
ウム等の貴金属あるいは酸化スズ、酸化インジウム等の
導電性金属酸化物、あるいはこれら全適当な基板上にメ
ッキ、蒸着、スパッタリングのいずれかの方法で堆積し
たものが使用でき、また、これらをドラム状の形状にす
ることにより連続的に製造することも可能である。
このようにして得られた電磁波速へい性フィルムは竹に
ICやLSIあるいはこれらを塔載したプリント板の包
装用材として最適である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 ガラス板上に約10OA厚のクロム、その上に合金約5
00A蒸着した基板上にポリ塩化ビニル(以下1.pv
cと略記する)100重量部に対してジブチルフタレー
ト5重量部を含むメチルエチルケトン溶液から、キャス
ト法により厚さ25μmのPvCフィルムを形成した。
このフィルム付基板全ビロール2モル/1.テトラエチ
ルアンモニウムバークロレート1モル/At刀口えたア
セトニトリル−メチルエチルケトン(5/1)溶液に、
対向電極として使用する白金メッキしたチタンメツシュ
と共に浸漬し、五〇Vで5分間電解酸化重合を行った。
得られたフィルムは洗浄後基板からはく離し、4端子法
で表面抵抗を測定したところ、該基板面に接していた裏
面は258/cm、その反対の表面は128/澤と非常
に高い電気伝導度が得られた。
このフィルムの電磁波速へい性全以下のように測定した
。
外部電波tS断したシールドルーム内に、10の角の窓
を有する鉄製の箱を設け、その内部に雑電波発信源をお
く。得られたフィルム1に10σ角の窓に取付け、発信
源からの電界強度を窓の外で受信した。
その結果、電解酸化重合を行う前のPVOフィルムに比
べ、導電化したフィルムでは電界強度が100〜100
0MHzの周波数範囲で1/2゜以下に低下し、電磁波
速へい性が確認された。
実施例2 エチレン−酢酸ビニル(88:12)共i合体100重
量部に対して、ジブチルフタレート5重量部、テトラ−
n−ブチルアンモニウムパーク買レート1重量部を加え
たクロロベンゼン−ジメチルスルホキシド(9s:5)
溶液を50℃に加温した。
この溶液から、カラス板上に約100A厚のクロム、そ
の上に全音約50OA蒸着した基板上にキャスト法によ
り約20μm厚のフィルムを形成した。得られたフィル
ムを白金コートしたチタンメツシュ!極と共に、チオン
エフ2モル/11テトラブチルアンモニウムバークロレ
ート1モル/lを加えたアセトニトリル−ジメチルホル
ムアミド(4/1)溶液に浸漬し、3.5Vで5分間チ
オフェンの電解酸化重合を行った。
得られた黒色のフィルムは洗浄して基板からはく離し、
電気伝導度を4端子法で測定したところ、表面は12 
S/crn、該基板に接していた裏面は18S/crn
であった。
このフィルムの電磁波頭へい性全実施例1と同様に測定
したところ、電解酸化重合前のフィルムに比べて、電磁
強度が100〜10100O,の周波数範囲で1715
〜1/20に低下し、電磁波頭へい能が確認された。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、熱可塑性高分子
フィルム中に芳香族化合物の電解酸化重合により製造し
た導電性高分子材を分散させることにより高い導電性を
有する高分子フィルムが得られるため、電磁波頭へい性
フィルムとして使用できる。
特許出願人 日本電信電話公社 代理人 中 本 宏 同 井 上 昭 同 吉 嶺 桂

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 熱可塑性菌分子フィルム中に、芳香族化合物の電
    解酸化重合に、J:り製造した導電性高分子材が分散し
    てなることを特徴とする′電磁波遮へい性フィルム。 2、 該該フィルムが、熱可塑性高分子フィルムと、そ
    のフィルムをコートした電極基板上における芳香族化合
    物の電解酸化重合に、ct)製造した導電性高分子材と
    を包含するものである特許請求の範囲第1項記載の電磁
    波遮へい性フィルム。 五 熱可塑性高分子フィルム中に、芳香族化合物の電解
    酸化重合により製造した導電性高分子材會分散させるこ
    とを特徴とする電磁波遮へい性フィルムの製造方法。 4、 該方法が、電極基板上に熱可塑性高分子フィルム
    をコートする工程、該フィルム付基板上で芳香族化合物
    を電解酸化重合する工程、該′電極基板より該フィルム
    を分離する工程の各工程を包含するものである特許請求
    の範囲第2項記載の電磁波遮へい性フィルムの製造方法
    。
JP8407884A 1984-04-27 1984-04-27 電磁波遮へい性フイルム及びその製造方法 Pending JPS60228544A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364846U (ja) * 1986-10-16 1988-04-28

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364846U (ja) * 1986-10-16 1988-04-28

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