JPS60229923A - ポリフエニレンオキサイドの製造法 - Google Patents
ポリフエニレンオキサイドの製造法Info
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- JPS60229923A JPS60229923A JP8550484A JP8550484A JPS60229923A JP S60229923 A JPS60229923 A JP S60229923A JP 8550484 A JP8550484 A JP 8550484A JP 8550484 A JP8550484 A JP 8550484A JP S60229923 A JPS60229923 A JP S60229923A
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- polyphenylene oxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリエステル、ポリカーボネート、エポキシ樹
脂製造のプレポリマーとして有用なポリフェニレンオキ
サイドの製造法に関する。
脂製造のプレポリマーとして有用なポリフェニレンオキ
サイドの製造法に関する。
−16−ジ置換フェノールは金属錯体及υ酸素存在下、
酸化カップリング重合して、ポリ(26−ジを換−/l
#−7二二レンオキサイド)を生成することはよく知ら
れている。特にポリ(2,6=ジメチル〜/、$−フェ
ニレンオキサイド)は機械的強度゛、耐熱性、電気的特
性に優れエンジニアリングプラス−チックとして大きな
需要がある。反面もろい、成形加工しにくいなどの欠点
が1凱実用的にはポリスチレンとのブレンド体またはグ
ラフト体として利用されている。
酸化カップリング重合して、ポリ(26−ジを換−/l
#−7二二レンオキサイド)を生成することはよく知ら
れている。特にポリ(2,6=ジメチル〜/、$−フェ
ニレンオキサイド)は機械的強度゛、耐熱性、電気的特
性に優れエンジニアリングプラス−チックとして大きな
需要がある。反面もろい、成形加工しにくいなどの欠点
が1凱実用的にはポリスチレンとのブレンド体またはグ
ラフト体として利用されている。
そこでポリフェニレンオキサイド両末端に水酸基を有す
るポリマーを合成し、これをグレポリマーとして活用し
ようとする試みがなされている。両末端に水酸基を有す
るポリフェニレンオキサイドの製造法としては、テトラ
メチルビフェノキノンをオリゴ(コ、6−シメチルー/
、 + −7二二レンオキサイド)と加熱再配列反応を
行うことによシ得る方法が報告されている(White
ら、J、POlymer 5cience / 9 /
3 &り(lりざ/))。
るポリマーを合成し、これをグレポリマーとして活用し
ようとする試みがなされている。両末端に水酸基を有す
るポリフェニレンオキサイドの製造法としては、テトラ
メチルビフェノキノンをオリゴ(コ、6−シメチルー/
、 + −7二二レンオキサイド)と加熱再配列反応を
行うことによシ得る方法が報告されている(White
ら、J、POlymer 5cience / 9 /
3 &り(lりざ/))。
しかし、この方法は、次のような難点を有する。
(1)両末端に水酸基を有する物質は得られるものの分
子量は低く、重合度にして!〜lOに留まる。(2)ま
ずオリゴ(2,6−シメチルーl、ターフェニレンオキ
サイド)とテトラメチルビフェノキノンを合成し、これ
を再配列反応にかけるという二段反応で操作手順が繁雑
である。(3)目的物の生成収率が低い。(4)コ、6
−シメチルフエノール以外のコ、6−ジ置換フェノール
にFi適適用色ない。
子量は低く、重合度にして!〜lOに留まる。(2)ま
ずオリゴ(2,6−シメチルーl、ターフェニレンオキ
サイド)とテトラメチルビフェノキノンを合成し、これ
を再配列反応にかけるという二段反応で操作手順が繁雑
である。(3)目的物の生成収率が低い。(4)コ、6
−シメチルフエノール以外のコ、6−ジ置換フェノール
にFi適適用色ない。
そこで本発明者らはこのような難点の改良すべく種々検
討を行ない、工業的に汎用されるビスフェノール及びそ
の誘導体に着目し、ビスフェノール核上の置換基を選択
しその酸化電位を制御することによシ、これを金属錯体
によるコ、6−ジ置換フェノールの酸化重合系に共存せ
しめればビスフェノール類を基点として両方向に重合反
応が進行することを見い出し、連鎖の両末端に水酸基を
有するポリマーを合成する本発明に゛至った。
討を行ない、工業的に汎用されるビスフェノール及びそ
の誘導体に着目し、ビスフェノール核上の置換基を選択
しその酸化電位を制御することによシ、これを金属錯体
によるコ、6−ジ置換フェノールの酸化重合系に共存せ
しめればビスフェノール類を基点として両方向に重合反
応が進行することを見い出し、連鎖の両末端に水酸基を
有するポリマーを合成する本発明に゛至った。
すなわち、本発明の要旨は、一般式(11で示さレルホ
リフエニレンオキサイド C式中% R’% R”はアルキル基、アルコキシ基、
アリール基を示し、R’、R’%R@、R’は水素原子
、アルキル基、アルコキシ基を示し、R’−’−R’は
同一であってもよい。m、nは3≦m十n%である。〕 を製造するに際し、一般式(損で示されるビスフェノー
ル類 R4R1 〔式中、R“、R“、R″、R“は、一般式(11にお
けると同義。〕 の存在下、一般式(1で示される2、6−ジ置換)〔式
中、 R1,R”は、一般式(I)におけると同義。)
を金属錯体触媒によシ重合させることを特徴とするポリ
フェニレンオキサイドの製造法にある。
リフエニレンオキサイド C式中% R’% R”はアルキル基、アルコキシ基、
アリール基を示し、R’、R’%R@、R’は水素原子
、アルキル基、アルコキシ基を示し、R’−’−R’は
同一であってもよい。m、nは3≦m十n%である。〕 を製造するに際し、一般式(損で示されるビスフェノー
ル類 R4R1 〔式中、R“、R“、R″、R“は、一般式(11にお
けると同義。〕 の存在下、一般式(1で示される2、6−ジ置換)〔式
中、 R1,R”は、一般式(I)におけると同義。)
を金属錯体触媒によシ重合させることを特徴とするポリ
フェニレンオキサイドの製造法にある。
以下、本発明の詳細な説明する。
まず、本発明において用いるビスフェノール類は次の一
般式(nlで示される。
般式(nlで示される。
R’ R糎
R1、R4%R1、Pにおけるアルキル基、アルコキシ
基としてF!、メチル基、エチル基、メトキシ基等が挙
けられるが、電子押し出し効果のあるメチル基、メトキ
シ基が特に望ましい。
基としてF!、メチル基、エチル基、メトキシ基等が挙
けられるが、電子押し出し効果のあるメチル基、メトキ
シ基が特に望ましい。
また、本発明におけるコ、6・−ジ置換フェノールは次
の一般式(IJで示される。
の一般式(IJで示される。
ここで、R’&R”としてはメチル基、エチル基、メト
キシ基、フェニル基などが挙げられるが、コ、6−シメ
チルフエノールが目的物の物性、収率等の点“よ)特に
好ましい。
キシ基、フェニル基などが挙げられるが、コ、6−シメ
チルフエノールが目的物の物性、収率等の点“よ)特に
好ましい。
金属錯体触媒の金属としては銅、マンガン、コバルト、
鉄等が挙げられ、たとえば、塩化第−銅一ヒリジン、酢
酸銅−トリエチルアミン、塩化マンガン−トリ酢酸アミ
ン又は高分子化したこれらの錯体などで一般にコ、6−
ジ置換フエノ−ルの酸化重合触媒に用いられているもの
であれば良い。
鉄等が挙げられ、たとえば、塩化第−銅一ヒリジン、酢
酸銅−トリエチルアミン、塩化マンガン−トリ酢酸アミ
ン又は高分子化したこれらの錯体などで一般にコ、6−
ジ置換フエノ−ルの酸化重合触媒に用いられているもの
であれば良い。
本発明において重合反応を行うための仕込み条件はたと
えば次のようである。〔ビスフェノール類〕/〔λ、t
−ジ置換フェノール〕//iコ〜100で、この比率に
応じた重合度のポリマーが得られる。錯体触媒はコ、6
−ジ置換フェノール及ヒビスフエノールの全セル数のl
〜lOmol %加えれば良い。王者を含むたとえばベ
ンゼン溶液を空気又は酸素雰囲気下激しく攪拌すると反
応は進行し約3〜60分で終了する。反応終了後、反応
液を塩酸酸性メタノールに注ぐと白色粉末として目的ポ
リマーが得られる。生成物が低分子量体の場合は反応溶
媒を留去した後残渣を酸性水で洗浄すると油状物として
得られる。
えば次のようである。〔ビスフェノール類〕/〔λ、t
−ジ置換フェノール〕//iコ〜100で、この比率に
応じた重合度のポリマーが得られる。錯体触媒はコ、6
−ジ置換フェノール及ヒビスフエノールの全セル数のl
〜lOmol %加えれば良い。王者を含むたとえばベ
ンゼン溶液を空気又は酸素雰囲気下激しく攪拌すると反
応は進行し約3〜60分で終了する。反応終了後、反応
液を塩酸酸性メタノールに注ぐと白色粉末として目的ポ
リマーが得られる。生成物が低分子量体の場合は反応溶
媒を留去した後残渣を酸性水で洗浄すると油状物として
得られる。
本発明で得られたポリマーが分子中に一個のフェノール
性水酸基を有することは、分子量測定及び四塩化チタン
発色法によって確認できる。
性水酸基を有することは、分子量測定及び四塩化チタン
発色法によって確認できる。
また低分子量体の場合H−NMRからも同定できる。
上記のようにして得られる本発明に係るポリフェニレン
オキサイドは、一般式(11で示される。
オキサイドは、一般式(11で示される。
この一般式(r)においてm、nは3≦m+nであシ、
目的等によシ異なるが、i$;糺ナル≦弘ρ社座p・う
λ關゛れか。
目的等によシ異なるが、i$;糺ナル≦弘ρ社座p・う
λ關゛れか。
本発明方法によれば1次のような効果を達成しうる。す
なわち、(1)酸化重合反応の仕込条件(ビスフェノー
ル類、コ、6−ジ置換フェノール、錯体触媒の仕込比率
〕に・よシ任意の重合度のポリマーを得ることができる
。(2)室温、大気下1%短時間一段反応で目的物が得
られる。(3)重合反応はほぼ定量的に進行し生成収率
は極めて高い。
なわち、(1)酸化重合反応の仕込条件(ビスフェノー
ル類、コ、6−ジ置換フェノール、錯体触媒の仕込比率
〕に・よシ任意の重合度のポリマーを得ることができる
。(2)室温、大気下1%短時間一段反応で目的物が得
られる。(3)重合反応はほぼ定量的に進行し生成収率
は極めて高い。
(4)ビスフェノール類は極めて安価である。
本発明方法によシ得られるポリフェニレンオキサイドは
、両末端に水酸基を有し、各種ポリマー製造のためのプ
レポリマーとして有用であシ、たとえば、ホスゲン、テ
レフタル酸クロライド、エピクロルヒドリンとの反応に
よシボリカーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂な
製造しうる。
、両末端に水酸基を有し、各種ポリマー製造のためのプ
レポリマーとして有用であシ、たとえば、ホスゲン、テ
レフタル酸クロライド、エピクロルヒドリンとの反応に
よシボリカーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂な
製造しうる。
以下、実施例によシ本発明をさらに詳細に説明する。
実施例/
−96−シメチルフエノールコa、 e 、li+、ア
セトン3vrl、濃塩酸g、Jg、3−メルカプトプロ
ピオン酸o、otgを70℃で7θ時間反応させた。
セトン3vrl、濃塩酸g、Jg、3−メルカプトプロ
ピオン酸o、otgを70℃で7θ時間反応させた。
反応混液な数回水洗した後ベンゼンから再結晶、2、m
l’−ヒス(,7,!−ジメチルフェニル)フロパンを
得た。mp/!;! 〜/!r6℃、工Rシc−H:−
タto& −タコocm−’、 シ環c=c:/400
./41ざo1/113θcIIL″″11δゼミナル
ジメチA/C−H: / 3 ? L13416cIf
t″′凰、 H−IN MR7,Oppm (フェニル
ダH) u、コppm (核置換メチルlλH) 、
1.tppm(プロパン6H)。
l’−ヒス(,7,!−ジメチルフェニル)フロパンを
得た。mp/!;! 〜/!r6℃、工Rシc−H:−
タto& −タコocm−’、 シ環c=c:/400
./41ざo1/113θcIIL″″11δゼミナル
ジメチA/C−H: / 3 ? L13416cIf
t″′凰、 H−IN MR7,Oppm (フェニル
ダH) u、コppm (核置換メチルlλH) 、
1.tppm(プロパン6H)。
2、−′−ビス(j、j−ジメチルフェニル)7’ロパ
ン八ss;i%コ、6−シメチルフエノールよ、りIを
溶かした200m1ベンゼン溶液に10wt1ピリジン
、塩化第一銅0./ 17のベンゼン溶液を加える。酸
素下で激しく攪拌し、約go分反応させる。反応終了後
反応混液な塩酸酸性メタノールに注ぐと、白色粉末を得
る。収量!、911(収率trr@)。H−N M R
7,Oppm 6.g ppm (フェニルハコ、−p
pm (核置婢メチル)、/ 、 g ppm(プロパ
ン)″またプロトン数よシビスフェノール1mに対して
コ、6−シメチルフエノール単位g個が縮合しているこ
とを確認した。
ン八ss;i%コ、6−シメチルフエノールよ、りIを
溶かした200m1ベンゼン溶液に10wt1ピリジン
、塩化第一銅0./ 17のベンゼン溶液を加える。酸
素下で激しく攪拌し、約go分反応させる。反応終了後
反応混液な塩酸酸性メタノールに注ぐと、白色粉末を得
る。収量!、911(収率trr@)。H−N M R
7,Oppm 6.g ppm (フェニルハコ、−p
pm (核置婢メチル)、/ 、 g ppm(プロパ
ン)″またプロトン数よシビスフェノール1mに対して
コ、6−シメチルフエノール単位g個が縮合しているこ
とを確認した。
実施例コ
コ、コービス(3,!;−ジメチルフェニル)フロパン
八zgg、λ、6−ジー・メチルフェノールjJ、ダy
のベンゼン溶液にピリジノコ0rtl、塩化第−銅OJ
lのベンゼン溶液を加え、酸素下で激しく攪拌し約60
分反応させる。反応終了後反応混液な塩酸酸性メタノー
ルに注ぎ白色粉末を得る。vpoによ請求めた数平均分
子量t、ooo。
八zgg、λ、6−ジー・メチルフェノールjJ、ダy
のベンゼン溶液にピリジノコ0rtl、塩化第−銅OJ
lのベンゼン溶液を加え、酸素下で激しく攪拌し約60
分反応させる。反応終了後反応混液な塩酸酸性メタノー
ルに注ぎ白色粉末を得る。vpoによ請求めた数平均分
子量t、ooo。
四塩化チタン発色法il+/分子中−個の水酸基の存在
を確認した。
を確認した。
実施例3
コ、コービス<3.S−、Sメチルフェニル〕フロパン
へstg、s、t−ジフェニルフェノールio、zgの
ベンゼン溶液にトリエチルアミン15M酢酸銅o、i
pのベンゼン溶液を加え酸素下で激しく攪拌し、約30
分反応させる。反応終了後反応混液を塩酸酸性メタノー
ルに注ぎ、?、θり9白色粉末を得る。(収率t3tl
b)H−NMR7,Oppm(フェニル)、八g pp
m (プロパン〕よシ構造を確認した。
へstg、s、t−ジフェニルフェノールio、zgの
ベンゼン溶液にトリエチルアミン15M酢酸銅o、i
pのベンゼン溶液を加え酸素下で激しく攪拌し、約30
分反応させる。反応終了後反応混液を塩酸酸性メタノー
ルに注ぎ、?、θり9白色粉末を得る。(収率t3tl
b)H−NMR7,Oppm(フェニル)、八g pp
m (プロパン〕よシ構造を確認した。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
ほか1名
Claims (1)
- (1)一般式(11で示されるポリフェニレンオキサイ
ド 〔式中、 R1%R1はアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基を示し%R1%R4、H*、R・は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基を示し、 R1〜?は同一で
あってもよい。m%nは3≦m十n1である。〕 を製造するに際し、一般式(II)で示されるビスフェ
ノール類 〔式中、R8%R4、R5、R@は、一般式(I)にお
けると同義。〕 の存在下、一般式lで示されるコ、6−ジ置換フェノー
ル 1 〔式中、R1、R1は、一般式(11におけると同色〕
を金属錯体触媒によ多重合させることを特徴とするポリ
フェニレンオキサイドの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8550484A JPS60229923A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | ポリフエニレンオキサイドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8550484A JPS60229923A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | ポリフエニレンオキサイドの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60229923A true JPS60229923A (ja) | 1985-11-15 |
Family
ID=13860759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8550484A Pending JPS60229923A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | ポリフエニレンオキサイドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60229923A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7276563B2 (en) * | 2002-01-28 | 2007-10-02 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyphenylene ether oligomer compound, derivatives thereof and use thereof |
| WO2008012946A1 (en) | 2006-07-27 | 2008-01-31 | Techno Polymer Co., Ltd. | Thermoplastic polymer composition and molded article |
| JP2020059851A (ja) * | 2018-10-08 | 2020-04-16 | サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ | ポリ(アリーレンエーテル)コポリマー |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4959154A (ja) * | 1972-10-07 | 1974-06-08 | ||
| JPS4969797A (ja) * | 1972-10-06 | 1974-07-05 | ||
| JPS59168029A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-21 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 二官能性ポリフエニレンオキシドの製法 |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP8550484A patent/JPS60229923A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4969797A (ja) * | 1972-10-06 | 1974-07-05 | ||
| JPS4959154A (ja) * | 1972-10-07 | 1974-06-08 | ||
| JPS59168029A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-21 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 二官能性ポリフエニレンオキシドの製法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7276563B2 (en) * | 2002-01-28 | 2007-10-02 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyphenylene ether oligomer compound, derivatives thereof and use thereof |
| US7393904B2 (en) | 2002-01-28 | 2008-07-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | (Meth)acrylate-terminated polyphenylene ether |
| US7560518B2 (en) | 2002-01-28 | 2009-07-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | (Meth)acrylated epoxy-terminated polyphenylene ether |
| US7632912B2 (en) | 2002-01-28 | 2009-12-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Carboxylic acid-modified bisphenol epoxy di(meth)acrylate |
| US7786219B2 (en) | 2002-01-28 | 2010-08-31 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Cyanate-terminated polyphenylene ether |
| WO2008012946A1 (en) | 2006-07-27 | 2008-01-31 | Techno Polymer Co., Ltd. | Thermoplastic polymer composition and molded article |
| JP2020059851A (ja) * | 2018-10-08 | 2020-04-16 | サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ | ポリ(アリーレンエーテル)コポリマー |
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