JPH0479044B2 - - Google Patents
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- JPH0479044B2 JPH0479044B2 JP58033450A JP3345083A JPH0479044B2 JP H0479044 B2 JPH0479044 B2 JP H0479044B2 JP 58033450 A JP58033450 A JP 58033450A JP 3345083 A JP3345083 A JP 3345083A JP H0479044 B2 JPH0479044 B2 JP H0479044B2
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- Japan
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- film
- nickel
- cobalt
- oxygen
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
- G11B5/71—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the lubricant
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Lubricants (AREA)
Description
本発明は耐候性および潤滑性の改良された薄膜
型磁気記録媒体に関する。 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上に粉末磁性材料（たとえば、γ−Fe2O3、Coを
ドープしたγ−Fe2O3、Fe3O4、Coをドープした
Fe3O4、γ−Fe2O3とFe3O4のベルトライド化合
物、CrO2等の酸化物磁性粉末、あるいはFe、
Co、Ni等の強磁性金属を主成分とする合金磁性
粉末等）を、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチレン−ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散さ
せ、塗布、乾燥して得られる塗布型磁気記録媒体
が広く使用されてきている。 近年記録すべき情報量の増加に伴い、高密度記
録に適した磁気記録媒体の実用化が強く望まれる
に至り、従来の塗布型磁気記録媒体のようなバイ
ンダーを使用せずに、真空蒸着、スパツタリン
グ、イオンプレーテング、メツキ等の方法により
強磁性薄膜を非磁性支持体上形成してなる、いわ
ゆる薄膜型磁気記録媒体が着目され、実用化のた
めの開発研究が種々行なわれている。 これらの中でも磁性金属を真空雰囲気中で蒸気
化し、これを非磁性支持体上に薄膜として形成さ
せる真空蒸着法は工程及び装置の機構も比較的簡
単であることから実用化上すぐれている。 しかしながら、これら金属薄膜型磁気記録媒体
は耐食性、潤滑性が不十分であり、これらの欠点
を改良するため種々の提案がなされているがまだ
実用上十分とは言えない。例えば、磁性膜自体の
耐食性を向上させるためにCr等の金属を含有さ
せる方法、酸素雰気中での磁性金属の蒸着を行な
うことにより酸素を含有させる方法、さらに耐食
性および潤滑性を付与するためにAl、Cr等の金
属、あるいはこれらの酸化物層をオーバーコート
する方法、さらには高分子材料や潤滑剤を蒸着、
塗布、プラズマ重合等の方法により設ける方法等
が提案されているが末だ十分とは言えない状態で
ある。 本発明の目的は、耐候性および潤滑性の改良さ
れた薄膜型磁気記録媒体を提供することである。 すなわち、本発明は非磁性支持体上にコバル
ト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸着磁性膜
を、ニツケルの量がコバルトとニツケルの和に対
して１〜10wt％であり且つ該磁性膜中の酸素原
子数が磁性膜中のコバルトとニツケルの原子数の
和に対して５〜45％であるように設け、さらに該
磁性膜上にプラズマ重合膜を設けた事を特徴とす
る磁気記録媒体である。 本発明者等は、コバルトとニツケルの合金系の
磁性膜およびプラズマ重合膜との組合せについて
鋭意研究の結果本発明に至つたもので、耐候性、
潤滑性の良好な薄膜型磁気記録媒体が得られ、そ
の利点は非常に大きい。 第１図は本発明による磁気記録媒体の基本的な
構成を示す断面図である。ポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリ
エチレンナフタレートのような非磁性プラスチツ
クベース、あるいはAl、Al合金、Ti、Ti合金、
銅、銅合金、ステンレス鋼のような非磁性金属ベ
ースまたはガラス、セラミツク等の非磁性支持体
１１上にコバルト、ニツケル、酸素を主成分とす
る蒸着磁性膜１２が設けられている。この磁性膜
は、ニツケルの量がコバルトとニツケルの和に対
して１〜10wt％であり且つ磁性膜中の酸素原子
数が磁性膜中のコバルトとニツケルの原子数の和
に対して５〜45％であるような組成となつてい
る。酸素原子数はオージエ分光分析法などによつ
て測定できる。コバルト、ニツケル、酸素の他
に、ニツケル、酸素よりは少ない量で且つコバル
トとニツケルの和に対して5wt％以下のFe、Cu、
Si、Al、Mn、Ｎ、Ｐ、Cr、Sn、Sb、Bi、Ｗ、
Mo、Mg、Zn、Zr、Ｙ、Sm、Gd、Ｎ、Ｂ等の
元素を含むこともできる。磁性膜の膜厚は一般的
には約0.02μm〜4μm、好ましくは0.05μm〜1μm
である。 磁性膜１２の上にはプラズマ重合膜１３が設け
られている。本発明におけるプラズマ重合膜と
は、有機モノマーガスをDC、AC、高周波、放電
等によりプラズマ重合させて磁性薄膜上に形成さ
れた有機高分子材料の膜のことを言う。この際有
機モノマーガスを直接イオン化することもできる
し、アルゴン等のガス放電中に有機モノマーガス
を導入させることもできる。本発明におけるプラ
ズマ重合膜の厚さは20〜800Åの範囲が好ましく、
特に20〜400Åの範囲が好ましい。 有機モノマーガスとしては、テトラフロロメタ
ン、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロエタ
ン、パーフロロプロパン、オクタフロロシクロブ
タン、メタン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ビニルクロライド、スチレン、クロロベンゼ
ン、ジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシラザ
ン、ジエチルアミノトリメチルシラン等が使用さ
れる。 第１図は本発明による基本的な構成の磁気記録
媒体を示すもので、磁性膜としては単層あるいは
２層以上の多層構成としてもよい。多層構成の場
合には層間に非磁性の中間層を設けても良い。非
磁性支持体と磁性膜の間に非磁性の下地層を設け
ることもできる。非磁性支持体の両面に磁性膜を
設けてもよく、また非磁性支持体の裏側にバツク
層を設けたり、プラズマ重合膜の上にさらに非磁
性層を設けることもできる。 第２図は、本発明の磁気記録媒体を製造するた
めの装置の一実施態様である。真空装置２１は上
室２２、下室２３、前処理室２４、プラズマ重合
室２５より構成されており、それぞれ排気孔２
６，２７，２８，２９により独立に真空排気され
るようになつている。また、真空装置２１内に所
定のガスを導入するための導入孔３０，３１，３
２が設けられている。上室２２にはテープ状非磁
性支持体３３の送出しロール３４、巻取りロール
３５が配設されており、支持体３３は前処理室２
４にてイオンボンバード処理等によつて表面処理
を施された後クリーングキヤン３６に沿つて下室
２３へ送られる。下室２３にはコバルト・ニツケ
ル合金材料の蒸発源３７が設けられており、クー
リングキヤン３６に沿つて搬送される非磁性支持
体３３にマスク３８を介して斜め蒸着が行なわれ
る。導入管３１から酸素を含むガスを導入するこ
とにより、コバルト、ニツケル、酸素を主体とす
る磁性膜を得ることができる。磁性膜の設けられ
た支持体は下室２３からプラズマ重合室２５へと
導かれ、磁性膜上へ所望のプラズマ重合膜が形成
された後上室２２の巻取りロール３５へ巻取られ
る。 以下本発明を実施例により説明するが本発明は
これらに限定されるものではない。 実施例 １ 第２図に示す装置を用い、11μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルムフイルム上にコバル
ト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸着磁性膜を
膜厚1200Åとなるよう設け、さらにその上に膜厚
100Åとなるようプラズマ重合膜を設けて磁気記
録媒体を調製した。具体的には次の通りである。 蒸発源３７に種々の組成のコバルトニツケル合
金をチヤージし、導入管３１からの酸素の導入量
を変化させてコバルト、ニツケル、酸素の組成比
の異なる種々の磁性膜を作製した。ここでマスク
３８によつて定められる入射角は40゜に設定した。
こうして得られた蒸着磁性膜上にプラズマ重合室
２５内でジメチルシロキサンのプラズマ重合膜を
厚さ100Åとなるように形成させた。プラズマ重
合室２５内の圧力は５×10-3Torrとし、200Wの
高周波放電によりプラズマ重合を実施した。しか
る後1/2インチ幅にスリツトして磁気テープとし、
VHS型VTRにて50回走行させた後、耐候性と潤
滑性を測定した。耐候性は60℃、90％相対湿度に
１週間保存した後の磁化層の減少（減磁）を比較
し評価した。潤滑性は直径６mmのステンレス棒に
対する摩擦係数により評価した。表１に評価結果
を示す。
型磁気記録媒体に関する。 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上に粉末磁性材料（たとえば、γ−Fe2O3、Coを
ドープしたγ−Fe2O3、Fe3O4、Coをドープした
Fe3O4、γ−Fe2O3とFe3O4のベルトライド化合
物、CrO2等の酸化物磁性粉末、あるいはFe、
Co、Ni等の強磁性金属を主成分とする合金磁性
粉末等）を、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチレン−ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散さ
せ、塗布、乾燥して得られる塗布型磁気記録媒体
が広く使用されてきている。 近年記録すべき情報量の増加に伴い、高密度記
録に適した磁気記録媒体の実用化が強く望まれる
に至り、従来の塗布型磁気記録媒体のようなバイ
ンダーを使用せずに、真空蒸着、スパツタリン
グ、イオンプレーテング、メツキ等の方法により
強磁性薄膜を非磁性支持体上形成してなる、いわ
ゆる薄膜型磁気記録媒体が着目され、実用化のた
めの開発研究が種々行なわれている。 これらの中でも磁性金属を真空雰囲気中で蒸気
化し、これを非磁性支持体上に薄膜として形成さ
せる真空蒸着法は工程及び装置の機構も比較的簡
単であることから実用化上すぐれている。 しかしながら、これら金属薄膜型磁気記録媒体
は耐食性、潤滑性が不十分であり、これらの欠点
を改良するため種々の提案がなされているがまだ
実用上十分とは言えない。例えば、磁性膜自体の
耐食性を向上させるためにCr等の金属を含有さ
せる方法、酸素雰気中での磁性金属の蒸着を行な
うことにより酸素を含有させる方法、さらに耐食
性および潤滑性を付与するためにAl、Cr等の金
属、あるいはこれらの酸化物層をオーバーコート
する方法、さらには高分子材料や潤滑剤を蒸着、
塗布、プラズマ重合等の方法により設ける方法等
が提案されているが末だ十分とは言えない状態で
ある。 本発明の目的は、耐候性および潤滑性の改良さ
れた薄膜型磁気記録媒体を提供することである。 すなわち、本発明は非磁性支持体上にコバル
ト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸着磁性膜
を、ニツケルの量がコバルトとニツケルの和に対
して１〜10wt％であり且つ該磁性膜中の酸素原
子数が磁性膜中のコバルトとニツケルの原子数の
和に対して５〜45％であるように設け、さらに該
磁性膜上にプラズマ重合膜を設けた事を特徴とす
る磁気記録媒体である。 本発明者等は、コバルトとニツケルの合金系の
磁性膜およびプラズマ重合膜との組合せについて
鋭意研究の結果本発明に至つたもので、耐候性、
潤滑性の良好な薄膜型磁気記録媒体が得られ、そ
の利点は非常に大きい。 第１図は本発明による磁気記録媒体の基本的な
構成を示す断面図である。ポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリ
エチレンナフタレートのような非磁性プラスチツ
クベース、あるいはAl、Al合金、Ti、Ti合金、
銅、銅合金、ステンレス鋼のような非磁性金属ベ
ースまたはガラス、セラミツク等の非磁性支持体
１１上にコバルト、ニツケル、酸素を主成分とす
る蒸着磁性膜１２が設けられている。この磁性膜
は、ニツケルの量がコバルトとニツケルの和に対
して１〜10wt％であり且つ磁性膜中の酸素原子
数が磁性膜中のコバルトとニツケルの原子数の和
に対して５〜45％であるような組成となつてい
る。酸素原子数はオージエ分光分析法などによつ
て測定できる。コバルト、ニツケル、酸素の他
に、ニツケル、酸素よりは少ない量で且つコバル
トとニツケルの和に対して5wt％以下のFe、Cu、
Si、Al、Mn、Ｎ、Ｐ、Cr、Sn、Sb、Bi、Ｗ、
Mo、Mg、Zn、Zr、Ｙ、Sm、Gd、Ｎ、Ｂ等の
元素を含むこともできる。磁性膜の膜厚は一般的
には約0.02μm〜4μm、好ましくは0.05μm〜1μm
である。 磁性膜１２の上にはプラズマ重合膜１３が設け
られている。本発明におけるプラズマ重合膜と
は、有機モノマーガスをDC、AC、高周波、放電
等によりプラズマ重合させて磁性薄膜上に形成さ
れた有機高分子材料の膜のことを言う。この際有
機モノマーガスを直接イオン化することもできる
し、アルゴン等のガス放電中に有機モノマーガス
を導入させることもできる。本発明におけるプラ
ズマ重合膜の厚さは20〜800Åの範囲が好ましく、
特に20〜400Åの範囲が好ましい。 有機モノマーガスとしては、テトラフロロメタ
ン、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロエタ
ン、パーフロロプロパン、オクタフロロシクロブ
タン、メタン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ビニルクロライド、スチレン、クロロベンゼ
ン、ジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシラザ
ン、ジエチルアミノトリメチルシラン等が使用さ
れる。 第１図は本発明による基本的な構成の磁気記録
媒体を示すもので、磁性膜としては単層あるいは
２層以上の多層構成としてもよい。多層構成の場
合には層間に非磁性の中間層を設けても良い。非
磁性支持体と磁性膜の間に非磁性の下地層を設け
ることもできる。非磁性支持体の両面に磁性膜を
設けてもよく、また非磁性支持体の裏側にバツク
層を設けたり、プラズマ重合膜の上にさらに非磁
性層を設けることもできる。 第２図は、本発明の磁気記録媒体を製造するた
めの装置の一実施態様である。真空装置２１は上
室２２、下室２３、前処理室２４、プラズマ重合
室２５より構成されており、それぞれ排気孔２
６，２７，２８，２９により独立に真空排気され
るようになつている。また、真空装置２１内に所
定のガスを導入するための導入孔３０，３１，３
２が設けられている。上室２２にはテープ状非磁
性支持体３３の送出しロール３４、巻取りロール
３５が配設されており、支持体３３は前処理室２
４にてイオンボンバード処理等によつて表面処理
を施された後クリーングキヤン３６に沿つて下室
２３へ送られる。下室２３にはコバルト・ニツケ
ル合金材料の蒸発源３７が設けられており、クー
リングキヤン３６に沿つて搬送される非磁性支持
体３３にマスク３８を介して斜め蒸着が行なわれ
る。導入管３１から酸素を含むガスを導入するこ
とにより、コバルト、ニツケル、酸素を主体とす
る磁性膜を得ることができる。磁性膜の設けられ
た支持体は下室２３からプラズマ重合室２５へと
導かれ、磁性膜上へ所望のプラズマ重合膜が形成
された後上室２２の巻取りロール３５へ巻取られ
る。 以下本発明を実施例により説明するが本発明は
これらに限定されるものではない。 実施例 １ 第２図に示す装置を用い、11μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルムフイルム上にコバル
ト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸着磁性膜を
膜厚1200Åとなるよう設け、さらにその上に膜厚
100Åとなるようプラズマ重合膜を設けて磁気記
録媒体を調製した。具体的には次の通りである。 蒸発源３７に種々の組成のコバルトニツケル合
金をチヤージし、導入管３１からの酸素の導入量
を変化させてコバルト、ニツケル、酸素の組成比
の異なる種々の磁性膜を作製した。ここでマスク
３８によつて定められる入射角は40゜に設定した。
こうして得られた蒸着磁性膜上にプラズマ重合室
２５内でジメチルシロキサンのプラズマ重合膜を
厚さ100Åとなるように形成させた。プラズマ重
合室２５内の圧力は５×10-3Torrとし、200Wの
高周波放電によりプラズマ重合を実施した。しか
る後1/2インチ幅にスリツトして磁気テープとし、
VHS型VTRにて50回走行させた後、耐候性と潤
滑性を測定した。耐候性は60℃、90％相対湿度に
１週間保存した後の磁化層の減少（減磁）を比較
し評価した。潤滑性は直径６mmのステンレス棒に
対する摩擦係数により評価した。表１に評価結果
を示す。
【表】
【表】
これから明らかなようにニツケルの量がコバル
トとニツケルの和に対して１〜10wt％で、酸素
原子数がコバルトとニツケルの原子数和に対して
５〜45％であるような磁性膜上にジメチルシロキ
サンのプラズマ重合膜を設けてなる磁気記録媒体
はVTRでの繰返し走行后でもすぐれた耐候性、
潤滑性を示すことが分かる。 実施例 ２ 実施例１と同様に第２図に示す装置を用い、
15μm厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
上にコバルト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸
着磁性膜を膜厚1000Åとなるように設け、さらに
その上に膜厚200Åとなるようプラズマ重合膜を
設けて磁気記録媒体を調製した。マスク３８によ
つて定められる入射角は50゜とし、プラズマ重合
膜としてはスチレンをプラズマ重合させたものを
形成した。実施例１と同様にして耐候性と潤滑性
を評価したところ表２の結果が得られた。
トとニツケルの和に対して１〜10wt％で、酸素
原子数がコバルトとニツケルの原子数和に対して
５〜45％であるような磁性膜上にジメチルシロキ
サンのプラズマ重合膜を設けてなる磁気記録媒体
はVTRでの繰返し走行后でもすぐれた耐候性、
潤滑性を示すことが分かる。 実施例 ２ 実施例１と同様に第２図に示す装置を用い、
15μm厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
上にコバルト、ニツケル、酸素を主成分とする蒸
着磁性膜を膜厚1000Åとなるように設け、さらに
その上に膜厚200Åとなるようプラズマ重合膜を
設けて磁気記録媒体を調製した。マスク３８によ
つて定められる入射角は50゜とし、プラズマ重合
膜としてはスチレンをプラズマ重合させたものを
形成した。実施例１と同様にして耐候性と潤滑性
を評価したところ表２の結果が得られた。
【表】
コバルトとニツケルの組成比がニツケルの量は
コバルトとニツケルの和に対して１〜10wt％で、
酸素原子数がコバルトとニツケルの原子数和に対
して５〜45％であるような磁性膜上にスチレンの
プラズマ重合膜を設けてなる磁気テープはVTR
での繰返し走行后でもすぐれた耐候性、潤滑性を
有することが明らかである。
コバルトとニツケルの和に対して１〜10wt％で、
酸素原子数がコバルトとニツケルの原子数和に対
して５〜45％であるような磁性膜上にスチレンの
プラズマ重合膜を設けてなる磁気テープはVTR
での繰返し走行后でもすぐれた耐候性、潤滑性を
有することが明らかである。
第１図は本発明による磁気記録媒体の基本的な
構成を示す断面図であり、第２図は本発明の磁気
記録媒体を製造するための装置の一実施態様であ
る。
構成を示す断面図であり、第２図は本発明の磁気
記録媒体を製造するための装置の一実施態様であ
る。
Claims (1)
- １ 非磁性支持体とその上に設けられた蒸着磁性
膜及び更にその上に設けられたプラズマ重合膜か
らなり、該磁性膜中のニツケルの量はコバルトと
ニツケルの和に対して１〜10wt％であり且つ該
磁性膜中の酸素原子数は前記コバルトとニツケル
の原子数の和に対して５〜45％であることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58033450A JPS59160828A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 磁気記録媒体 |
| US06/585,095 US4582746A (en) | 1983-03-01 | 1984-03-01 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58033450A JPS59160828A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59160828A JPS59160828A (ja) | 1984-09-11 |
| JPH0479044B2 true JPH0479044B2 (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=12386868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58033450A Granted JPS59160828A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 磁気記録媒体 |
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