JPS60233088A - オキサセフエムテトラゾリル酢酸誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は次式（Ｉ）で示される７β−（２−ハロビニ
ルチオ）アセトアミド−７α−メトキシ−３−（１−カ
ルボキシメチル−ＩＨ−５−テトラゾリルチオ）メチル
−１−デチアー１−オキサー３−セフェム−４−カルボ
ン酸とその誘導体に関する。

（式中、　Ｍａｌはハロゲンを示す。）式（Ｉ）中、　
Ｈａｌはふり素、塩素などのハロゲンを示す。

式（Ｉ）の誘導体は二個のカルボキシ基における誘導体
であって、同一でも、互いに興なっていてもよい。

カルボキシ基における誘導体には、エステル。

塩などがあって、それぞれカルボキシ保護基、医薬用誘
導体などとして有用である。カルボキシ保護基としては
、ペニシリン、セファロスポリンの化学の分野で１分子
中の他の部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能
のものとして知られている保護基、たとえばアラルキル
エステル（ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジ
ル、メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベン
ジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フタリジル
、フェナシルなどのエステル）、置換または非置換アル
キルエステル（トリクロロエチル、ｔ−ブチル、アリル
などのエステル）、アリールエステル（ペンタクロロフ
ェニル、インダニルなどのエステル）、Ｎ−ヒドロキシ
アミノ化合物のエステル（アセトンオキシム、アセトフ
ェノンオキシム、アセトアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシ
こはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとの
エステル）、アルケニルエステル（ビニルエステル、プ
ロペニルエステルなど）、炭酸またはカルボン酸との酸
無水物などを構成する保護基がある。この保護基部分は
各種置換分を有していてもよい。

これらは最終目的物においては脱離してしまうので、保
護の目的を達するものであれば、その構造は必ずしも重
要な意味をもたないことが多く。

広範囲な均等基との交換が可能である。

さらに有用なカルボキシ誘導体は医薬用に適する誘導体
で、主に軽金属塩と薬理学的活性エステルである。

薬理学的活性エステルは主に経口または非経口投与にお
いて強い抗菌性を示すエステル、とくに置換アルキルエ
ステル（アルカノイルオキシアルキルエステル、アルコ
キシホルミルオキシアルキルエステル、メトキシメチル
エステル、テトラヒドロピラニルエステル、２−オキソ
−１，３−ジオキソレニルメチルエステルなど）、置換
アラルキルエステル（フェナシルエステル、フタリジル
エステルなど）、置換アリールエステル（フェニルエス
テル、キシリルエステル、インダニルエステルなど）が
よく知られており、化合物（１）にも利用できる。

軽金属塩としては、好ましくは周期律表第１〜■属、第
２〜４周期に属し、生理学的に受容しうるイオンとなり
うる軽金属原子の塩、とくにリチウム、ナトリウム、カ
リウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなど
の塩を例示できる。

化合物（１）は特願昭５７−１７２９０７号に記載の化
合物の範囲内であるが、特定的には明記されていない。

化合物（Ｉ）はアンタビユース様作用などの副作用が少
ない。

化合物（１）は、好気性、嫌気性の細菌に強い抗菌性を
示し、医薬として有用である。とくに。

グラム陰性菌に対する抗菌力や高吸収性、排泄。

分布などに特性を示す、ヒトの感染症の予防、治療には
、常法により製剤化して日用量０．２〜６ｇ（注射）、
０．２〜４ｇ（内服）、０．０１〜１０ｍｇ（外用）等
を投与する。製剤化には各種添加剤、他種抗菌剤などを
用いうる。また、細菌感受性試験用材にも利用できる。

７位側鎖の二重結合における幾何異性体は何れも抗菌活
性があるが、その中、アミドとチオ基がｃｉａである異
性体は生物活性が強い、また。

ｔｒａｎｓである異性体はｃｉａ体の原料としても有用
である。

保護基を有する化合物（Ｉ）は前記抗菌性化合物（１）
の合成中間体としても有用である。

この発明の化合物は１例えば以下に記載の方法などを用
いて製造することもできる。

１）塩の製造 セフェム環の４位や７位置換基にカルボキシのある化合
物（Ｉ）に塩基を作用させるか、交換分解法により他の
弱酸性カルボン酸の塩を作用させると軽金属塩である化
合物（１）を製造できる。

操作法はこの分野で用いられている方法を適用できる。

たとえば、遊離酸を羨酸水素軽金属塩で中和する方法、
アルコール、ケトン、エステルなどの極性有機溶媒中、
低級カルボン酸アルカリ金属塩を作用させたのち、＊溶
性溶媒を加えて目的とする塩を析出させる方法などが好
ましい。

２）カルボキシなどの保護基の脱離 カルボキシ保護基をもつ化合物（Ｉ）は、当技術分野で
常用の脱保護反応に付して遊離カルホキ、シ化合物（１
）とすることができる。この脱保護反応には、たとえば
下記のような、この分野で常用の操作法を適用すること
ができる。

ａ）反応性の高いエステル、無水物などの形のカルボキ
シ保護基は酸、塩基、緩衝液、イオン交換樹脂などと水
性溶液中で接触させれば、脱保護で争る０反応性が低い
ものも、公知の方法によって反応性を高めれば、容易に
脱保護することができる場合もある。たとえばトリクロ
ルエチルエステルニ金属ト酸、　１）−二トロベンジル
エステルに金属と酸または接触還元やジチオン酸塩、フ
ェナシルエステルに光照射などの活性化方法がある。

ｂ）アラルキルエステルは白金、パラジウム、ニッケル
など触媒の存在下に水素を常法により作用させて接触還
元すれば脱保護できる。

Ｃ）アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエステ
ル、スルホニルエチルエステルなどハ加溶媒分解反応な
どによって脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイス酸
（塩化アルミニウム、塩化スズ、四塩化チタンなど）、
スルホン酸（メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸など）強酸性カルボン酸（トリフルオロ酢酸な
ど）などの酸を、要すればカチオン捕捉剤の存在下に作
用させる。

ｄ）その他、均等なカルボキシ保護基脱離法を月いるこ
とができる。

３）アミ　ド化 アミン（ト）またはその反応性誘導体にカルボン酸（Ｉ
ＩＩ）またはその反応性誘導体を常法により作用させて
、目的とする化合物（Ｉ）またはその誘導体を製造する
。

アミン（Ｉ［）の反応性誘導体としては７位のアミノ基
が、シリル基（トリメチルシリル、メトキシジメチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリルなと）、スタニル基（
トリメチルスタニルなど）。

アルキレン基（アルデヒド、アセトン、アセチルジオン
、アセチルブチロラクトンなどと結合したアセトン、ア
セト酢酸エステル、アヤトアセトニトリル、アセトアセ
トアニリド、シクロペンタン、　形のエナミンを形成す
る基）、アルキリデン基（１−ハロアルキリデン、１−
ハロアラルキリデン。

１−アルコキシアルキリデン、１−アルコキシ、アラル
キリデン、１−アルコキシ−１−フェノキシアルキリデ
ン、アルキリデン、アラルキリデンなど）、酸（鉱酸、
カルボン酸、スルホン酸などと２塩の形で）、外れ易い
アシル基（アルカノイルなど）、その他の基で活性化さ
れたものと１分子中の二つのカルボキシ基をシリル基や
前記の保護基で保護したものなどを例示できる。

カルボン酸（、Ｉ［［）は特願昭５７−１７２９０７号
の方法で製造できるが、これを縮合剤［カーポジイミド
（Ｎ、Ｎ’−ジエチルカーポジイミド。

Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミドなど）、カ
ルボニル化合物（カルボニルジイミダゾールなど）、イ
ンキサシリニウム塩、アシルアミノ化合物（２−エトキ
シ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリ
ンなど）その他］の存在下反応させる。反応性誘導体は
酸無水物、対称酸無水物、混合酸無水物［鉱酸（りん酸
、硫酸。

炭酸半エステルなど）、有機酸（アルカン酸、アラルカ
ン酸、スルホン酸など）との混合酸無水物）など］９分
子内無水物（ケテン、インシアネートなど）、酸ハロゲ
ン化物（ハロゲン化水素との混合酸無水物）など、酸ハ
ロゲン化物、活性エステル［エノールエステル（ビニル
エステル、イソプロペニルエステルなど）、アリールエ
ステル（フェニルエステル、ハロフェニルエステル、ニ
トロフェニルエステルなど）、異項１１１エステル（ヒ
リジルエステル、ベンゾトリアゾリルエステルなど）、
Ｎ−ヒドロキシ化合物とのエステル、ジアシルヒドロキ
シルアミンとのエステル（Ｎ−ヒドロキシスクシンイミ
ド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル）、
チオールエステル（アラルキルチオールエステル、異項
環シリルチオールエステルなど）その他］、活性アミド
［芳香族アミド（イミダゾール、トリアゾール、２−エ
トキシ−１，２−ジヒドロキノリンなどとのアミド）、
ジアシルアニリンなど］である、酸捕捉剤は無機塩基（
アルカリ金属、アルカリ土類金属などの酸化物、水酸化
物、炭酸塩９重次酸塩など）。

有機塩基（第三級アミン、芳香族塩基など）、オキシラ
ン（アラキレンオ、キシド、アラルキレンオキシドなど
）、ピリジニウム塩（三塩化トリピリジニウムトリアジ
ンなど）、吸着剤（セライトなど）、その他］などであ
る。

４）３位置換基の導入 化合物（Ｉ）の３位が脱離基置換メチル基である原料化
合物に対応する異項環チオールまたはそれらの反応性誘
導体を作用させれば目的とする化合物（１）を製造する
ことができる。ここに、脱離基としてはハロゲン、スル
ホニルオキシ、アルカノイルオキシ、ジハロアセトキシ
、トリハロアセトキシなどの活性脱離基がよい、前記チ
オールの反応性誘導体としては、アルカリ金属塩、アン
モニウム塩、カルボン酸エステルなどが好ましい。反応
は無水溶媒中でも、含水溶媒中でも０℃〜６０℃で十分
進行する。この反応は脱水剤、塩化ホスホリル化合物、
ロダン化合物などにより。

促進される。

５）反応条件 前記合成法１）〜３）は通常−３０〜１００℃、とくに
−２０〜５０℃の温度で１０分間〜１０時間かけて反応
きせることが多い、これらは溶媒中。

要すれば無水条件下、実施する。その他の常法はいずれ
も適用できる。

反応溶媒としては、炭化水素（ペンタン、ヘキサン、オ
クタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲ
ン化炭化水素（ジクロロメタン。

クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トＩＪ　
クロロエタン、クロロベンゼンなど）、エーテル（ジエ
チルエーテル、メチルイソブチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフランなど）、ケトン（アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル（
酢酸エチル、酢酸イソブチル、安息香酸メチルなど）、
ニトロ炭化水素にトロメタン、ニトロベンゼンなど）、
ニトリル（アセトニトリル、ベンゾニトリルなど）、ア
ミド（ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドなど）、スルホキシド（ジメチルスルホキシド
など）、カルボン酸（ギ酸。

酢酸、プロピオン酸など）、有機塩基（ジエチルアミン
、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、コリジン、
キノリンなど）、アルコール（メタノール、エタノール
、プロパツール、ヘキサノール、オククノール、ベンジ
ルアルコールなど）、水、その他の系列に属する工業用
溶媒またはその混合物を例示できる。

６）後処理 目的とする生成物は反応液から未反応原料、副生成物、
溶媒などの夾雑物を抽出、蒸発、洗浄。

濃縮、沈殿１口過、乾燥などの常法により除去したのち
、吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフィー
など、常用の後処理を組合せて処理すれば単離すること
ができる。

７）実施例 以下に実施例を示し本発明の詳細な説明する。

生成物の物理定数は１表にまとめて記載した０表中、Ｉ
Ｒは、ａｍ−ｉ値を、ＮＭＲはδ値を、Ｊ値ｉｔ結合定
数をＨｚ値で示す。

実施例中、量を表わす部は原料β−ラクタム１重量部に
対する重量の割合を９モル当量数は原料β−ラクタム１
モルに対するモル数を示す。

実施例中の後処理には２通常は反応液に、必要に応じて
水、酸、ジクロロメタンなどの溶媒を加え９分液したの
ち、有機層を水洗、乾燥、減圧濃縮して得られる残留物
を、必要ならシリカゲル・り□口□マドグラフィーで精
製したのち、結晶化、沈澱１ロ過などで採取する方法な
どの常法を組み合わせて用いる。生成物の物理定数の測
定値は別途合成品の値と一致する。

（使用した略号）：Ｃｂｚ＝ベンジルオキシカルボニル
、Ｐｈ−フェニル、ＰＮＢ−ｐ−ニトロベンジル。

実施例１（ナトリウム塩） 第二表のカルボン酸１ｇを０．５％炭酸水素ナトリウム
水６１ＩＱにとかし、塩酸でｐＨ７とし、酢酸エチルで
洗い、脱塩したのち、１０１１１１バイアルに入れ、常
法により凍結乾燥すれば、対応するナトリウム塩の粉末
を得る。

無菌条件下に製造した上記ナトリウム塩１ｇを注射用蒸
留水４ｇにとかし、ブドー球菌ａ捜捜に一組匹凹憇匹憇
感染症の患者に一日二回ずつ静脈注射または経口投与す
れば、この感染症を治療することができる。このナトリ
ウム塩をとり１日本化学療法学会所定の方法に準じ最小
発育阻止濃度を測定すれば、溶血性連鎖球菌５ｔｒｅ　
ｔｏｃｏｃｃｕｓ匠＝％朋朋Ｃ−２０３に対し３．１〜
０．２趨／−また、大腸菌Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃ
ｏｌｉ　Ｈに対して０．８〜０．０２５趨／　ａｌｌの
範囲の価を示す。

実施例２（ナトリウム塩） 第二表のカルボン酸１ｇを水にけんだくシ、これに冷却
下炭酸ナトリウム水溶液を加えてｐＨ６，５とし、酢酸
エチルで洗い、脱塩したのち、ｌＱ＋ｉＱバイアルに入
れ、常法により凍結乾燥すれば、対応するナトリウム塩
の粉末を得る。

これを実施例１と同様にして日本化学療法学会所定の方
法に準じ最小発育阻止濃度を測定すれば溶血性連鎖球菌
５ｔｒｅ　ｔｏｃｏｃｃｕｓ　旺鰭憇朋Ｃ−２０３に対
し３．１〜ｏ、２Ｐｇ／ａ１１．大腸菌Ｅｓｃｈｅｒｉ
ｃｈｉａ　ｃｏ旦Ｈに対して０．８〜０．２５Ｍ、／ｌ
ａＱの範囲の価を示す。

実施例３（アミド化） 下図の反応式に従い、７β−アミノ化合物■１モルに９
例えば次のようなアシル化反応により。

７β−位側鎖に対応するカルボン酸（３）またはその反
応性誘導体を反応させれば対応するアミド（１）を合成
できる。

（４位および３′位テトラゾールメチルに結合するカル
ボキシ基が保護きれた誘導体も可）１）ジクロロメタン
１０倍容、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１
，２−ジヒドロキシリン１．１モル、Ｎ、Ｎ’−ジシク
ロへキシルカーポジイミド１．１モル、ピリジン１．５
モルとカルボン酸（３）１．１モルの混合物中０℃〜室
温で１〜６時間かきまぜる。　、 ２）酢酸エチル１０倍容中、ジー２−ピリジルジスルフ
ィド１．１モル、トリフェニルホスフィン１．１モル、
カルボン酸０１．１モルの混合物中、１０〜５０℃で２
〜６時間かきまぜる。

３）ジクロロメタン３倍容、カルボン酸■）１．１モル
、１，３．５−トリピリジニウムトリアジン・トリクロ
リド４モルの混合物中、−１０〜１０”Ｃで１−５時間
かきまぜる。

４）四塩化＆素３０倍容、Ｎ−メチルモルホリン１．５
モル、トリスジエチルアミノホスフィン１．１モル、カ
ルボン酸の）１．１モルの混合物中、−２０〜１０”Ｃ
に１〜５時間放置する。

５）クロロホルム１０倍容とジメトキシエタン１０倍容
、ピリジン１．５モルおよびカルボン酸■とイソブトキ
シぎ酸との混合無水物の混合物を一５〜１０℃で３０分
〜６時間かきまぜる。

６）酢酸エチル１０倍容、１．２−ジクロロエタン１０
倍容、Ｎ−メチルモルホリン１゜５モル、カルボン酸（
３）の対称無水物１．１モルの混合物中１０分〜２時間
加熱還流する。

７）ジクロロメタン１０倍容、ピリジン１．５モルとカ
ルボン酸■）とメタンスルホン酸の混合無水物中−７０
℃から室温に昇温しながら１〜３時間かきまぜる。

８）酢酸エチル１０倍容、燐酸ジエチルとカルボン酸（
３）との混合酸無水物１．５モルおよびピリジン１．５
モルの混合物中０〜１０”Ｃで１〜５時間かきまぜる。

９）酢酸エチル１０倍容、ジクロロメタン１０倍容、ピ
リジン１モルとカルボン酸■）と燐酸ジクロリドとの混
合酸無水物中ｏ℃〜室温で１〜３時間かきまぜる。

１０）ルチジン１．５モル、ジクロロメタン１０ブチ、
燐酸のジメチルアミドのモノクロリドとカルボン酸（３
）との混合無水物１．１〜２モルの混合物中、０〜３０
℃で１〜４時間かきまぜる。

１１）ジクロロメタン５倍容、トリフルオロ酢酸無水物
１．５モル、ピリジン３モルおよびカルボン酸（３）１
．５モルの混合物中、０℃〜室温で１〜５時間かきまぜ
る。

１２）ブチロロメタン１０倍容、燐酸ジエチルの臭化物
１．２モル、Ｎ−メチルモルホリン２．５モルおよびカ
ルボン酸（３）１．２モルの混合物中、０℃〜室温で１
〜３時間かきまぜる。

１３）化合物■の二つのカルボキシ基の両方または一方
が保護されていない場合、これを炭酸水素ナトリウム２
．５モルを含む水１０倍ブチとかし。

カルボン酸の）の塩化物１．１モルを滴下し、−５℃〜
室温で３０分〜２時間反応させる。

１４）化合物■の二つのカルボキシ基の両方または一方
が保護されていない場合、これに塩化トリメチルシリル
とトリエチルアミンを１．２モルずつ作用させて０−シ
リル化し、ピリジン４モル当量とカルボン酸（３）の塩
化物１゜１モＪＬ４−３０°Ｃで加え、３０分〜２時間
反応させたのち、シ１）ルエステルを酸で加水分解する
。１５）ピコリン２モルとカルボン酸ａ）の塩化物１，
２モルをジクロロメタン２０ブチにとかした溶液中、０
〜−３０”Ｃで３０分〜２時間攪拌する。

１６）ジメチルフォルムアミド２ブチと酢酸エチル１０
ブチとの溶液中、トリエチルアミン１．１モルとカルボ
ン酸（３）の塩化物１．１モルの混合物を０〜２０℃で
３０分〜３時間かきまぜる。

１７）ジクロロメタン３０ブチ、塩化シアヌル１．１モ
ル、ピリジン４モル、カルボン酸■）１．１七ルの混合
物中、−３０〜１０℃で５分〜２時間かきまぜる。

１８）ジクロロメタン３倍容、オキシ塩化燐１．１モル
、ピリジン１．５モル、カルボン酸（３）１．１モルの
混合物中、−１０〜１０℃で２０分Ｍ２時間かきまぜる
。

１９）塩化トリメチルシリルと酸捕捉剤を作用させて、
化合物（２）のＮ−トリメチルシリル体とし、この、１
モルに対してオキシ塩化燐１．５モルとカルボン酸（：
ｌ）１．２モルおよびピリジン４モルをジクロロメタン
５倍重量中０℃〜室温で３０分〜２時間作用させる。

２０）ジクロロメタン８倍容、塩化チ才二Ｊし１．５モ
ル、ピリジン２．５モル、、カルボン酸（３）１．１モ
ルの混合物中、−３０〜、０℃で１〜５時間時間力士ぜ
る。

２１）クロロホルム３ブチ、トルエン１倍容、力Ｊレホ
ン酸の）１．１モル、ピコリン２モル、塩化：１サリル
１モルの混合物中、−５０〜１０＠Ｃで１０分〜２時間
かきまぜる。

２２〉ジクロロメタン２０ブチ、ピリジン３モル。

カルボン酸（３）の１−オキジベンゾトリアシーフレエ
ステル３モルの混合物中、１０〜５０℃で５〜３０時間
かきまぜる。

２３）ｕクロロメタン２０倍容、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール２．１モル、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル
カルボジイミド２．５モＪしとカルボン酸０）２モルの
混合物中、室温で１〜１５時間かきまぜる。

２４）カルボン酸（３）とフタルイミドとの縮合物２モ
ルのジオキサン１０ブチ溶液中、１０〜５０℃で２〜８
時間かきまぜる。

２５）カルボン酸０）とサクシンイミドとの縮合物１．
５モルのメチルイソブチルケト２１０倍容溶液中、０〜
４０°Ｃで２〜９時間かきまぜる。

２６）カルボニルジイミダゾール１．１モル、テトラブ
チロフメチ１０倍容、ジメチルアセトアミド５倍容、カ
ルボン酸（３）１．１モルの混合物中、０℃〜室混で１
〜５時間かきまぜる。

２７）ジメチルホルムアミド５ブチ中、カルボン酸（３
）とジメチルホルムアミドのビルスマイヤー試薬１．１
モルとジメチルアニリン１，３モルの混合物中、室温で
１〜５時間かきまぜる。

２８）ジクロロメタン１０ブチ、ジメチルホルムアミド
５倍容、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド１
．１モル、ピコリン１．２モルとカルボン酸Ｃ３）１　
、１モルの混合物中、２〜２４時間加熱する。

実施例４（脱保護化） １）第−表のジフェニルメチルエステル１部をジクロロ
メタン０．３〜３部、トリプルオロｉ！［０，３〜３部
およびアニソール０．５〜５部の混合物に溶かし、−１
０〜４０℃で１０分〜３時間かきまぜる。反応液を減圧
下に濃縮して溶媒と試薬を留去し、残留物をベンゼンで
洗えば対応する遊離酸を７０〜９０％の収率で製造でき
る。

２）第一４のエステル１部−をジクロロメタン５〜９部
とアニソール２〜８部の混液に溶かし、−１０〜１０℃
で塩化アルミニウム、四塩化スズまたは四塩化チタニウ
ム３〜１２モル当量を加えたのち１〜２４時間かきまぜ
る。反応液を希塩酸と水で洗い、乾燥したのち濃縮すれ
ば、対応する遊離酸を８０〜９５％の収率で製造できる
。

上記反応液はいずれも５％次酸水素ナトリウム水で中和
し、不溶物を口去し１口液を酢酸エチルで洗う。水層を
塩酸酸性とし、酢酸エチルで洗い、水層をＨＰ−２０ま
たは５Ｐ２０７（三菱化成（株）製合成吸着剤）のカラ
ムに吸着する。これを８０％メタノールで溶離すれば精
製できる。

（以下余白）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式で示される７β−（２−ハロビニルチオ）ア
   セトアミド−７α−メトキシ−３−（ニーカルボキシメ
   チル−ＩＨ−５−テトラゾリルチオ）メチル−１−デチ
   アー１−オキサー３−セフェム＝４−カルボン酸とその
   誘導体。 （式中、　Ｈａｌはハロゲンを示す。）（２、特許請求
   の範囲（１）の化合物を有効成分とする抗菌剤。 ■特許請求の範囲（１）の化合物を感受性細菌と接触さ
   せて殺菌する方法。　。 （旬特許請求の範囲■の化合物をアミド化、脱保護また
   は造塩によって製造する方法。