JPS60230118A - 記憶容量内蔵型液晶表示装置 - Google Patents
記憶容量内蔵型液晶表示装置Info
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- JPS60230118A JPS60230118A JP59085772A JP8577284A JPS60230118A JP S60230118 A JPS60230118 A JP S60230118A JP 59085772 A JP59085772 A JP 59085772A JP 8577284 A JP8577284 A JP 8577284A JP S60230118 A JPS60230118 A JP S60230118A
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- Japan
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- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136213—Storage capacitors associated with the pixel electrode
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画素毎に選択用トラ/ジメタ及び記憶容量を有
するマトリクス型液晶画像表示装置において前記記憶容
量を画素の開口率を極端に減らすことなく作り込む方法
に関する。
するマトリクス型液晶画像表示装置において前記記憶容
量を画素の開口率を極端に減らすことなく作り込む方法
に関する。
薄N’e用いたトランジスタアレイによる液晶表示装R
において各画素の画素選択トランジスタをONして書き
込んだ画像信号を、前記トラ7ジスタをONF’?させ
た後、次周期で新たな画像信号が書き込まnるまで保持
しておく必要がある。この際画素とコモン電位あるいは
グランド電位の間に充分愈記憶容量がないと、前記画像
信号を保持しているだけの能力がなく、画像における白
黒のコントラスト比が悪くなる等の不具合を生じる。
において各画素の画素選択トランジスタをONして書き
込んだ画像信号を、前記トラ7ジスタをONF’?させ
た後、次周期で新たな画像信号が書き込まnるまで保持
しておく必要がある。この際画素とコモン電位あるいは
グランド電位の間に充分愈記憶容量がないと、前記画像
信号を保持しているだけの能力がなく、画像における白
黒のコントラスト比が悪くなる等の不具合を生じる。
このため実際マトリクス型液晶表示装置を作る時は画素
とコモン電位もしくはグランド電4の間に数百7Fから
数pFの記憶容量を作り込むのが一般的である。
とコモン電位もしくはグランド電4の間に数百7Fから
数pFの記憶容量を作り込むのが一般的である。
第1図に示されるのは、従来の、画素とコモン電極間に
作った記憶容量を内蔵した液晶表示装置の画素部の平面
図で、第2図は同じくその断面図である。絶縁基板1の
上にコそン電極用透明導電膜2(例えば工TO膜ンを選
択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に見合った厚さ
の絶縁膜8(例えば酸化ケイ素〕を全面に堆積し、その
上に画素電極用透明導電膜4(例えば工TO膜)を新た
に堆積させ記憶容量を形成した後、トランジスタ素子部
6を順次形成する。この様な構造の液晶表示装置では透
明導電膜が2層S造となるため、工程が複雑で歩留り低
下の原因上なってしまう上に画素部の透過率は減少して
全体に暗い画面となってしまう、加えてコモン電極の配
線が必要で該コモン電極の配線及び交差する他の配線(
例えにゲートライン)の断線が生じる可能性が高い。
作った記憶容量を内蔵した液晶表示装置の画素部の平面
図で、第2図は同じくその断面図である。絶縁基板1の
上にコそン電極用透明導電膜2(例えば工TO膜ンを選
択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に見合った厚さ
の絶縁膜8(例えば酸化ケイ素〕を全面に堆積し、その
上に画素電極用透明導電膜4(例えば工TO膜)を新た
に堆積させ記憶容量を形成した後、トランジスタ素子部
6を順次形成する。この様な構造の液晶表示装置では透
明導電膜が2層S造となるため、工程が複雑で歩留り低
下の原因上なってしまう上に画素部の透過率は減少して
全体に暗い画面となってしまう、加えてコモン電極の配
線が必要で該コモン電極の配線及び交差する他の配線(
例えにゲートライン)の断線が生じる可能性が高い。
本発明は、とわらの欠点を除去するため、かつ開口寓を
極端に減らすことなく記憶容量を比較的簡単な製造工程
で内蔵することが可能な構造の液晶表示装置を提供する
ことを目的とする。
極端に減らすことなく記憶容量を比較的簡単な製造工程
で内蔵することが可能な構造の液晶表示装置を提供する
ことを目的とする。
以下図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する第8
図は本発明の一実施例を示す液晶表示装置の画素部の平
面図で、第4図は同じくその断面図である絶縁基板1°
の上に画素電極用透明導電膜4(例えば工’I’O膜)
′t−選択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に相当
する厚さの絶縁膜8(例えば酸化ケ゛イ素)t−全面に
堆積し、その上にゲートラインのバターニングと同時に
選択的に対向電極9を形成して記憶容量が作り込まれる
、その後トランジスタ素子部6を順次形成して行くのは
第2図の過程と同様である。画素部のみ見てみると、こ
の様にして形成された液晶表示装置において、記憶容量
は一画素の画素電極4と前段のゲート(画素の駆動時に
はグランド電位になっている)との間に形成さnている
ことになる。
図は本発明の一実施例を示す液晶表示装置の画素部の平
面図で、第4図は同じくその断面図である絶縁基板1°
の上に画素電極用透明導電膜4(例えば工’I’O膜)
′t−選択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に相当
する厚さの絶縁膜8(例えば酸化ケ゛イ素)t−全面に
堆積し、その上にゲートラインのバターニングと同時に
選択的に対向電極9を形成して記憶容量が作り込まれる
、その後トランジスタ素子部6を順次形成して行くのは
第2図の過程と同様である。画素部のみ見てみると、こ
の様にして形成された液晶表示装置において、記憶容量
は一画素の画素電極4と前段のゲート(画素の駆動時に
はグランド電位になっている)との間に形成さnている
ことになる。
この様な構造の液晶表示装置ではコモン電極を配線する
必要がなく、かつ透明電極の多層構造を用いないため、
工程が比較的複雑にならず系全体としての歩留りも高く
、加えて透過率の低下等の不具合も生じない、しかしな
がら記憶容量の形成さnた部分は光を透過せず開口率は
低下してしまう、このため前段のゲートと接続さlrL
九対向電極9と画素電極4のオーバラップは必要最少限
に押さえる必要がある。
必要がなく、かつ透明電極の多層構造を用いないため、
工程が比較的複雑にならず系全体としての歩留りも高く
、加えて透過率の低下等の不具合も生じない、しかしな
がら記憶容量の形成さnた部分は光を透過せず開口率は
低下してしまう、このため前段のゲートと接続さlrL
九対向電極9と画素電極4のオーバラップは必要最少限
に押さえる必要がある。
また第5図は本発明の他の実施例を示す液晶表示装置の
画素部の平面図で、第6図は同じくその断面図である。
画素部の平面図で、第6図は同じくその断面図である。
絶縁基板1の上面素電極用透明導電膜・4(例えば工T
O膜ンを選択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に見
合つ九厚さの絶縁膜8(例えば酸化ケイ素)を全面に堆
積し、その上に選択的にゲート7及び10を形成するこ
の時前記画素電極4の一部と前段のゲート10はゲート
ライン上でオーバラップしており最終的にこの部分を記
憶容量として用いる、この後トランジスタ素子6を順次
形成して行くのは第4図の過程と同様である。
O膜ンを選択的に堆積させた後、記憶容量の容量値に見
合つ九厚さの絶縁膜8(例えば酸化ケイ素)を全面に堆
積し、その上に選択的にゲート7及び10を形成するこ
の時前記画素電極4の一部と前段のゲート10はゲート
ライン上でオーバラップしており最終的にこの部分を記
憶容量として用いる、この後トランジスタ素子6を順次
形成して行くのは第4図の過程と同様である。
この様な構造の液晶表示装置では第8図及び第4図に表
わさnるところの液晶表示装置と同様の利点を備えてい
ることに加えて、ライン上に記憶容量を形成するため開
口率の犠牲が比較的少なく。
わさnるところの液晶表示装置と同様の利点を備えてい
ることに加えて、ライン上に記憶容量を形成するため開
口率の犠牲が比較的少なく。
系全体を見ると、明るく良好な液晶表示装置を与えるも
のである。
のである。
以上のごと〈本溌明によtば、開口″4を極端に減少さ
せることなく記憶容量を比較的簡単な製造工程において
内蔵可能な液晶表示装置を提供することができる。
せることなく記憶容量を比較的簡単な製造工程において
内蔵可能な液晶表示装置を提供することができる。
第1図は1従来の記憶容量内蔵型の液晶表示装置におけ
る画素部の平面図で、第2図は同様にその断面図である
。第8図は本発明の一実施例における記憶容量内蔵型の
液晶表示装置の画素部の平面図で、第4図は同様にその
断面図で、tた第5図は本発明の他の実施例における記
憶容量内y1.型の液晶表示装置の画素部の平面図で、
第6図は同様にその断面図である。 11.絶縁基板 20.コモン電極用透明導電膜 80.記憶容量用絶縁膜 400画素電極用透明導電膜 50.ゲート絶縁膜 61.トランジスタ素子 70.ゲートライン 8、、ドレインバス 91.記憶容量用対向電極 100.前段のゲートライン 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社
る画素部の平面図で、第2図は同様にその断面図である
。第8図は本発明の一実施例における記憶容量内蔵型の
液晶表示装置の画素部の平面図で、第4図は同様にその
断面図で、tた第5図は本発明の他の実施例における記
憶容量内y1.型の液晶表示装置の画素部の平面図で、
第6図は同様にその断面図である。 11.絶縁基板 20.コモン電極用透明導電膜 80.記憶容量用絶縁膜 400画素電極用透明導電膜 50.ゲート絶縁膜 61.トランジスタ素子 70.ゲートライン 8、、ドレインバス 91.記憶容量用対向電極 100.前段のゲートライン 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社
Claims (2)
- (1)絶縁基板上に、選択的に形成された画素電極とそ
の上に全面堆積した絶縁膜とその上に選択的に形成さn
た前段のゲート領域からなる記憶容量を内蔵したことを
特徴とする記憶容量内蔵型液晶表示装置。 - (2)前記記憶容量がゲート領域のライ/下に作り込ま
nていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
記憶容量内蔵型液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59085772A JPS60230118A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 記憶容量内蔵型液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59085772A JPS60230118A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 記憶容量内蔵型液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60230118A true JPS60230118A (ja) | 1985-11-15 |
Family
ID=13868163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59085772A Pending JPS60230118A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 記憶容量内蔵型液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60230118A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63210823A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-01 | Toshiba Corp | アクテイブマトリツクス型液晶表示素子 |
| JPH01217325A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-08-30 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| US5162901A (en) * | 1989-05-26 | 1992-11-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active-matrix display device with added capacitance electrode wire and secondary wire connected thereto |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437697A (en) * | 1977-08-30 | 1979-03-20 | Sharp Corp | Liquid crystal display unit of matrix type |
| JPS5677886A (en) * | 1979-11-30 | 1981-06-26 | Citizen Watch Co Ltd | Liquid crystal display unit |
| JPS59119322A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP59085772A patent/JPS60230118A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437697A (en) * | 1977-08-30 | 1979-03-20 | Sharp Corp | Liquid crystal display unit of matrix type |
| JPS5677886A (en) * | 1979-11-30 | 1981-06-26 | Citizen Watch Co Ltd | Liquid crystal display unit |
| JPS59119322A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63210823A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-01 | Toshiba Corp | アクテイブマトリツクス型液晶表示素子 |
| JPH01217325A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-08-30 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| US5162901A (en) * | 1989-05-26 | 1992-11-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active-matrix display device with added capacitance electrode wire and secondary wire connected thereto |
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