JPS60242580A - MOS static type RAM - Google Patents
MOS static type RAMInfo
- Publication number
- JPS60242580A JPS60242580A JP59096534A JP9653484A JPS60242580A JP S60242580 A JPS60242580 A JP S60242580A JP 59096534 A JP59096534 A JP 59096534A JP 9653484 A JP9653484 A JP 9653484A JP S60242580 A JPS60242580 A JP S60242580A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- circuit
- mos
- signal
- address signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、MOSFET (絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ)で構成されたスタティック型RAM (ラ
ンダム・アクセス・メモリ)に関するもので、例えば、
C’MO3(相補型MO3)回路で構成されたものに利
用して有効な技術に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a static RAM (Random Access Memory) composed of MOSFETs (Insulated Gate Field Effect Transistors).
The present invention relates to a technique that is effective for use in a circuit configured with a C'MO3 (complementary MO3) circuit.
MOSスタティック型RAMにおけるメモリアレイは、
メモリセルを構成するスタティック型フリップフロップ
回路の入出力端子が伝送ゲー)MOSFETを介して一
対の相補データ線り、Dに接続される(ISSCC82
DIGESTTECHNICAL PAPER3第25
6〜257頁)。この相補データ線り、Dには、負荷抵
抗としてのMOSFETが設けられる。この負荷抵抗と
してのMOS F ETのコンダクタンス特性は、小さ
な値に設定される。なぜなら、大記憶容量化のためにメ
モリアレイには、多数のメモリセルを構成するために、
その素子サイズが小さく形成される。そして、上記伝送
ゲー1−MO3FETがオン状態となって、上記フリッ
プフロップ回路の入出力端子が接続されとき、フリップ
フロップ回路を構成するオン状態となっている駆動MO
5FET及び上記伝送ゲートMO5FETのコンダクタ
ンス特性と、上記負荷MO3FETのコンダクタンス特
性とのコンダクタンス特性比に従って相補データ線の読
み出しロウレベルが決定されるから、必然的に上記負荷
MO3FETのコンダクタンス特性は小さく設定される
。したがって、同じ相補データ線に対して設けられたメ
モリセルの読み出し動作において、反転読み出しを行う
とき、言い換えるならば、論理“0”の記憶情報の読み
出しの後に論理“1″の記憶情報の読み出しを行う場合
、相補データ線には前の論理“0”の情報が残ったまま
であるため、上記小さなコンダクタンス特性の負荷MO
3FETによりロウレベルからハイレベルに変化させる
のに比較的長時間を費やすこととなってしまうという問
題が生じる。The memory array in MOS static RAM is
The input/output terminals of the static flip-flop circuit constituting the memory cell are connected to a pair of complementary data lines D via a transmission gate MOSFET (ISSCC82).
DIGESTTECHNICAL PAPER3 No. 25
6-257). This complementary data line D is provided with a MOSFET as a load resistance. The conductance characteristic of the MOS FET serving as this load resistance is set to a small value. This is because memory arrays consist of a large number of memory cells in order to increase storage capacity.
The element size is formed small. Then, when the transmission gate 1-MO3FET is turned on and the input/output terminals of the flip-flop circuit are connected, the drive MO which is in the on state constituting the flip-flop circuit
Since the read low level of the complementary data line is determined according to the conductance characteristic ratio of the conductance characteristics of the MO5FET and the transmission gate MO5FET and the conductance characteristic of the load MO3FET, the conductance characteristic of the load MO3FET is inevitably set small. Therefore, in the read operation of memory cells provided for the same complementary data line, when inverted reading is performed, in other words, after reading the storage information of logic "0", the storage information of logic "1" is read. In this case, the previous logic “0” information remains in the complementary data line, so the load MO with the small conductance characteristic
A problem arises in that it takes a relatively long time to change from low level to high level using 3FET.
そこで、アドレス信号の変化を検出して、相補データ線
を短絡して両相補データ線の電位を等しくするというア
ドレスクロックによるイコライズ方式が行われている(
特開昭54−152931号公報)。しかし、このよう
なイコライズ方式のMOSスタティック型RAMにあっ
ては、素子特性の不良が検出しにくくなるという問題の
生じることが本願発明者の研究によって明らかにされた
。Therefore, an equalization method using an address clock is used, which detects changes in the address signal and shorts the complementary data lines to equalize the potentials of both complementary data lines (
(Japanese Unexamined Patent Publication No. 152931/1983). However, research by the inventors of the present application has revealed that such an equalized MOS static RAM has a problem in that it becomes difficult to detect defects in element characteristics.
すなわち、素子特性の不良により記憶情報のレベル不良
等があっても、上記イコライズにより相補データ線の電
位が等しくなってtJ)るから、多少レベル不良があっ
ても正しく読み出されしまうからである。ところが、上
記素子特性の不良が進行性のものであったり、又は電源
電圧が低下した時等厳しい動作条件の下で上記素子特性
による読み出し不良が生じるものとなる。In other words, even if there is a level defect in the stored information due to a defect in the element characteristics, the potentials of the complementary data lines become equal due to the above-mentioned equalization (tJ), so even if there is some level defect, the data can be read out correctly. . However, if the defects in the element characteristics are progressive, or under severe operating conditions such as when the power supply voltage is reduced, read failures due to the device characteristics may occur.
この発明の目的は、高信頼性のMOSスタティック型R
AMを提供することにある。The purpose of this invention is to provide a highly reliable MOS static type R
The aim is to provide AM.
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、外部端子からの信号によって、相補データ線
のイコライズ動作を選択的に停止させる機能を設けて、
動作試験等では上記イコライズ動作を停止させて行うこ
とができるようにするものである。In other words, a function is provided to selectively stop the equalization operation of the complementary data line using a signal from an external terminal.
This allows the equalization operation to be stopped during operation tests and the like.
第1図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。特に制限されないが、同図のRAMは、公知のCM
O3(相補型−金属一絶縁物一半導体)集積回路(IC
)技術によって1個のシリコン単結晶のような半導体基
板上に形成される。FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the RAM in the figure may be a known CM
O3 (complementary-metal-insulator-semiconductor) integrated circuit (IC)
) technology on a semiconductor substrate such as a silicon single crystal.
端子AX+ Ay+ Din、Dout 、WE及びC
Sは、その外部端子とされる。なお、同図において電源
供給端子は省略されている。Terminals AX+ Ay+ Din, Dout, WE and C
S is its external terminal. Note that the power supply terminal is omitted in the figure.
メモリセルMCは、その1つの具体的回路が代表として
示されており、ゲートとドレインが互いに交差結線され
た記憶MO5FETQI、Q2と、上記MO3FETQ
I、Q2(7))’レインと電源電圧Vccとの間には
、情報保持用のポリ (多結晶)シリコン層で形成され
た高抵抗R1,R2が設けられている。そして、上記M
O3FETQ1..Q2の共通接続点と相補データ線D
O,DOとの間に伝送ゲートMO3FETQ3,0.4
が設けられいてる。他のメモリセルMCも相互において
同様な回路構成にされている。これらのメモリセルは、
マトリックス状に配置されている。同じ行に配置された
メモリセルの伝送ゲー1−M03FETQ3゜Q4等の
ゲートは、それぞれ例示的に示された対応するワード線
WO,Wl及びWn等に共通に接続され、同じ列に配置
されたメモリセルの入出力端子は、それぞれ例示的に示
された対応する一対の相補データ(又はピッ1線Do、
Do及びDI、DI等に接続される。One specific circuit of the memory cell MC is shown as a representative, and includes memory MO5FETQI, Q2 whose gates and drains are cross-connected to each other, and the MO3FETQ mentioned above.
High resistances R1 and R2 formed of a polysilicon layer for information retention are provided between the I, Q2 (7))' rain and the power supply voltage Vcc. And the above M
O3FETQ1. .. Q2 common connection point and complementary data line D
Transmission gate MO3FETQ3, 0.4 between O and DO
is provided. Other memory cells MC also have similar circuit configurations. These memory cells are
Arranged in a matrix. The gates of the transmission gates 1-M03FETQ3, Q4, etc. of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to the corresponding word lines WO, Wl, Wn, etc. shown as examples, respectively, and are arranged in the same column. The input/output terminals of the memory cells are connected to a pair of exemplified corresponding complementary data (or pin 1 lines Do,
Connected to Do, DI, DI, etc.
上記メモリセルMCにおいて、それを低消Ipl電力に
させるため、その抵抗R1ば、MOS F ETQlが
オフ状態にされているときのMO3FETQ2のゲート
電圧をしきい値電圧以上に維持さ廿ることができる程度
の高抵抗値にされる。同様に抵抗R2も高抵抗値にされ
る。言い換えると、上記抵抗R1は、MO3’FETQ
Iのドレインリーク電流によってMO3FETQ2のゲ
ート容量(図示しない)にN積されている情報電荷が放
電させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ
ようにされる。In the above memory cell MC, in order to make it have low Ipl power, the resistor R1 can maintain the gate voltage of MO3FETQ2 above the threshold voltage when the MOS FETQl is turned off. The resistance value is set as high as possible. Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the resistor R1 is MO3'FETQ
The MO3FET Q2 is designed to have a current supply capability sufficient to prevent the information charges multiplied by N in the gate capacitance (not shown) from being discharged due to the drain leakage current of the MO3FETQ2.
同図において、ワード線WOは、XアドレスデコーダX
−DCRを構成するノア(NOR)ゲート回路G1で形
成された出力信号によって選択される。このことは、他
のワード線Wl、Wnについても同様である。In the figure, the word line WO is connected to the X address decoder
-Selected by the output signal formed by the NOR gate circuit G1 forming the DCR. This also applies to the other word lines Wl and Wn.
上記XアドレスデコーダX−DCRは、相互において類
似のノアゲート回路Gl、G2,03等により構成され
る。これらのノアゲート回路Gl。The X-address decoder X-DCR is composed of mutually similar NOR gate circuits G1, G2, 03, etc. These NOR gate circuits Gl.
G2.c、3等の入力端子には、複数ビットからなる外
部アドレス信号AX(図示しない適当な回路装置から出
力されたアドレス信号)を受けるXアドレスバッファX
−ADBで加工形成された内部相補アドレス信号が所定
の組合せにより印加される。また、特に制限されないが
、デツプ選択状態時の無駄な消費電流の発生を防止する
ため、上記ノアゲート回路01〜G3等には、内部制御
信号φが共通に供給される。この内部制御信号φのハイ
レベル(論理“1″)により、チップ非選択期間に全ワ
ード線が非選択状態される。G2. Input terminals such as c and 3 are provided with an X address buffer
- Internal complementary address signals processed and formed by ADB are applied in a predetermined combination. Although not particularly limited, an internal control signal φ is commonly supplied to the NOR gate circuits 01 to G3 and the like in order to prevent wasteful current consumption during the deep selection state. Due to the high level (logic "1") of this internal control signal φ, all word lines are rendered unselected during the chip non-selection period.
上記メモリアレイにおける一対の相補データ線DO,D
o及びDI、DIは、それぞれデータ線選択のための伝
送ゲートMO3FETQI 3.G14及びG15.Q
l、6から構成されたカラムスイッチ回路を介してコモ
ン相補データ線CD、CDに接続される。このコモン相
補データ線CD。A pair of complementary data lines DO, D in the memory array
o, DI, and DI are transmission gates MO3FETQI for data line selection, respectively.3. G14 and G15. Q
It is connected to the common complementary data lines CD and CD through a column switch circuit composed of 1 and 6. This common complementary data line CD.
CDには、読み出し回路RAの入力端子と、書込み回路
WAの出力端子が接続される。上記読み出し回路RAの
出力端子6主、データ出力端子1)outに読み出し信
号を送出し、書込み回路WAの入力端子は、データ入力
端子Dinから供給される書込みデータ信号が印加され
る。An input terminal of a read circuit RA and an output terminal of a write circuit WA are connected to the CD. A read signal is sent to the output terminal 6 (main data output terminal 1) out of the read circuit RA, and a write data signal supplied from the data input terminal Din is applied to the input terminal of the write circuit WA.
上記カラムスイッチ回路を構成、するMO3FETQ1
3.G14及びG15.Ql、6のゲートには、それぞ
れYアドレスデコーダY−DCHによって形成さた選択
信号YO,Ylが供給される。MO3FETQ1 that constitutes the above column switch circuit
3. G14 and G15. Selection signals YO and Yl formed by the Y address decoder Y-DCH are supplied to the gates of Ql and 6, respectively.
このYアドレスデコーダY−DCRは、相互において類
似のノアゲート回路G4.、G5等により構成される。This Y address decoder Y-DCR has mutually similar NOR gate circuits G4. , G5, etc.
これらのノアゲート回路G4.G5等には、複数ビット
からなる外部アドレス信号AY(図示しない適当な回路
装置から出力されたアドレス信号)を受けるYアドレス
バッファY−ADBで加工形成された内部相補アドレス
信号が所定の組合せにより印加される。These NOR gate circuits G4. Internal complementary address signals processed and formed by a Y address buffer Y-ADB that receives an external address signal AY (address signal output from an appropriate circuit device not shown) consisting of a plurality of bits are applied to G5 etc. in a predetermined combination. be done.
制御回路C0NTは、外部端子WE、C3からの制御信
号を受けて、上記内部制御信号φ等を形成する。The control circuit C0NT receives control signals from external terminals WE and C3 and forms the internal control signal φ and the like.
上記メモリアレイにおける代表として示された一対の相
補データ線DO,Do及びDI、DIの負荷手段として
NチャンネルMO3FE”FQ5〜Q8が設けられる。N-channel MO3FE''FQ5 to Q8 are provided as loading means for the pair of complementary data lines DO, Do and DI, DI shown as representative in the memory array.
これらのMO3FETQ5〜Q8は、そのゲートとドレ
インとが共通接続され電源電圧Vccが供給されること
によって、定常的に動作状態にされる。これらのMO3
FETQ5〜Q8は、そのコンダクタンス特性が上記メ
モリセルMCにおける情報記憶用MO5FETQI’。These MO3FETs Q5 to Q8 are brought into a steady operating state by having their gates and drains connected in common and being supplied with a power supply voltage Vcc. These MO3
The conductance characteristics of the FETs Q5 to Q8 are those of the information storage MO5FETQI' in the memory cell MC.
G2及び伝送ゲートMO3FE、TQ3.Q4との合成
コンダクタンス特性に比べて十分小さく設定される。例
えば、相補データ線Do、DOにおけるハイレベルが3
,5■で、ロウレベルが3■程度になるように設定され
る。G2 and transmission gate MO3FE, TQ3. It is set sufficiently small compared to the composite conductance characteristic with Q4. For example, the high level on the complementary data lines Do and DO is 3.
, 5■, the low level is set to about 3■.
この実施mにおいては、読み出し動作の高速化を図るた
めに、次のイコライゼーション回路が設けられる。すな
わら、アドレス信号AXとAYとは、アドレス信号変化
検出回路ΔT’Dに供給され、ここでアドレス信号の変
化検出パルスφqが形成される。この検出パルスφqは
、各相補データ線Do、五〇及びDi、百1等を短絡す
るMO5FETQ9.QIOのゲートに供給される。In this embodiment m, the following equalization circuit is provided in order to speed up the read operation. That is, address signals AX and AY are supplied to an address signal change detection circuit ΔT'D, where an address signal change detection pulse φq is formed. This detection pulse φq is applied to the MO5FETQ9 . Supplied to the gate of QIO.
これによって、アドレス信号AX、AYが変化したタイ
ミングで上記MO3FETQ9.QIO等がオン状態と
され、前の動作サイクルにより残っている相補アドレス
信号の上述のようなノーイレベルとロウレベルとを短絡
して両者を同電位にするものである。この後、ワード線
が選択されて1つのメモリセルMCが選択された時、そ
の記憶情報に従って、上記相補データ線Do、Do及び
DI、Dl等の電位が決定される。このようにすること
によって、メモリセルMCの反転読み出しを高速にする
ことができる。As a result, the MO3FETQ9. QIO and the like are turned on, and the above-mentioned no-y level and low level of the complementary address signal remaining from the previous operation cycle are short-circuited to make them the same potential. Thereafter, when a word line is selected and one memory cell MC is selected, the potentials of the complementary data lines Do, Do, DI, Dl, etc. are determined according to the stored information. By doing so, inversion reading of the memory cell MC can be performed at high speed.
この実施例では、メモリセルMCを構成する素子特性の
不良を高精度に検出する等のため、上記アドレス信号変
化検出回路ΔTDには、外部端子からの信号によって選
択的にその動作が停止させられる。この実施例では、特
に制限されないが、上記制御信号としてライトイネーブ
ル信号WEが用いられ、その信号レベルを通常の電FA
電圧Vccより高い、例えば、7vのような高い電圧に
した時、それを検出して上記動作の停止が行われる。In this embodiment, the operation of the address signal change detection circuit ΔTD is selectively stopped by a signal from an external terminal in order to detect with high precision a defect in the characteristics of the elements constituting the memory cell MC. . In this embodiment, although not particularly limited, the write enable signal WE is used as the control signal, and the signal level is set to
When the voltage is higher than the voltage Vcc, for example, 7V, it is detected and the above operation is stopped.
第2図には、上記アドレス信号変化検出回路ATDの一
実施例の回路図が示されている。FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the address signal change detection circuit ATD.
アドレス信号の変化を検出する回路は、外部端子らか供
給されるアドレス信号AXOと、遅延回路DLOにより
形成したその遅延信号とを受ける排他的論理和回路EX
Oにより構成される。この排他的論理和回路EXOは、
アドレス信号AXOが変化した時上記遅延回路D L
Oの遅延時間に相当するパルス幅のアドレス信号変化検
出パルスを形成する。他のアドレス信号AXI〜AXi
に対し7ても上記類似の回路が設けられる。これらのア
ドレス信号の変化検出パルスは、オア(OR)ゲート回
路ORに供給され、その出力端子から上記MO3FET
Q9.QIO等に供給されるイコライズパルスφqとし
て送出される。The circuit for detecting a change in the address signal is an exclusive OR circuit EX which receives the address signal AXO supplied from an external terminal and its delayed signal formed by the delay circuit DLO.
It is composed of O. This exclusive OR circuit EXO is
When the address signal AXO changes, the delay circuit D L
An address signal change detection pulse having a pulse width corresponding to the delay time of O is formed. Other address signals AXI to AXi
7 is also provided with a circuit similar to the above. These address signal change detection pulses are supplied to an OR gate circuit OR, and from its output terminal the MO3FET
Q9. It is sent out as an equalization pulse φq supplied to QIO and the like.
この実施例では、ライトイネーブル信号WEをの信号レ
ベルを通常の信号レベルより高いレベルとした時、上記
パルスφqの送出を停止させるために、上記オアゲート
回路ORの出力には、アンド(AND)ゲート回路AN
Dが設けられ、その制御信号を形成するために次の回路
が設けられる。In this embodiment, an AND gate is connected to the output of the OR gate circuit OR in order to stop sending out the pulse φq when the signal level of the write enable signal WE is set to a higher level than the normal signal level. circuit an
D is provided, and the following circuit is provided to form its control signal.
すなわち、外部端子から供給されたライトイネーブル信
号WEは、MO3FETQ12のゲートに供給される。That is, the write enable signal WE supplied from the external terminal is supplied to the gate of MO3FETQ12.
このMO3FIETQI 2は、そのしきい値電圧が電
源電圧Vccより高い値に設定される。このように高レ
ベルのしきい値電圧とするため、特に制限されないが、
フィールド絶縁膜をゲート絶縁膜とするMOSFETが
用いられる。こ(7)MO3FETQI 217)ドレ
インと電源電圧vccとの間には、負荷としてのMO3
FETQIIが設けられる。そして、上記MO3FET
QI 2のドレイン出力は、上記アンドゲート回路AN
Dに制御信号として供給される。例えば、ライトイネー
ブル信号WEを7■のようなハイトノベルにすると、M
O3FETQ’12がオン状態になって、ドレイン出力
をロウレベル(論理″0″)する。これにより、アンド
ゲート回路ANDを閉じるので、上記パルスφqの送出
が停止させられる。なお、通常の信号レベルでは、上記
MO8F+F、TQ12は常にオフ状態であるので、上
記アンドゲート回路ANDはゲートを開いたままとなる
ので、上記アドレス信号の変化に従ったイコライズパル
スφqが送出される。The threshold voltage of this MO3FIETQI 2 is set to a value higher than the power supply voltage Vcc. Since the threshold voltage is set at such a high level, there are no particular restrictions, but
A MOSFET is used in which a field insulating film is used as a gate insulating film. (7) MO3FET QI 217) Between the drain and the power supply voltage vcc, there is an MO3 as a load.
A FETQII is provided. And the above MO3FET
The drain output of QI 2 is connected to the AND gate circuit AN
D as a control signal. For example, if the write enable signal WE is set to a high novel like 7■, M
O3FETQ'12 is turned on and the drain output is set to low level (logic "0"). This closes the AND gate circuit AND, so that the sending of the pulse φq is stopped. Note that at a normal signal level, MO8F+F and TQ12 are always in the off state, so the gate of the AND gate circuit AND remains open, and the equalization pulse φq is sent out according to the change in the address signal. .
このようにイコライズ動作を選択的に停止ヒさせるIa
能を設けた球出を、第3図に示し7た動作波形図に従っ
て説明する。Ia that selectively stops the equalization operation in this way
The ball launch with the function will be explained according to the operation waveform diagram shown in FIG.
上記のようにしてイコライズ動作を停止させると、例え
ば、第1図の相補データ線1)O,DOには点線で示す
ように前の動作での読み出しレベルが残ったままとなる
。今、データ線DOがハイレベルでデータ線Doがロウ
レベルであるとする。When the equalization operation is stopped as described above, for example, the read level from the previous operation remains on the complementary data lines 1) O and DO in FIG. 1, as shown by dotted lines. Assume now that the data line DO is at a high level and the data line Do is at a low level.
そして、次に選択されるメモリセルはMO5FETQI
がオン状態でMOS F ETQ 2がオフ状態のよう
に反転信号が記憶されている時にば、MO3FETQI
のドレイン電位がロウレベルに、MO3FETQ2のド
レイン電位がハイレベルになっている。ところが、ワー
ド線が選択されて伝送ゲートMO3FETQ3.Q4が
オン状態になると、その寄生容量により交流的低インピ
ーダンスの下で残っている前のデータ線DOのハイレベ
ルによりオン状態のMO3FETQIのドレイン電位が
持ち上げられ、同様に残っている前のデータ線DOのロ
ウレベルによりオフ状態のMO3FETQ2のドレイン
電位が引き下げられる。これによりメモリセルの記憶レ
ベルが低下してしまう。Then, the next selected memory cell is MO5FETQI
When an inverted signal is stored, such as when MOS FETQ2 is on and MOS FETQ2 is off, MO3FETQI
The drain potential of MO3FETQ2 is at low level, and the drain potential of MO3FETQ2 is at high level. However, the word line is selected and the transmission gate MO3FETQ3. When Q4 turns on, the drain potential of the MO3FET QI in the on state is raised by the high level of the remaining previous data line DO under the low AC impedance due to its parasitic capacitance, and the remaining previous data line DO is also raised. Due to the low level of DO, the drain potential of MO3FETQ2 in the off state is lowered. This lowers the storage level of the memory cell.
したがって、もしも、素子特性の悪化したMO3FET
QI、Q2等があると、上記読み出し動作でメモリセル
の記憶情報が反転してしまう。このようにイコラズ動作
を停止させることにより、厳しい動作条件を作り出すこ
とができるから、機能試験での不良ピッj−の検出精度
を高くできるものとなる。Therefore, if the MO3FET has deteriorated element characteristics,
If QI, Q2, etc. are present, the information stored in the memory cell will be inverted during the above read operation. By stopping the equalization operation in this manner, severe operating conditions can be created, and therefore the accuracy of detecting defective pitches in the functional test can be increased.
(1)イコライズ機能を選択的に停止させる機能を付加
することにより、その機能試験を厳しい動作条件で行う
ことができるから、その検出精度が高くなり、結果とし
て高信頼性のMOSスタティック型RAM)!E−fJ
ることかできるという効果が得られる。(1) By adding a function to selectively stop the equalization function, the function test can be performed under severe operating conditions, increasing detection accuracy and resulting in highly reliable MOS static RAM) ! E-fJ
You can get the effect of being able to do a lot of things.
(2)ライトイネーブル信号WEを利用して、その高レ
ベルを検出して上記イコイズ動作を停止させるものであ
るから、外部端子を追加することなく極めて簡単な回路
により、上記高信頼性を達成することができるという効
果を得ることができるという効果が得られる。(2) Since the write enable signal WE is used to detect its high level and stop the above-mentioned equalizing operation, the above-mentioned high reliability can be achieved with an extremely simple circuit without adding any external terminals. It is possible to obtain the effect that it is possible to obtain the effect of being able to do the following.
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。上記イコライズ動作を
停止させるための回路は、種々の実施形態を採ることが
できるものである。例えば、上記ライトイネーブル信号
WEを高電圧にしてそれを検出する回路は、MOSFE
Tのしきい値電圧等を利用L2て、その信号レベルをレ
ベルダウンさせて、MOS F E T又はインバータ
回路に供給して、レベル判定を行うものであってもよい
。また、ポンディングパッドのみを設けておいて、機能
試験の時にのみプローブからイコライズ停止用の信号を
供給するもの、あるいは外部端子を追加するものであっ
てもよい。Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. The circuit for stopping the equalization operation described above can take various embodiments. For example, the circuit that makes the write enable signal WE high voltage and detects it is a MOSFE.
The signal level may be lowered by using the threshold voltage of T, etc. L2, and then supplied to a MOS FET or an inverter circuit for level determination. Alternatively, only a bonding pad may be provided and a signal for stopping equalization may be supplied from a probe only during a functional test, or an external terminal may be added.
また、スタティック型RAMを構成する。メモリセルは
、PチャンネルMO3FETとNチャンネルM、03F
ETとを組合せて構成されたスタティック型フリップフ
ロップ回路を用いるものであってもよい。このようにメ
モリアレイの構成及びその周辺回路の具体的回路構成は
、種々の実施形態を採ることができるものである。It also constitutes a static type RAM. Memory cells are P-channel MO3FET and N-channel M, 03F.
A static flip-flop circuit constructed by combining ET may also be used. As described above, the configuration of the memory array and the specific circuit configuration of its peripheral circuits can take various embodiments.
この発明は、MOSスタティック型RAMに広く適用す
ることができる。This invention can be widely applied to MOS static RAM.
第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、そのアドレス信号変化検出回路の一実施例を示す回路
図、
第3図は、その読み出し動作の一例を示す波形図である
。
X−ADB・・Xアドレスバッファ、Y−ADB・・Y
アドレスバッファ、X−DCR・・Xアドレスデコーダ
、Y−DCR・・Yアドレスデコーダ、M C・・メモ
リセル、WA・・書込み回路、RA・・読み出し回路、
C0NT・・制御回路、A T D・・アドレス信号変
化検出回路、EXO〜EX1・・排他的論理和回路、D
LO〜DLi・・遅延回路、OR・・オアゲート回路、
AND・第1図FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the address signal change detection circuit, and FIG. 3 is a waveform diagram showing an example of the read operation. It is. X-ADB...X address buffer, Y-ADB...Y
Address buffer, X-DCR...X address decoder, Y-DCR...Y address decoder, MC...memory cell, WA...write circuit, RA...read circuit,
C0NT...Control circuit, ATD...Address signal change detection circuit, EXO~EX1...Exclusive OR circuit, D
LO~DLi...delay circuit, OR...OR gate circuit,
AND・Figure 1
Claims (1)
出回路と、このアドレス信号変化検出回路の検出出力パ
ルスによりメモリアレイを構成する一対の相補データ線
を短絡するイコライゼーションMO3FETとを含み、
所定の外部端子からの信号により、上記検出パルスの送
出を停止させる機能を付加したことを特徴とするM、O
Sスタティック型RAMu 2、上記MOSスタティック型RAMを構成するメモリ
セルは、そのゲート、ドレインが交差結線された情報記
憶用MOS F ETと、それぞれのドレインと電源電
圧との間に設けられた情報保持用の高抵抗手段とを含む
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のMOSスタティック型RAM。[Claims] 1. An address signal change detection circuit that detects a change in an address signal, and an equalization MO3FET that shorts a pair of complementary data lines constituting a memory array by the detection output pulse of this address signal change detection circuit. including,
M, O characterized in that a function is added to stop the sending of the detection pulse by a signal from a predetermined external terminal.
S static type RAMu 2, the memory cells constituting the MOS static type RAM are information storage MOS FETs whose gates and drains are cross-connected, and an information storage MOS FET provided between each drain and the power supply voltage. 2. The MOS static type RAM according to claim 1, further comprising a high resistance means for the MOS static RAM.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096534A JPS60242580A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | MOS static type RAM |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59096534A JPS60242580A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | MOS static type RAM |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60242580A true JPS60242580A (en) | 1985-12-02 |
Family
ID=14167789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59096534A Pending JPS60242580A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | MOS static type RAM |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60242580A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470991A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-16 | Sgs Thomson Microelectronics | Address change detection circuit |
| JPH02101694A (en) * | 1988-10-07 | 1990-04-13 | Hitachi Ltd | Static ram |
-
1984
- 1984-05-16 JP JP59096534A patent/JPS60242580A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470991A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-16 | Sgs Thomson Microelectronics | Address change detection circuit |
| JPH02101694A (en) * | 1988-10-07 | 1990-04-13 | Hitachi Ltd | Static ram |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5079744A (en) | Test apparatus for static-type semiconductor memory devices | |
| US7170812B2 (en) | Semiconductor memory device capable of reducing power consumption during reading and standby | |
| US6522163B1 (en) | Apparatus and method for coupling a first node to a second node using switches which are selectively clocked for fast switching times | |
| JP4171201B2 (en) | Semiconductor memory device | |
| JPS62121995A (en) | Dynamic RAM | |
| JPH02101694A (en) | Static ram | |
| JPH01166399A (en) | Static type random access memory | |
| US4931998A (en) | Semiconductor memory device which can suppress operation error due to power supply noise | |
| US5774472A (en) | Semiconductor memory device capable of realizing stable test mode operation | |
| JPS60242580A (en) | MOS static type RAM | |
| JPH0529999B2 (en) | ||
| KR950011730B1 (en) | Dynamic random access memory device | |
| JPS6286599A (en) | Semiconductor memory device | |
| JPS6020396A (en) | Signal input circuit | |
| US10916299B2 (en) | Semiconductor storage device and operation method thereof | |
| JPH11328966A (en) | Semiconductor storage device and data processing device | |
| JPH023148A (en) | Semiconductor memory circuit | |
| JPH0746509B2 (en) | Static RAM | |
| JP4771610B2 (en) | Memory circuit and test method thereof | |
| JP3057990B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
| JPH0263280B2 (en) | ||
| Wilson et al. | A 100ns 150mW 64Kbit ROM | |
| JP2924807B2 (en) | Dynamic type semiconductor memory circuit device | |
| JPS6254891A (en) | Write recovery circuit | |
| JPS63106990A (en) | Static ram |