JPS60230658A - プリント配線用基板の感光液塗布装置 - Google Patents
プリント配線用基板の感光液塗布装置Info
- Publication number
- JPS60230658A JPS60230658A JP8715584A JP8715584A JPS60230658A JP S60230658 A JPS60230658 A JP S60230658A JP 8715584 A JP8715584 A JP 8715584A JP 8715584 A JP8715584 A JP 8715584A JP S60230658 A JPS60230658 A JP S60230658A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- base
- fluid
- coating
- roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title abstract 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical group OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0091—Apparatus for coating printed circuits using liquid non-metallic coating compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プリント配線板の感光液塗布装置に係り、特
に基板表裏の導電層をこの基板のスルーホール導電層で
接続し、基板の表裏の平面部及びスルーホール壁部に感
光層を形成した後選択露光及びエツチングをして回路パ
ターンを形成するスルーホールプリント配線板製造工程
において、上記スルーホール壁部に感光液が簡単にかつ
良く塗布されるようにその塗布装置を改善したものに関
する。
に基板表裏の導電層をこの基板のスルーホール導電層で
接続し、基板の表裏の平面部及びスルーホール壁部に感
光層を形成した後選択露光及びエツチングをして回路パ
ターンを形成するスルーホールプリント配線板製造工程
において、上記スルーホール壁部に感光液が簡単にかつ
良く塗布されるようにその塗布装置を改善したものに関
する。
両面に銅箔を張った積層板のそれぞれの面に回路パター
ンを形成し、これらの回路パターンを積層板に穴をあけ
てこの穴の壁面を導電層で被覆することにより導通させ
た、いわゆる両面回路形のスルーホールプリント配線板
に電気部品をはんだ付けして搭載することが行なわれて
いる。このスルーホールプリント配線板はその配線密度
を高めることができるため小型化が可能で各種の電気機
器、特にコンピュータを中心にした電気部品装着用に広
く使用されている。
ンを形成し、これらの回路パターンを積層板に穴をあけ
てこの穴の壁面を導電層で被覆することにより導通させ
た、いわゆる両面回路形のスルーホールプリント配線板
に電気部品をはんだ付けして搭載することが行なわれて
いる。このスルーホールプリント配線板はその配線密度
を高めることができるため小型化が可能で各種の電気機
器、特にコンピュータを中心にした電気部品装着用に広
く使用されている。
このスルーホールプリント配線板を製造するに当たって
は、積層板の両面銅箔に回路パターンを形成する際、銅
箔を回路にしたがって選択的にエツチングすることが行
なわれるが、このエツチング液によりスルーホールがお
かされないようにすることが必要である。このスルーホ
ール導電層を保護しながら回路パターンを形成するスル
ーホールプリント配線板を製造するには、従来つぎの4
つのものが知られている。
は、積層板の両面銅箔に回路パターンを形成する際、銅
箔を回路にしたがって選択的にエツチングすることが行
なわれるが、このエツチング液によりスルーホールがお
かされないようにすることが必要である。このスルーホ
ール導電層を保護しながら回路パターンを形成するスル
ーホールプリント配線板を製造するには、従来つぎの4
つのものが知られている。
(1)第1図に示すように、■両面銅張″り積層板aに
■ドリルでスルーホールbをあけ、ついで■無電解銅メ
ッキ層Cを形成し、さらに■このメッキ層を厚くするた
めに電解銅メッキ層dを積層する。
■ドリルでスルーホールbをあけ、ついで■無電解銅メ
ッキ層Cを形成し、さらに■このメッキ層を厚くするた
めに電解銅メッキ層dを積層する。
この後■スルーホールbに光硬化形又は熱硬化形インキ
eを充填し、これを硬化させる。さらに平面部に付着し
たインキを研磨除去する。このようにしてスルーホール
を保護してから■両面銅箔部に所望の回路にしたがって
エツチングレジストfを塗布し、ついで■露出している
銅層をエツチングして除去し7、最後に■塗布したエツ
チングレジストf及びスルーホールbに充填したインキ
eを除去して積層板の両面の回路をスルーホールで接続
したプリント配線板ができあがる。
eを充填し、これを硬化させる。さらに平面部に付着し
たインキを研磨除去する。このようにしてスルーホール
を保護してから■両面銅箔部に所望の回路にしたがって
エツチングレジストfを塗布し、ついで■露出している
銅層をエツチングして除去し7、最後に■塗布したエツ
チングレジストf及びスルーホールbに充填したインキ
eを除去して積層板の両面の回路をスルーホールで接続
したプリント配線板ができあがる。
しかしこの方法は、スルーホールにインキを充填し硬化
させるので、このインキに光硬化形のものを用いると、
硬化速度は速くて生産性は良いが、光がインキ層の内部
深くまで到達しないのでこの内部のインキに硬化不良が
生じることがある。この硬化が不十分であると上記回路
を形成するエツチング液にインキがおかされ、これによ
りインキが脱落してスルーホール内壁のメッキ層がエツ
チング液におかされて回路を導通する機能を損なうこと
がある。また熱硬化形インキを用いるときは、その乾燥
条件が100〜150℃、30〜60分になるので、時
間がかかり、生産性が非常に悪い。しかも、インキに含
まれる溶剤がその乾燥の過程で揮発する際にその表面が
内側にへこみ、このためスルーホールエツジ部のメッキ
層が露出し、上記回路形成時のエツチング時にこの露出
した部分がおかされ、損傷されることが多い。このイン
キ層のへこみをなくすために熱発泡性のインキを使用す
ることも考えられるが、インキ層に発生した気泡がスル
ーホールメッキ層のところ、特にそのエツジで生じたと
きは上記と同様にエツジ部の信頼性が害されることがあ
る。
させるので、このインキに光硬化形のものを用いると、
硬化速度は速くて生産性は良いが、光がインキ層の内部
深くまで到達しないのでこの内部のインキに硬化不良が
生じることがある。この硬化が不十分であると上記回路
を形成するエツチング液にインキがおかされ、これによ
りインキが脱落してスルーホール内壁のメッキ層がエツ
チング液におかされて回路を導通する機能を損なうこと
がある。また熱硬化形インキを用いるときは、その乾燥
条件が100〜150℃、30〜60分になるので、時
間がかかり、生産性が非常に悪い。しかも、インキに含
まれる溶剤がその乾燥の過程で揮発する際にその表面が
内側にへこみ、このためスルーホールエツジ部のメッキ
層が露出し、上記回路形成時のエツチング時にこの露出
した部分がおかされ、損傷されることが多い。このイン
キ層のへこみをなくすために熱発泡性のインキを使用す
ることも考えられるが、インキ層に発生した気泡がスル
ーホールメッキ層のところ、特にそのエツジで生じたと
きは上記と同様にエツジ部の信頼性が害されることがあ
る。
(2)第2図に示すように、■〜■を第1図と同様に行
った後、■透明フィルムに感光層をサイドイツチしたド
ライフィルムgを表裏両面にスルーホールbの開口部を
閉塞するようにして密着させ、ついで0回路を描いたマ
スクをこのドライフィルムgにあてがって露光し、回路
部分及びスルーホール5周辺部のはんだ付はランドの感
光層を硬化させる。つぎに感光層の未硬化部分を現像液
で除去し、■この除去された跡の露出したメッキ層をエ
ツチングし、■最後に硬化したドライフィルムgを除去
して所望の回路を形成する。
った後、■透明フィルムに感光層をサイドイツチしたド
ライフィルムgを表裏両面にスルーホールbの開口部を
閉塞するようにして密着させ、ついで0回路を描いたマ
スクをこのドライフィルムgにあてがって露光し、回路
部分及びスルーホール5周辺部のはんだ付はランドの感
光層を硬化させる。つぎに感光層の未硬化部分を現像液
で除去し、■この除去された跡の露出したメッキ層をエ
ツチングし、■最後に硬化したドライフィルムgを除去
して所望の回路を形成する。
この方法は、感光性ドライフィルムによってスルーホー
ルメッキ層の保護と回路パターン形成が同時に行なえる
ため第1図のものに比ベニ程が簡略化されているが、感
光性ドライフィルムを使用するためコスト高になる欠点
がある。しかも、スルーホール開口部周辺のはんだ付は
ランドの面積が小さい場合や、スルーボールの径が大き
い場合には上記回路形成時にエツチング液がしみこみ、
このエツチング液がスルーホールに侵入してスルホール
メッキ層をおかすことがある。
ルメッキ層の保護と回路パターン形成が同時に行なえる
ため第1図のものに比ベニ程が簡略化されているが、感
光性ドライフィルムを使用するためコスト高になる欠点
がある。しかも、スルーホール開口部周辺のはんだ付は
ランドの面積が小さい場合や、スルーボールの径が大き
い場合には上記回路形成時にエツチング液がしみこみ、
このエツチング液がスルーホールに侵入してスルホール
メッキ層をおかすことがある。
(3)第3図に示すように、■〜■は第1図の場合と同
様に行ない、■メンキレジストhを回路形成部分及びス
ルーホール5周辺のはんだ付はランド部分を除いた部分
に塗布し、ついで■電解銅メッキ層dを形成し、■メン
キレジストhの被覆されていない銅メッキ屡の露出して
いる部分に電解はんだメッキ層iを形成する。ついで、
■メンキレジストhを除去して■このレジストを除去し
た跡をエツチングし、図示処理したが最後にはんだメッ
キ層iを除去して所望の回路を形成する。
様に行ない、■メンキレジストhを回路形成部分及びス
ルーホール5周辺のはんだ付はランド部分を除いた部分
に塗布し、ついで■電解銅メッキ層dを形成し、■メン
キレジストhの被覆されていない銅メッキ屡の露出して
いる部分に電解はんだメッキ層iを形成する。ついで、
■メンキレジストhを除去して■このレジストを除去し
た跡をエツチングし、図示処理したが最後にはんだメッ
キ層iを除去して所望の回路を形成する。
この方法は電解はんだメッキを行ない、後にこのはんだ
メンキを除去しなければならない等工程が複雑で生産性
が悪い。
メンキを除去しなければならない等工程が複雑で生産性
が悪い。
(4)図示省略したが、第1図の■〜■を行なった後、
感光液を基板の平面部及びスルーホール内壁部に塗布し
て感光層を形成し、この感光層を第2図の■〜■の場合
と同様に選択露光してエツチングを行ない、さらに感光
層を除去する。
感光液を基板の平面部及びスルーホール内壁部に塗布し
て感光層を形成し、この感光層を第2図の■〜■の場合
と同様に選択露光してエツチングを行ない、さらに感光
層を除去する。
この方法は、第2図の場合の感光性ドライフィルムのよ
うに高価なものを使用せずコストを低減できるとともに
、このドライフィルムの厚さが50〜700μであるの
に対して感光層の厚さはその塗膜にピンホール等が生じ
ていなければ2〜1′0μにするごとかできるので露光
時の解像性に僚れるという特長を有する。しかしながら
、感光液を例えば100 xtoo mmの比較的小さ
い基板に塗布する場合はあまり問題はないが、これより
大きい基板、ソリがある基板あるいは表面に研磨傷等の
凹凸や汚れがある基板に感光液を塗布する場合にはピン
ホールが生じ易く、このピンホールを生じないで均一な
塗膜を得ることば容易ではない。また、スルーホール内
壁部に塗布することはさらに容易ではない。例えばロー
ルコータで感光液をスルーホール内壁に塗布するように
しても塗布もれの部分を無くすことは難しく、その信頼
性が十分には確保されない。そのため、特開昭58−1
00493号公報、同58−100494号公報に記載
されているように、ロールコータでまずスルーホール中
に感光液(耐酸性樹脂)を充填することと平面部に感光
液を塗布することを行なった後、感光液の乾燥を行ない
、ついで平面部に付着した感光層を研磨除去してこの平
面部を清浄にした後、再度平面部に感光液を塗布する方
法も提案されている。また、特開昭58−100495
号公報には、上記の基板の表裏面にイ」着した耐酸性樹
脂の乾燥を行なってこれを除去することなく再度両面ロ
ールコークにより感光液を塗布・乾燥させる方法も記載
されている。しかし、前者の例は作業工程が複雑で生産
性が悪く、また後者の例は感光液を1回だけ塗布するの
は膜厚を10μ以上にすることができないためビンボー
ルが生じ易く、そのため最初ロールで塗布した塗布膜の
乾燥を行なってこの上に2回目のロールによる重ね塗り
を行ない、これにより塗膜を厚(してピンホール等の発
生を防止する必要があるためこれもまた生産性が悪いも
のであった。
うに高価なものを使用せずコストを低減できるとともに
、このドライフィルムの厚さが50〜700μであるの
に対して感光層の厚さはその塗膜にピンホール等が生じ
ていなければ2〜1′0μにするごとかできるので露光
時の解像性に僚れるという特長を有する。しかしながら
、感光液を例えば100 xtoo mmの比較的小さ
い基板に塗布する場合はあまり問題はないが、これより
大きい基板、ソリがある基板あるいは表面に研磨傷等の
凹凸や汚れがある基板に感光液を塗布する場合にはピン
ホールが生じ易く、このピンホールを生じないで均一な
塗膜を得ることば容易ではない。また、スルーホール内
壁部に塗布することはさらに容易ではない。例えばロー
ルコータで感光液をスルーホール内壁に塗布するように
しても塗布もれの部分を無くすことは難しく、その信頼
性が十分には確保されない。そのため、特開昭58−1
00493号公報、同58−100494号公報に記載
されているように、ロールコータでまずスルーホール中
に感光液(耐酸性樹脂)を充填することと平面部に感光
液を塗布することを行なった後、感光液の乾燥を行ない
、ついで平面部に付着した感光層を研磨除去してこの平
面部を清浄にした後、再度平面部に感光液を塗布する方
法も提案されている。また、特開昭58−100495
号公報には、上記の基板の表裏面にイ」着した耐酸性樹
脂の乾燥を行なってこれを除去することなく再度両面ロ
ールコークにより感光液を塗布・乾燥させる方法も記載
されている。しかし、前者の例は作業工程が複雑で生産
性が悪く、また後者の例は感光液を1回だけ塗布するの
は膜厚を10μ以上にすることができないためビンボー
ルが生じ易く、そのため最初ロールで塗布した塗布膜の
乾燥を行なってこの上に2回目のロールによる重ね塗り
を行ない、これにより塗膜を厚(してピンホール等の発
生を防止する必要があるためこれもまた生産性が悪いも
のであった。
本発明は、以上のように、従来の方法は基板が大きかっ
たり、基板にソリや凹凸があるような場合にはピンホー
ルのない均一な感光塗膜の形成が容易でなく、また、ス
ルーホール壁g1Hに感光液を漏れなく塗布することも
さらに困難であって信頼性の高い感光塗膜が得られ難く
、この欠点を改善しようとした方法も工程が複雑であっ
たり、コスト高になる等の問題点を改善するために、感
光液を基板に塗布するロールに連続又は不連続の凹部を
形成し、これによりこの四部に感光液を保持さセテこの
保持した感光液を基板のスルーホール壁部等に塗布して
簡単な装置で信頼性の高い保護膜を形成できるようにし
たプリント配線用基板の感光液塗布装置を提供するもの
である。
たり、基板にソリや凹凸があるような場合にはピンホー
ルのない均一な感光塗膜の形成が容易でなく、また、ス
ルーホール壁g1Hに感光液を漏れなく塗布することも
さらに困難であって信頼性の高い感光塗膜が得られ難く
、この欠点を改善しようとした方法も工程が複雑であっ
たり、コスト高になる等の問題点を改善するために、感
光液を基板に塗布するロールに連続又は不連続の凹部を
形成し、これによりこの四部に感光液を保持さセテこの
保持した感光液を基板のスルーホール壁部等に塗布して
簡単な装置で信頼性の高い保護膜を形成できるようにし
たプリント配線用基板の感光液塗布装置を提供するもの
である。
次に本発明の一実施例を第2図を参照しつつ第4図及び
第5図に基づいて説明する。
第5図に基づいて説明する。
第4図は本発明のプリント配線板用基板の感光液塗布装
置の全体図であって、この塗布装置は第1塗布パート八
と第2塗布バートBからなり、それぞれは換気可能の密
閉室に収容されている。
置の全体図であって、この塗布装置は第1塗布パート八
と第2塗布バートBからなり、それぞれは換気可能の密
閉室に収容されている。
■は基板(第2図■の状!3)搬送用のコンベアーであ
って、上記各塗布パー)A、Bを貫通して設けられてい
る。第1塗布バー)Aは第4図に示すようにコンヘアー
1の上下に基板に感光液を塗布する第5図に示すような
ロールコータ2.3が設ケラレ、ロールコータ2はロー
ル2aと2b、ロールコータ3はロール3aと3bから
構成されている。そしてこれらの基板に接触する側のロ
ーラ2b、3bは可撓性の例えばゴム、プラスチック等
から構成され、第6図に示すようにその周面には幅0.
1〜31am、好ましくは0.5 mmの溝4がその間
隔0.1〜5 mm、好ましくは0.5 mmをおいて
中央に対して左右対称に甥旋状に設けられている。
って、上記各塗布パー)A、Bを貫通して設けられてい
る。第1塗布バー)Aは第4図に示すようにコンヘアー
1の上下に基板に感光液を塗布する第5図に示すような
ロールコータ2.3が設ケラレ、ロールコータ2はロー
ル2aと2b、ロールコータ3はロール3aと3bから
構成されている。そしてこれらの基板に接触する側のロ
ーラ2b、3bは可撓性の例えばゴム、プラスチック等
から構成され、第6図に示すようにその周面には幅0.
1〜31am、好ましくは0.5 mmの溝4がその間
隔0.1〜5 mm、好ましくは0.5 mmをおいて
中央に対して左右対称に甥旋状に設けられている。
上記各対のロール2aと2b、3aと3bの間には図示
省略したパイプにより第5図に示すように感光液が供給
され、この感光液が2つのロールの間で絞られてそれぞ
れのロール2b、 3bに均一に付着される。第4図に
示すようにロール2aと2b、ロール3aと3bの各組
にはこれらの隙間を調整する調整器2c、3cが設けら
れそれぞれロール2b、3bに対する感光液の付着量が
調整される。なお2d、3dは漏れた感光液の受け容器
である。
省略したパイプにより第5図に示すように感光液が供給
され、この感光液が2つのロールの間で絞られてそれぞ
れのロール2b、 3bに均一に付着される。第4図に
示すようにロール2aと2b、ロール3aと3bの各組
にはこれらの隙間を調整する調整器2c、3cが設けら
れそれぞれロール2b、3bに対する感光液の付着量が
調整される。なお2d、3dは漏れた感光液の受け容器
である。
また、第1塗布パートへの上記ロールコータ2.3の直
後には基板に塗布された感光液層の厚さを調整できる起
伏自在の除去ブラシ5.6がそれぞれ設けられている。
後には基板に塗布された感光液層の厚さを調整できる起
伏自在の除去ブラシ5.6がそれぞれ設けられている。
この除去ブラシは図示省略した硬度30〜100の除去
ゴムでもよい。
ゴムでもよい。
また、上記除去ブラシ5.6 (又は除去ゴム)の後方
には高圧空気吹き出し器7.8がコンベアー1の上下に
配設され、基板に高圧空気が吹きつけられるようになっ
ている。
には高圧空気吹き出し器7.8がコンベアー1の上下に
配設され、基板に高圧空気が吹きつけられるようになっ
ている。
上記第2塗布パー)Bは、上記第1塗布パート八と同様
にコンベヤー1の上下に設けられたロールコータ9.1
0を有し、ロールコータ9は一対のロール9aと9b、
ロールコータ10は一対のロール10aと10bからそ
れぞれ構成されている。そしてこれらの基板に接触する
例のロール9b、10bは上記ロールと同様に各ロール
9aと9b、10aと10bの隙間を調整する調整器9
c、10c及び各ロールコータ毎に受け容器9d、10
dがそれぞれ設けられている。
にコンベヤー1の上下に設けられたロールコータ9.1
0を有し、ロールコータ9は一対のロール9aと9b、
ロールコータ10は一対のロール10aと10bからそ
れぞれ構成されている。そしてこれらの基板に接触する
例のロール9b、10bは上記ロールと同様に各ロール
9aと9b、10aと10bの隙間を調整する調整器9
c、10c及び各ロールコータ毎に受け容器9d、10
dがそれぞれ設けられている。
次に本実施例の作用を説明する。
予め第1塗布パートへのロールコータ2.3及び第2塗
布パートBのロールコータ9.10に感光液を供給して
これらロールコークを作動させておく。この状態で第2
図■〜■の工程を経た基板が第4図のコンベアー1によ
り第1塗布パート八に搬入されると、上記基板の表裏に
ロールコータ2のロール2b、ロールコータ3のロール
3bが接触シ感光液を基板に塗布する。この際、各ロー
ルコータに供給された感光液はそれぞれのロール2b、
3bの溝4に保持され、この保持された感光液はそれぞ
れのロール2b、3bが基板に弾性変形して接触すると
き押し出されて基板の平面部及びスルーホールに塗布及
び充填される。一方基板に塗布された感光液はコンヘア
ー1により搬送されて除去ブラシ5.6 (又は除去ゴ
ム)によりその起伏角度に応じた塗布量に調整されてそ
の厚さが均一化される。そしてこのように感光液層を形
成された基板は高圧空気吹き出し器7.8により下及び
上から高圧空気を吹きつけられ、これによりスルーポー
ルに充填された感光液がその壁部に付着したちのトBに
搬送される。
布パートBのロールコータ9.10に感光液を供給して
これらロールコークを作動させておく。この状態で第2
図■〜■の工程を経た基板が第4図のコンベアー1によ
り第1塗布パート八に搬入されると、上記基板の表裏に
ロールコータ2のロール2b、ロールコータ3のロール
3bが接触シ感光液を基板に塗布する。この際、各ロー
ルコータに供給された感光液はそれぞれのロール2b、
3bの溝4に保持され、この保持された感光液はそれぞ
れのロール2b、3bが基板に弾性変形して接触すると
き押し出されて基板の平面部及びスルーホールに塗布及
び充填される。一方基板に塗布された感光液はコンヘア
ー1により搬送されて除去ブラシ5.6 (又は除去ゴ
ム)によりその起伏角度に応じた塗布量に調整されてそ
の厚さが均一化される。そしてこのように感光液層を形
成された基板は高圧空気吹き出し器7.8により下及び
上から高圧空気を吹きつけられ、これによりスルーポー
ルに充填された感光液がその壁部に付着したちのトBに
搬送される。
第2塗布パートBでは、ロールコータ9、lOは各乎f
?−溝のあるロール9aと9b、10a と10bから
構成され7それぞれ基板に接触する側のローラ9b、1
0bには均一厚さの感光液が付着され、これが基板の上
記第1パー1−Aで塗布形成された感光液層に再度塗布
されてその塗布液層のさらに均一化が行なわれる。この
ような$2塗布パートBの溝のあるロールは基板のスル
ーホール壁部に感光液を塗布するためのものでなく、基
板のソリ、riIF磨面の凹凸あるいは汚れの影響をな
(すために必要であり、一般には第1塗布パートへのロ
ールより溝は浅く、幅は狭いものが使用される。
?−溝のあるロール9aと9b、10a と10bから
構成され7それぞれ基板に接触する側のローラ9b、1
0bには均一厚さの感光液が付着され、これが基板の上
記第1パー1−Aで塗布形成された感光液層に再度塗布
されてその塗布液層のさらに均一化が行なわれる。この
ような$2塗布パートBの溝のあるロールは基板のスル
ーホール壁部に感光液を塗布するためのものでなく、基
板のソリ、riIF磨面の凹凸あるいは汚れの影響をな
(すために必要であり、一般には第1塗布パートへのロ
ールより溝は浅く、幅は狭いものが使用される。
このようにして均一厚さの感光液塗布層を形成された基
板は図示省略した乾燥装置により乾燥されて基板の平面
部及びスルーホール壁部導電性層に感光層を形成したプ
リント配線用基板が出来上がる。
板は図示省略した乾燥装置により乾燥されて基板の平面
部及びスルーホール壁部導電性層に感光層を形成したプ
リント配線用基板が出来上がる。
なお、感光液としては例えば
エチルセロソルブアセテート80重量部塩化ゴム 20
i量部 ベンゾフェノン 2重量部 メチルバイオレット 0.1重量部 ミヒラーズケトン 0.3重量部 トリメチロールプロパン トリアクリレート 5重量部 の組成のものが使用できる。
i量部 ベンゾフェノン 2重量部 メチルバイオレット 0.1重量部 ミヒラーズケトン 0.3重量部 トリメチロールプロパン トリアクリレート 5重量部 の組成のものが使用できる。
上記感光層を形成された基板は第2図■〜■と同様の工
程にしたがって処理される。すなわち回路を描いたマス
クが基板の表裏の平面部の感光層に当てがわれ、超高圧
水銀ランプ等の紫外線を含む光源により露光される。こ
のとき回路部分、スルーホール開口部のはんだ付はラン
ド及びスルーホール内壁に対応する感光層が選択露光さ
れるようにすると、これらの部分の感光層は光硬化され
るため未硬化の感光層部分が溶解除去されるようになる
のでこれを溶剤等の現像液で洗い出して除去する。つい
でこの除去した跡の銅層を塩化第二鉄、塩化第二銅等の
エツチング液でエツチング処理を行ない所望のパターン
を形成する。そして、最後に上記回路部分及びスルーホ
ール内壁部の上記硬化した感光層を溶剤等により除去し
てスルーホールプリント配線板が出来上がる。
程にしたがって処理される。すなわち回路を描いたマス
クが基板の表裏の平面部の感光層に当てがわれ、超高圧
水銀ランプ等の紫外線を含む光源により露光される。こ
のとき回路部分、スルーホール開口部のはんだ付はラン
ド及びスルーホール内壁に対応する感光層が選択露光さ
れるようにすると、これらの部分の感光層は光硬化され
るため未硬化の感光層部分が溶解除去されるようになる
のでこれを溶剤等の現像液で洗い出して除去する。つい
でこの除去した跡の銅層を塩化第二鉄、塩化第二銅等の
エツチング液でエツチング処理を行ない所望のパターン
を形成する。そして、最後に上記回路部分及びスルーホ
ール内壁部の上記硬化した感光層を溶剤等により除去し
てスルーホールプリント配線板が出来上がる。
上記において、エンチングを行なう際、スルーホールは
その内壁が硬化した感光層で保護され“Cいるのでその
エツチング液によりおかされることがないようにできる
。
その内壁が硬化した感光層で保護され“Cいるのでその
エツチング液によりおかされることがないようにできる
。
上記において露光を平行光線により行なうことができれ
ば、マスクを感光層より0.3〜1+n+n離したオフ
コンタクトで露光できるので感光液塗布層の乾燥工程を
処理できる。但しこの時使用する感光液は溶剤を2ヒド
ロキカ”ロピルアクリレート等のアクリルモノマーにイ
℃えたものを使用する必要がある。
ば、マスクを感光層より0.3〜1+n+n離したオフ
コンタクトで露光できるので感光液塗布層の乾燥工程を
処理できる。但しこの時使用する感光液は溶剤を2ヒド
ロキカ”ロピルアクリレート等のアクリルモノマーにイ
℃えたものを使用する必要がある。
なお、上記においてロールコータ2.3は第7図に示す
ように下方のロールコータについては感光液を下側より
供給されても良い。
ように下方のロールコータについては感光液を下側より
供給されても良い。
また、上記はロール2b、3b及び9b、 10bは螺
旋溝を有するものであったが、この溝の形状は第8図(
1)〜(6)に示すようにそれぞれコの字形溝、台形溝
、7字形溝、Wノコ刃型溝、半円形溝、波形溝のいずれ
でも良い。ここで図中、Dは深さ、Fは山幅、Pはピッ
チ、Rは半径、Wは溝幅であって、これらは基板のスル
ーホールの径(例えば0.8 mm)によって感光液が
このスルーボールに充填され易いように設計される。例
えばスルーホール径が大きい場合には溝は深く、幅は大
きい方が適している。また、第2塗布パー1−Bのロー
ル9b、10bは主として平面部の塗膜の均一性をはか
る目的のものであるので一般には第1塗布パー)Aのロ
ール2b、3bよりは溝は浅く、幅は狭いようにする。
旋溝を有するものであったが、この溝の形状は第8図(
1)〜(6)に示すようにそれぞれコの字形溝、台形溝
、7字形溝、Wノコ刃型溝、半円形溝、波形溝のいずれ
でも良い。ここで図中、Dは深さ、Fは山幅、Pはピッ
チ、Rは半径、Wは溝幅であって、これらは基板のスル
ーホールの径(例えば0.8 mm)によって感光液が
このスルーボールに充填され易いように設計される。例
えばスルーホール径が大きい場合には溝は深く、幅は大
きい方が適している。また、第2塗布パー1−Bのロー
ル9b、10bは主として平面部の塗膜の均一性をはか
る目的のものであるので一般には第1塗布パー)Aのロ
ール2b、3bよりは溝は浅く、幅は狭いようにする。
また、溝の設は方は、第9図fil〜(8)に示すよう
に、それぞれ縦溝、横溝、ヘリカル溝、讐ヘリカル溝、
ウオーム溝、ダイヤカット溝、丸溝、角溝、さらには第
9図には省略したがネジ切り溝環各種のものが使用でき
る。
に、それぞれ縦溝、横溝、ヘリカル溝、讐ヘリカル溝、
ウオーム溝、ダイヤカット溝、丸溝、角溝、さらには第
9図には省略したがネジ切り溝環各種のものが使用でき
る。
また、上記はスルーホールプリント配線板用基板の例で
あったが、スルーホールを有さないプリント配線用基板
にも上記装置は使用できる。
あったが、スルーホールを有さないプリント配線用基板
にも上記装置は使用できる。
以上説明したように、本発明によれば、ロールに凹部を
連続又は不連続に設け、この凹部に感光液を保持させ、
この保持させた感光液を基板に塗布するようにしたので
、この感光液は基板の平面部に塗布されるのみならず、
ソリ、研磨面の凹凸あるいは汚れがある基板の平面部に
も塗布されてピンホールのない均一な塗膜を形成し、さ
らに重要なことはスルーホールにも押し出されこのスル
ーホールにも充填される。そしてこの充填された感光液
のうぢスルーホール壁部に付着したもの以外を除去する
ことによりスルーホール壁部に感光層を形成できるので
その塗布装置が極めて簡単でしかも信頼性の高い保護層
を形成できる。これにより従来の工程の複雑な生産性の
悪い塗布方法や信頼性の低い塗布方法を用いることなく
、しかもその生産コストを低減できる塗布装置を提供で
きる。また、従来の感光液を塗布する方法に比べ、スル
ーホール内壁に隈なく感光液を塗布でき、しかもその塗
布も簡単な工程で実現できるので極めて実用性を高める
ことができる。
連続又は不連続に設け、この凹部に感光液を保持させ、
この保持させた感光液を基板に塗布するようにしたので
、この感光液は基板の平面部に塗布されるのみならず、
ソリ、研磨面の凹凸あるいは汚れがある基板の平面部に
も塗布されてピンホールのない均一な塗膜を形成し、さ
らに重要なことはスルーホールにも押し出されこのスル
ーホールにも充填される。そしてこの充填された感光液
のうぢスルーホール壁部に付着したもの以外を除去する
ことによりスルーホール壁部に感光層を形成できるので
その塗布装置が極めて簡単でしかも信頼性の高い保護層
を形成できる。これにより従来の工程の複雑な生産性の
悪い塗布方法や信頼性の低い塗布方法を用いることなく
、しかもその生産コストを低減できる塗布装置を提供で
きる。また、従来の感光液を塗布する方法に比べ、スル
ーホール内壁に隈なく感光液を塗布でき、しかもその塗
布も簡単な工程で実現できるので極めて実用性を高める
ことができる。
第1図〜第3図は従来のそれぞれ異なるスルーホールプ
リント配線板の製造方法の例の説明図、第4図は本発明
の一実施例の装置の全体説明図、第5図はそのロールコ
ークの説明図、第6図はこのロールコータのロールと示
す図、第7図は他の例のロールコータの説明図、第8図
は本発明に用いられるロールの溝の形状の説明図、第9
図はこの溝の設は方の説明図である。 図中、2b、 3b、 9b、10bは溝を有するロー
ルである。 昭和59年04月28日 特許出願人 石 井 銀 弥 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第7図 第8図 第9図
リント配線板の製造方法の例の説明図、第4図は本発明
の一実施例の装置の全体説明図、第5図はそのロールコ
ークの説明図、第6図はこのロールコータのロールと示
す図、第7図は他の例のロールコータの説明図、第8図
は本発明に用いられるロールの溝の形状の説明図、第9
図はこの溝の設は方の説明図である。 図中、2b、 3b、 9b、10bは溝を有するロー
ルである。 昭和59年04月28日 特許出願人 石 井 銀 弥 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第7図 第8図 第9図
Claims (1)
- filプリント配線用基板に感光液を塗布するロール塗
布装置において、上記基板に感光液を塗布する側のロー
ルの周面に上記感光液に接触してこれを保持する連続又
は不連続の凹部を設け、この四部を有する周面に形成さ
れた感光液層を上記基板へ に付着させることを特徴と
するプリント配線用基板の感光液塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8715584A JPS60230658A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | プリント配線用基板の感光液塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8715584A JPS60230658A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | プリント配線用基板の感光液塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60230658A true JPS60230658A (ja) | 1985-11-16 |
Family
ID=13907094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8715584A Pending JPS60230658A (ja) | 1984-04-28 | 1984-04-28 | プリント配線用基板の感光液塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60230658A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01258760A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ロールコータ |
| JPH04235770A (ja) * | 1991-01-11 | 1992-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬基板塗布装置 |
| JP2010221204A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Fuji Kikai Kogyo Kk | 塗工装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60160688A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | ソニー株式会社 | ロ−ルコ−テイング方法 |
-
1984
- 1984-04-28 JP JP8715584A patent/JPS60230658A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60160688A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | ソニー株式会社 | ロ−ルコ−テイング方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01258760A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ロールコータ |
| JPH04235770A (ja) * | 1991-01-11 | 1992-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬基板塗布装置 |
| JP2010221204A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Fuji Kikai Kogyo Kk | 塗工装置 |
| TWI548463B (zh) * | 2009-03-25 | 2016-09-11 | Fuji Kikai Kogyo Kk | Coating device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4410562A (en) | Method for forming a cured resin coating having a desired pattern on the surface of a substrate | |
| US9134614B2 (en) | Photoimaging | |
| US3535157A (en) | Method of coating printed circuit board having through-holes | |
| JPH0955577A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
| JPS60230658A (ja) | プリント配線用基板の感光液塗布装置 | |
| JP2002185132A (ja) | 多層プリント配線板用ドライフィルム、それを用いた多層プリント配線板の製造方法及び多層プリント配線板 | |
| US20070072129A1 (en) | Method for forming flexible printed circuit boards | |
| JPH02124260A (ja) | 樹脂研磨方法 | |
| JP2748621B2 (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
| US5376404A (en) | Method of coating ridged plates, particularly printed circuit boards | |
| JP2000156556A (ja) | スルーホール部を有する基板へのレジスト層形成方法及びプリント配線基板の製造方法 | |
| JPS60231387A (ja) | プリント配線用基板の感光液塗布方法 | |
| JPH04365394A (ja) | プリント配線板の製造装置とそれを用いたプリント配線板の製造方法 | |
| JPH0758435A (ja) | 液体フォトレジストを平らな基板面に塗布するための方 法 | |
| JP4267255B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| WO1994017648A1 (fr) | Procede de sechage d'un film de reserve forme par electrodeposition | |
| JPH11340606A (ja) | レジスト層の形成方法及びプリント配線基板の製造方法 | |
| JPS6088494A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| JP2945510B2 (ja) | 接着剤の塗布方法 | |
| JP3206416B2 (ja) | シャドウマスクの製造方法 | |
| KR970078781A (ko) | 인쇄회로 기판의 제조 방법 | |
| JPH0485983A (ja) | 両面スル―ホール基板にパターン形成用レジストをコーティングする方法及びコーティング装置 | |
| JPS63232487A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
| JPS6113646A (ja) | 多層配線における層間絶縁膜形成方法 | |
| JPH0258895A (ja) | 印刷配線板の製造方法 |