JPS60237640A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野および目的〕 この発明は記録素子として金属磁性材を使用する磁気記
録媒体の製造方法に関し、その目的とする止ころは、耐
食性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことにある。

〔背景技術〕

金属磁性材を記録素子として使用する磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などからなる強磁性金
属薄膜層を真空苺着等によって基体上に被着するか、あ
るいは強磁性金属粉末を結合剤樹脂とともに基体上に塗
布、乾燥してつくられ、高密度記録に適した特性を有す
るが、反面金属磁性材を記録素子とする磁性層が空気中
の酸素によって酸化され易く、徐々に酸化を受けて最大
磁束密度が劣化するなどの難点がある。

このため、従来から金属磁性材を記録素子とする磁性層
上に種々の保護膜層を設けるなどして耐食性を改善する
ことが行われており、近年、たとえば、オクタメチルシ
クロテトラシロキサンのモノマーガスをキャリアガスの
窒素ガスとともに使用し、プラズマ重合して、ケイ素系
有機化合物のプラズマ重合保護膜層を強磁性金属薄膜層
上に設けること〔飯島哲生、花房廣明、電気通信学会論
文誌、Ｊ６７−＝Ｃ，、Ｎｏｌ　（’　８４））が提案
されている。

ところが、この種のケイ素系有機化合物のプラズマ重合
保護膜層は、親水性を示す窒素原子および酸素原子を多
く含み、保護膜層自体の架橋密度が低いため、空気中の
水分がこの保護膜層を容易に透過し、この透過した水分
により金属磁性材を記録素子とする磁性層が腐食される
という難点があり、未だ耐食性は充分に改善されていな
い。

〔発明の概要〕

この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果、
炭化水素系有機金属化合物のモノマーガスを用いてプラ
ズマ重合を行い、金属磁性材を記録素子とする磁性層上
に金属を含む炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保
護膜層を形成すると、この種のプラズマ重合保護膜層は
、親水性を示す窒゛素原子や酸素原子を含まず、架橋密
度が高いため、空気中の水分を透過せず、耐食性が充分
に改善されることを見いだしてなされたもので、金属磁
性材を記録素子とする磁性層を、炭化水素系有機金属化
合物のモノマーガス中にさらしてプラズマ重合を行い、
金属を含む炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保護
膜層を前記磁性層上に形成することを特徴とするもので
ある。

この発明において、金属磁性材を記録素子とする磁性層
を炭化水素系有機金属化合物のモノマーガス中にさらし
てプラズマ重合が行われると、親水性を示す窒素原子や
酸素原子を含まないプラズマ重合保護膜層が形成され、
さらにプラズマ重合保護膜層中に含まれる金属が触媒的
な作用をしてプラズマ重合が促進され、極めて架橋密度
の高いプラズマ重合保護膜層が形成され４゜またプラズ
マ重合保護膜層沖に含まれる金属によって金属磁性材を
記録素子とする磁性層との親和性も良好となり、磁性層
に対する接着性も改善される。その結果、親水性を示す
窒素原子や＠素原子を含まず、緻密で架橋密度が高い、
金属を含む炭化水素化合物からなるプラズマ重合保護膜
層が、金属磁性材を記録素子とする磁性層上に強固に被
着形成され、空気中の水分がプラズマ重合保護膜層な透
過することもなく、耐食性が充分に向上された磁気記録
媒体が得られる。

このようなプラズマ重合に使用される炭化水素系有機金
属化合物のモノマーガスとしては、テトラメチルスズ、
テトラメチルゲルマニウム、ジエチル水銀、ブクジエン
鉄トリカルボニル、ペンタエトキシタンタル等のモノマ
ーガスが好適なものとして使用され、これらの炭化水素
系有機金属化合物の七ツマーガスは、高周波によりプラ
ズマ重合が行われると、高周波によりラジカルが生成さ
れ、この生成されたラジカルが反応し重合して被膜とな
る。これらのモノマーガスをプラズマ重合する際、アル
ゴンガスおよびヘリウムカ゛ス等のキャリアガスを併存
させると七ツマーガスを単独でプラズマ重合する場合に
比べて３〜５倍の速度で析出されるため、これらのキャ
リアガスを併存させて行うのが好ましい。これらのキャ
リアガスと併存させる際、その組成割合はキャリアガス
対前記炭化水素系有機金属化合物の七ノマーカ゛スの容
積比にして１対１〜２０対１の範囲内で併存させるのが
好ましく、キャリアガスが少なすき゛ると析出速度が低
下し、多すぎるとモノマーガスが少なくなってプラズマ
重合反応に支障をきたす。

このようなプラズマ重合を行う場合の力゛ス圧および高
周波の電力は、ガス圧が高くなる＆ｆどプラズマ重合保
護膜層の析出速度が速くなる反面モノマーガスが比較的
低分子量でプラズマ重合されて硬い保護膜層が得られず
、またガス圧を低くして高周波電力を高くすると析出速
度が遅くなる反面高分子化された比較的硬い保護膜層が
得られるが、ガス圧を低くして高周波電力を高くしすぎ
ると、モノマーガスが粉末化してしまいプラズマ重合保
護膜層が形成されないため、ガス圧を０．０３〜５トー
ルの範囲内とし、高周波電力を０．０３〜ＩＷ／−の範
囲内とするのが好ましく、ガス圧を０．０５〜１トール
とし、高周波電力を０．０５〜０．５　Ｗ／ｃｄの範囲
内とするのがより好ましい。このようにしてプラズマ重
合を行うことによって析出形成される金属を含んだ炭化
水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層は、架ＩＩ
度が高く、かつ緻密で摩擦係数も小さく、また親水性を
示す窒素原子や酸素原子を含まないため、水分の透過が
極めて良好に防止され、耐食性が一段と向上される。こ
のような金属を含む炭化水素系化合物のプラズマ重合保
護膜層の膜厚は、２０〜１０００人の範囲内で゛あるこ
とが好ましく、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層による耐
食性の効果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシン
グロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼ
す。

金属磁性材を記録素子とする磁性層は、Ｆｅ粉末、Ｃｏ
粉末、Ｆｅ−Ｎｉ粉末などの金属磁性粉末を、結合剤成
分および有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか
、あるいは、ＧＯ％Ｆｅ％Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ
−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ　％　Ｃｏ　Ｎ　ｉＰなどの強磁
性材を、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング、メッキ等の手段によって基体上に被着するなどの
方法で形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 厚さ１０μのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に装
填し、５Ｘ１０−５トールの真空下でコバルト−ニッケ
ル合金（重量比８：２）を加熱蒸発させてポリエステル
フィルム上に厚さ１０００人のコバルト−ニッケル合金
からなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、第１図
に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属薄膜層を
形成したポリエステルフィルム１を処理槽２内の上部に
配設した基板３の下面にセットし、処理槽２に取りつけ
たガス導入管４からテトラメチルスズのモノマーガスを
４　ｓｅｃｍの流量で導入してガス圧を０．０３トール
とし、電極５の電力密度０．２Ｗ／ｃ＋Ｊでプラズマ重
合を行い、厚さが３００人のスズを含む炭化水素系化合
物からなるプラズマ重合保護膜層を形成した。しかる後
、所定の巾に裁断して第２図に示すようなポリエステル
フィルムｌ上に強磁性金属薄膜層８および金属を含む炭
化水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層９を順次
に積層形成した磁気テープＡをつくった。なお、図中６
は処理槽２内を減圧するための排気系であり、７は電極
５に高周波を印加するための高周波電源である。

実施例２ 実施例１の強磁性金属薄膜層の形成において、コバルト
−ニッケル合金に代えてコバルトを使用した以外は、実
施例１と同様にしてコバルトからなる強磁性金属薄膜層
を形成し、磁気テープＡをつくった。

実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラメチルスズのモノマーガスに代えて、テトラメ
チルゲルマニウムのモノマーガスを同量使用した以外は
実施例１と同様にして、厚さが３００人のゲルマニウム
を含む炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層
を形成し、磁気テープＡをつくった。

実施例４ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラメチルスズのモノマーガスに代えて、ジエチル
水銀の七ツマーガスを同量使用した以外は実施例１と同
様にして、厚さが３００人の水銀を含む炭化水素系化合
物からなるプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープ
Ａをつくった。

実施例５ 実施例１におけるプラズマ重合保護Ｍ９１層の形成にお
いて、テトラメチルスズの七ツマーガスに代えて、ブタ
ジェン鉄トリカルボニルのモノマーガスを同量使用した
以外は実施例１と同様にして、厚さが３００人の鉄を含
む炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層を形
成し、磁気テープ八をつくった。

実施例６ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラメチルスズの七ツマーガスに代えて、ペンタエ
トキシタンタルのモノマーガスを同量使用した以外は実
施例１と同様にして、厚さが３００人のタンタルを含む
炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層を形成
し、磁気テ−プＡをつくった。

実施例７ α−Ｆｅ磁性粉末　６００重量部 エスレソクＣＮ（積木化学工業　８０μ社製、塩化ビニ
ル−酢酸ビニ ル共重合体） パンデソクスＴ−５２５０（大　３０μ日本インキ社製
、ウレタンエ ラストマー） コロネートＬ（日本ポリウレタ　１０〃ン工業社製、三
官能性低分子 量イソシアネート化合物） メチルイソブチルケトン　４００〃 トルエン　４００〃 この組成物をホールミル中で７２時間混合分散して磁性
塗料を調製し、この磁性塗料を厚さ１０μのポリエステ
ルフィルム上に乾燥厚が４μとなるように塗布、乾燥し
て磁性層を形成した。次いで、この磁性層上に、実施例
１と同様にして厚さが３００人でスズを含む炭化水素系
化合物からなるプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テ
ープＡをつくった。

比較例１ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラメチルスズのモノマーガスに代えて、オクタメ
チルシクロテトラシロキサンのモノマーガスを４５ｃｃ
Ｉ１１の流量で導入するとともに、窒素ガスをｌ　ｓｅ
ｃｍの流量で導入して全圧を０．０５　トールとし、電
力密一度を０　、３　Ｗ　／　ｃｏｔとした以外は、実
施例１と同様にして厚さが３００人のケイ素系有機化合
物からなるプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープ
をつくった。

比較例２ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は、実施例１と同様にして磁気テープをつくった
。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐食性を試験した。耐食性試験は得られた磁気テープを
６０℃、９０％ＲＨの条件下に７日間放置して最大磁束
密度を測定し、放置前の磁気テープの最大磁束密度を１
００％とし、これと比較した値でその劣化率を調べて行
った。

下表はその結果である。

表 〔発明の効果〕 上表から明らかなように、実施例１ないし７で得られた
磁気テープは、いずれも比較例１および２で得られた磁
気チーブに比し、劣化率が小さく、このことからこの発
明の製造方法によれば、一段と耐食性に優れた磁気記録
媒体が得られるのがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の製造方法により金属を含有する炭化
水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層を形成する
際に使用するプラズマ処理装置の１例を示す概略断面図
、第２図はこの発明の製造方法によって得られた磁気テ
ープの部分拡大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、８・・・強磁
性金属薄ｌ！ｉｉｉ層、９・・・プラズマ重合保護膜層
、Ａ・・・磁気テープ（磁気記録媒体） 特許出願人　日立マクセル株式会社 代理人　高岡−春ｊ−１艷、、ｔ ！ｌ！；（′−゛。 １）−ｊ　二ニミ３・

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基体上に金属磁性材を記録素子とする磁性層を形成
   し、次いで、この磁性層を、炭化水素系有機金属化合物
   のモノマーガス中にさらしてプラズマ重合を行い、金属
   を含む炭化水素系化合物からなるプラズマ重合保護膜層
   を磁性層上に形成することを特徴とする磁気記録媒体の
   製造方法