JPS60228637A - 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 - Google Patents
磁気記録媒体用Ｃｏ基合金Info
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- JPS60228637A JPS60228637A JP59081992A JP8199284A JPS60228637A JP S60228637 A JPS60228637 A JP S60228637A JP 59081992 A JP59081992 A JP 59081992A JP 8199284 A JP8199284 A JP 8199284A JP S60228637 A JPS60228637 A JP S60228637A
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- Japan
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- alloy
- magnetic recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、磁気記録媒体用ＯＯ基合金に関する。
一般に磁気ディスク、フロッピーディスクオーディオ用
磁気テープ、ＶＴＲ用磁気テープ、磁気写真用ディスク
、さらにコンピュータ用磁気テープなどに、プラスティ
ックフィルムや金属シート等の基体の表面にＯｏ −Ｏ
ｒ合金薄膜を形成した垂直磁気記録媒体を使うことが試
みられている。
磁気テープ、ＶＴＲ用磁気テープ、磁気写真用ディスク
、さらにコンピュータ用磁気テープなどに、プラスティ
ックフィルムや金属シート等の基体の表面にＯｏ −Ｏ
ｒ合金薄膜を形成した垂直磁気記録媒体を使うことが試
みられている。
このＯｏ −Ｏｒ合金の磁気記録媒体は、大きな磁気異
方性と飽和磁化をもつことから、薄膜化しても信号レベ
ルを保持しやすく、特に垂直磁化膜用として開発されて
いるものである。
方性と飽和磁化をもつことから、薄膜化しても信号レベ
ルを保持しやすく、特に垂直磁化膜用として開発されて
いるものである。
この薄膜を形成する方法として、スパッタリング法があ
る。これは、不活性ガス雰囲気（例えばＡｒ）中で、Ｏ
ｏ −Ｏｒ合金を陰極とし、この陰極を不活性ガス陽イ
オンでたたくことにより、ＯＱ原子＋ Ｏｒ原子を飛び
出させ、基板を被覆する方法である。
る。これは、不活性ガス雰囲気（例えばＡｒ）中で、Ｏ
ｏ −Ｏｒ合金を陰極とし、この陰極を不活性ガス陽イ
オンでたたくことにより、ＯＱ原子＋ Ｏｒ原子を飛び
出させ、基板を被覆する方法である。
しかし、スパッタリング法によりＯｏ −Ｏｒ合金（以
下、ターゲットと称す）をスパツタしている膜中、ター
ゲットにクラックが入ることがあった。このようにター
ゲットにクラックが入ると、スパッタに異常を生じ、不
均一なＯｏ −Ｏｒ被檀膜ができやすく、さらにはター
ゲットボンディング用半田成分が膜中に混入するという
問題が起る場合があった。
下、ターゲットと称す）をスパツタしている膜中、ター
ゲットにクラックが入ることがあった。このようにター
ゲットにクラックが入ると、スパッタに異常を生じ、不
均一なＯｏ −Ｏｒ被檀膜ができやすく、さらにはター
ゲットボンディング用半田成分が膜中に混入するという
問題が起る場合があった。
しかも、こうした傾向はスパッタ速度を増加させたマグ
ネトロンスパッタ法においてより顕著である。
ネトロンスパッタ法においてより顕著である。
更に最近スパッタリングの量産化に向け、更に大型のタ
ーゲットが望まれているが、このようにターゲットが大
型化した場合も、この問題は顕著であった。一方、Ｏｏ
−Ｏｒ合金は、大型化しようとしても加工性が悪く、
大型が困難であり、歩留りも低くかった。
ーゲットが望まれているが、このようにターゲットが大
型化した場合も、この問題は顕著であった。一方、Ｏｏ
−Ｏｒ合金は、大型化しようとしても加工性が悪く、
大型が困難であり、歩留りも低くかった。
本発明は、スパッタリングターゲットとして、クラック
が生じにくく、かつ加工性が良好なＣＯ−Ｏｒｒ合金提
供することを目的とする。
が生じにくく、かつ加工性が良好なＣＯ−Ｏｒｒ合金提
供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明は、上記目的を達成する為、Ｏｒを９、０〜２２
．５重量％含有させ、Ｓｃ、Ｖ。
．５重量％含有させ、Ｓｃ、Ｖ。
Ｎ ｂ 、 Ｔ ａ 、 Ｗ 、 Ｍ ｎ 、 Ｔ ｃ
、 Ｒｅ 、 Ｆ ｅ 。
、 Ｒｅ 、 Ｆ ｅ 。
０ａｔＩｒ、Ｎｔ＋Ｐａ＋ＰｔｓＯｕｓＡｇＡｕｓＺｒ
、Ｏｃｔ、Ｂ、Ａｌ、Ｏａ、Ｉｎ。
、Ｏｃｔ、Ｂ、Ａｌ、Ｏａ、Ｉｎ。
ＴＡ！、Ｏ，Ｓｉ、Ｇｏ、８ｎ＋Ｐｂ、Ｐ。
Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔθ、ランタノイド元素
及びアクチノイド元素から選択された１種又は２種以上
の元素を０．００１〜５重量％含有させ、残部が実質的
にＣＯである磁気記録媒体用ＣＯ基合金を提供する。
及びアクチノイド元素から選択された１種又は２種以上
の元素を０．００１〜５重量％含有させ、残部が実質的
にＣＯである磁気記録媒体用ＣＯ基合金を提供する。
ここで、この発明の００基合金において成分組成範囲を
上記の通りに限定した理由を説明する。
上記の通りに限定した理由を説明する。
（１）Ｏｒ酸成分
Ｏｒ酸成分こけ、飽和磁化を実用範囲である８０〜８５
０ガウスに調整する作用がある。その含有量が多すぎる
と、十分な飽和磁化が得られに＜＜、一方その含有量が
少＝３− なすぎると、飽和磁化が８５０ガウス以上となりやすい
、したがって、Ｏｒの成分範囲は、９．０〜２２５％、
更には１２〜２２．５％、更には１４〜２２％が好まし
い。
０ガウスに調整する作用がある。その含有量が多すぎる
と、十分な飽和磁化が得られに＜＜、一方その含有量が
少＝３− なすぎると、飽和磁化が８５０ガウス以上となりやすい
、したがって、Ｏｒの成分範囲は、９．０〜２２５％、
更には１２〜２２．５％、更には１４〜２２％が好まし
い。
以上、説明した飽和磁化に関して、その値として、８０
〜８５０ガウス必要なのは飽和磁化が太きすぎると、例
えば垂直磁化膜として使用した場合、膜面に垂直の磁化
配向を得にくく、一方飽和磁化が小さすぎると、再生出
力が小さくなり、８７Ｎ比が悪化して実用に供し得なく
なりやすい為である。
〜８５０ガウス必要なのは飽和磁化が太きすぎると、例
えば垂直磁化膜として使用した場合、膜面に垂直の磁化
配向を得にくく、一方飽和磁化が小さすぎると、再生出
力が小さくなり、８７Ｎ比が悪化して実用に供し得なく
なりやすい為である。
（２） Ｓ ｃ ＋ Ｖ 、Ｎ ｂ 、Ｔ ａ ＋ Ｗ
ｔ Ｍ ｎ ＋ ’ＩＩ’ ｃＲｅ、Ｆｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｎｉ、Ｐｄ。
ｔ Ｍ ｎ ＋ ’ＩＩ’ ｃＲｅ、Ｆｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｎｉ、Ｐｄ。
Ｐｔ、Ｏｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｏｄ、Ｂｉ７．Ｏａ、
Ｉｎ、Ｔｌ＋０．８１．ＧｅＳｎ、Ｐｂ、ＰｔＡｔｚ８
ｂ＋Ｂｉ ＋Ｓ＋８ｅ、Ｔθ、ランタノイド元素及びア
クチノイド元素： これらの元素は、Ｏｏ −Ｏｒ合金の加工４− 性を向上させ、かつターゲットに生じるクラックを発生
させにくくさせるが、含有量が多すぎると、加工性磁気
特性及びクランク発生防止率を低下させ、一方、少なす
ぎると、その効果が低下する。したがって、上記元素群
から選択された１種又は２種以上の元素の含有量は、０
．００１〜５重ｔ％更にけｏ、 ｏ ｌ、−／ｉ量％、
更に０．１〜２重量％が好ましい。
Ｉｎ、Ｔｌ＋０．８１．ＧｅＳｎ、Ｐｂ、ＰｔＡｔｚ８
ｂ＋Ｂｉ ＋Ｓ＋８ｅ、Ｔθ、ランタノイド元素及びア
クチノイド元素： これらの元素は、Ｏｏ −Ｏｒ合金の加工４− 性を向上させ、かつターゲットに生じるクラックを発生
させにくくさせるが、含有量が多すぎると、加工性磁気
特性及びクランク発生防止率を低下させ、一方、少なす
ぎると、その効果が低下する。したがって、上記元素群
から選択された１種又は２種以上の元素の含有量は、０
．００１〜５重ｔ％更にけｏ、 ｏ ｌ、−／ｉ量％、
更に０．１〜２重量％が好ましい。
次に本発明について、実施例を用いて説明する。
通常の溶解鋳造法により、それぞれ表に示される成分組
成をもった本発明００基合金１〜５及び比較ＣＯ基合金
１及び２の鋳塊をそれぞれ調製し、ついでこれらの鋳塊
から表に示す如く、スパッタリング用ターゲットを作製
した。その際、加工性及び歩留りが調べられた。引き続
いて、これらのターゲットを用い雰囲気＋、 Ａ ｒ
ｒ雰囲気圧力ニ５Ｘ１０ ｔｏｒｒの条件でＤｏマグネ
トロンスパッタリングを行ない、厚さ１０μｍのポリエ
ステルフィルム基体の表面に実質的ｌこ合金組成と同一
の成分組成をもつ厚さ約０．５μｍの磁気記録媒体とし
ての薄膜を形成した。電力投入量は約５ｗ ／ ｃｒｄ
とした。この際、ターゲットのクラック発生率が試料１
００個に対して調べられた。
成をもった本発明００基合金１〜５及び比較ＣＯ基合金
１及び２の鋳塊をそれぞれ調製し、ついでこれらの鋳塊
から表に示す如く、スパッタリング用ターゲットを作製
した。その際、加工性及び歩留りが調べられた。引き続
いて、これらのターゲットを用い雰囲気＋、 Ａ ｒ
ｒ雰囲気圧力ニ５Ｘ１０ ｔｏｒｒの条件でＤｏマグネ
トロンスパッタリングを行ない、厚さ１０μｍのポリエ
ステルフィルム基体の表面に実質的ｌこ合金組成と同一
の成分組成をもつ厚さ約０．５μｍの磁気記録媒体とし
ての薄膜を形成した。電力投入量は約５ｗ ／ ｃｒｄ
とした。この際、ターゲットのクラック発生率が試料１
００個に対して調べられた。
以下余白
この表から明らかな如く、本発明の実施例は、比較例に
比べて、加工性及びクラック防止効果が高く、量産化に
有効な方法となる。
比べて、加工性及びクラック防止効果が高く、量産化に
有効な方法となる。
又、ターゲットが大型化しても、加工性及びクラック防
止効果が高い。
止効果が高い。
本発明は、ＣＯ基合金に、Ｏｒを９．０〜２２．５重量
％含有させ、８ ｃ ｓ Ｖ ｒ Ｎ ｂ ＊Ｔ ａ
、 Ｗ 、 Ｍ ｎ 、 Ｔ ｃ 、 Ｒｅ 、 Ｆ
ｅ 、 Ｏｓ 。
％含有させ、８ ｃ ｓ Ｖ ｒ Ｎ ｂ ＊Ｔ ａ
、 Ｗ 、 Ｍ ｎ 、 Ｔ ｃ 、 Ｒｅ 、 Ｆ
ｅ 、 Ｏｓ 。
Ｉ ｒ＋ Ｎ ｉ 、＊ Ｐ ｄ ｒ Ｐ ｔ ＊ Ｏ
ｕ ＋ Ａ ｇ ＋ Ａ ｕＺｎ、Ｏｄ、Ｂ、Ａ１．Ｏ
ａ、Ｉｎ、Ｔ／。
ｕ ＋ Ａ ｇ ＋ Ａ ｕＺｎ、Ｏｄ、Ｂ、Ａ１．Ｏ
ａ、Ｉｎ、Ｔ／。
０ 、８１ 、 Ｇ ｏ 、 Ｓ ｎ 、 Ｐ ｂ 、
Ｐ 、 Ａ ｓ 。
Ｐ 、 Ａ ｓ 。
Ｓｂ、Ｂｉ、８．８ｅ 、Ｔｅ、ランタノイド元素及び
アクチノイド元素から選択された１種又は２種以上の元
素を０．００１〜５重量％含有させることにより、クラ
ックが生じにくく、かつ加工性が良好な磁気記録媒体用
Ｃ。
アクチノイド元素から選択された１種又は２種以上の元
素を０．００１〜５重量％含有させることにより、クラ
ックが生じにくく、かつ加工性が良好な磁気記録媒体用
Ｃ。
基合金を提供できる。
代理人弁理士 則 近 憲 佑
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｏｒを９．０〜２２．５重量％含有させ、８ ｃ ＋Ｖ
、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ０ｓｓＩｒ
ｔＮｉｔＰａ＊Ｐｔ＋Ｏｕ、Ａｇ＊Ａ ｕ 、 Ｚ ｎ
、 Ｏｅｔ 、 Ｂ ａ Ａ Ｉｔ 、 Ｏａ 、
Ｉ ｎ 。 ＴＪ、０ｅＳｉ 、Ｇｏ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐ、ＡｓＳ ｂ
、 Ｂ ｉ 、 Ｓ 、 Ｓ ｅ 、 Ｔ ｏ 、ラ
ンタノイド元素及びアクチノイド元素から選択された１
種又Ｆｉ２種以上の元素を０．００１〜５重量％含有さ
せ、残部が実質的にＯｏである磁気記録媒体用００基合
金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59081992A JPS60228637A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59081992A JPS60228637A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60228637A true JPS60228637A (ja) | 1985-11-13 |
Family
ID=13761968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59081992A Pending JPS60228637A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 磁気記録媒体用Ｃｏ基合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60228637A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS611004A (ja) * | 1984-06-13 | 1986-01-07 | Mitsubishi Electric Corp | ＣｏＣｒ系垂直磁気記録媒体 |
| JPS6339122A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Ltd | 面内磁気記録媒体 |
| JPS6396259A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 蒸着用Ｃｏ−Ｃｒ基合金 |
| JPS63100149A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 蒸着用Ｆｅ−Ｃｏ基合金 |
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| CN112585295A (zh) * | 2018-08-09 | 2021-03-30 | Ｊｘ金属株式会社 | 溅射靶、磁性膜以及垂直磁记录介质 |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP59081992A patent/JPS60228637A/ja active Pending
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