SU574174A3 - Устройство дл нарезани спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов - Google Patents

Claims (1)

1. ных луча после этого перевод тс  неподвижным 5 и подвижным 6 зеркалами примерно на 90°. Лругое подвижное зеркало 7 еще раз переводит частичный луч 3 так, что оба частичных луча 3 и 4 образуют вместе подобие пр моугольника. Оба частичных луча 3 и 4 сход тс  из противоположных направлений на поверхности спирального провод щего сло  8, зтот слой приводитс  во вращение механическими средствами вокруг оси, перпендикул рной к плоскости чертежа. При повороте зеркал 6 и 7 зокруг своей оси п тно падени  данного луча энергии 3, соответственно луча 4, смещаетс  на провод щем слое 8 параллельно его оси вращени . Дл  получени  точечного п тна,падени  обоих частичных лучей 3, 4 установлены сферические линзы 9, 10. Они вызьшают по вление пунктирного п тна падени  на провод щем слое 8 и линейную выемку, описьшаемую частичными лучами энергии 3 и 4 на провод щем слое. Интенсивность лучей 3 и 4 регулируетс  так, чтобы материал сло  8 на данном месте падени  и только на .лем по возможности немедленно испарилс . По мере необходимости во врем  спиралеобоазовани  провод щего сло  след т за тем, чтобы последний, а также несущий его сердечник не слишком нагревались и чтобы сохран лс  провод щий слой во всех местах, к которым не Могут непосредственно проходить лучи энергии 3 и4. Формула изобретени  Устройство дл  нарезани  спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащее лазер, оптическое средство дл  расщеплени  лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде накло1шого полупрозрачного зеркала, оптические средства дл  отклонени  и средства дл  фокусировани  лучей на поверхности заготовки резистора , включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства дл  вращени  резистора вокруг его продольной оси, отличающеес  тем, что, с делью обеспечени  непрерывности обработки, зеркала оптических средств дл  отклонени  расщепленных лучей установлены так, что по ходу одного из расщепленных лучей расположено подвижное зеркало, а по ходу другого последовательно расположены неподвижное и подвижное зеркала, причем подвижные зеркала установлены с возможностью поворота вокруг осей, соосиых с направлени ми лучей, исход щих от неподвижнь1Х зеркал, и с обеспечением смещени  попадани  лучей на поверхность загот;овки резистора. Источники информащш, прин тые во внимание .при экспертизе: 1. За вка Франции N 2090020, МКИ G 02 в 27/00, опубл. 18.02.72.