JPS60247643A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
- Publication number
- JPS60247643A JPS60247643A JP59103742A JP10374284A JPS60247643A JP S60247643 A JPS60247643 A JP S60247643A JP 59103742 A JP59103742 A JP 59103742A JP 10374284 A JP10374284 A JP 10374284A JP S60247643 A JPS60247643 A JP S60247643A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical device
- light
- laser
- optical path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
- G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は可干渉性の光を用いて微細パターンを焼き付け
る場合等に、干渉による悪影響を軽減する光学装置に関
する。
る場合等に、干渉による悪影響を軽減する光学装置に関
する。
従来ＬＳＩ等の微細パター、ンな光リングラフィの手法
で焼き付ける半導体露光装置の光源として、主に超高圧
水鍜ランプあるいは超高圧Ｘｅ−Ｈｇランプが使われて
いた。ところが近時、光リングラフィの使用波長である
紫外域の光を高出力で発振するレーザー（エキシマレー
ザ−等）が開発され、半導体露光装置の新しい光源とし
て注目されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向
性を有するので、光源として使用すると集光光学系の高
効率化が達成されるが、レーザー光特有の強い干渉性が
欠点となる。すなわちレーザー光が干渉することにより
マスク面及び像面においてスペックルが発生し、微細パ
ターン像の再現性が損なわれる。
で焼き付ける半導体露光装置の光源として、主に超高圧
水鍜ランプあるいは超高圧Ｘｅ−Ｈｇランプが使われて
いた。ところが近時、光リングラフィの使用波長である
紫外域の光を高出力で発振するレーザー（エキシマレー
ザ−等）が開発され、半導体露光装置の新しい光源とし
て注目されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向
性を有するので、光源として使用すると集光光学系の高
効率化が達成されるが、レーザー光特有の強い干渉性が
欠点となる。すなわちレーザー光が干渉することにより
マスク面及び像面においてスペックルが発生し、微細パ
ターン像の再現性が損なわれる。
本発明の目的は上記欠点を除去して光線束の可干渉性を
弱めることにより、レーザー光等を用いて微細パターン
を焼き付けてもスペックルが発生しない光学装置を提供
することにある。
弱めることにより、レーザー光等を用いて微細パターン
を焼き付けてもスペックルが発生しない光学装置を提供
することにある。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。まず本発明の基本概念を第１図に示す。
。まず本発明の基本概念を第１図に示す。
ｌはレーザーである。２は集積回路パターンを有するマ
スクで、マスク２の後方に極近接にもしくは投影系をは
さんでウェハーが配される。３から４までは光線束制御
用光学系である。レーザーｌから発したレーザー光は、
光学系３を経てＡ点でｎ個の光線束に分岐され、これら
の光線束はそれぞれ点Ｐ、 ＩＦ５．・・、ｐｎを通過
したのち８点で再び１つになり、多光束発生部材とコリ
メータから成る光学系４を経てマスク２を照射する。と
ころでＡＰ、 Ｂ間、ＡＰ２Ｂ間、・・・・・・、ＡＰ
ｎＢ間の互いの光路長の差がレーザー光の可干渉距離を
越えるようにしておくと、Ｂ点以降では可干渉性が弱め
られ、従ってスペックルの発生を低減することができる
。
スクで、マスク２の後方に極近接にもしくは投影系をは
さんでウェハーが配される。３から４までは光線束制御
用光学系である。レーザーｌから発したレーザー光は、
光学系３を経てＡ点でｎ個の光線束に分岐され、これら
の光線束はそれぞれ点Ｐ、 ＩＦ５．・・、ｐｎを通過
したのち８点で再び１つになり、多光束発生部材とコリ
メータから成る光学系４を経てマスク２を照射する。と
ころでＡＰ、 Ｂ間、ＡＰ２Ｂ間、・・・・・・、ＡＰ
ｎＢ間の互いの光路長の差がレーザー光の可干渉距離を
越えるようにしておくと、Ｂ点以降では可干渉性が弱め
られ、従ってスペックルの発生を低減することができる
。
次に本発明の一実施例として第２図にオプティカルファ
イバーを用いた光学装置の構成図を示す。
イバーを用いた光学装置の構成図を示す。
図中の１．２は第１図の同番号の構成要素に等しく、３
ａはビームエキスパンダー、４ａはレンズアレイ、４ｂ
はコンデンサレンズである。さらにＦｌ。
ａはビームエキスパンダー、４ａはレンズアレイ、４ｂ
はコンデンサレンズである。さらにＦｌ。
Ｆ２．・・・、Ｆｎはオプティカルファイバーを示し、
順次オプティカルファイバーの光路長にレーザー光の可
干渉距離以上の差を持たせている。なお本図ではオプテ
ィカルファイバーを１次元的に配しているが、面状物体
を一括照射する装置では２次元的に配するものとする。
順次オプティカルファイバーの光路長にレーザー光の可
干渉距離以上の差を持たせている。なお本図ではオプテ
ィカルファイバーを１次元的に配しているが、面状物体
を一括照射する装置では２次元的に配するものとする。
エキスパンダー３ａにより径が拡げられてオプティカル
ファイバーの束に入射し、ｎ本の光線束に分岐する。各
光線束はそれぞれオプティカルファイバーを通過したの
ち、レンズアレイ４ａ及びコンデンサレンズ４ｂによっ
て再び一つに重なり合い、マスク２を照射する。ところ
が、すでに各光線束間の光路差が可干渉距離を越えてい
るので、マスク２０面上で干渉し得るのは一本のオプテ
ィカルファイバー内を通る複数の光線のみである。
ファイバーの束に入射し、ｎ本の光線束に分岐する。各
光線束はそれぞれオプティカルファイバーを通過したの
ち、レンズアレイ４ａ及びコンデンサレンズ４ｂによっ
て再び一つに重なり合い、マスク２を照射する。ところ
が、すでに各光線束間の光路差が可干渉距離を越えてい
るので、マスク２０面上で干渉し得るのは一本のオプテ
ィカルファイバー内を通る複数の光線のみである。
従ってマスク２の面上におけるスペックルの発生が低減
される。さらにオプティカルファイバーの本数ｎが大き
いほどこの効果が顕著になることは明らかである。
される。さらにオプティカルファイバーの本数ｎが大き
いほどこの効果が顕著になることは明らかである。
以上説明したように本発明によれば、光線束の可干渉性
を弱めることによりスペックルの発生を防ぐことができ
る。従ってＬＳＩ等の微細パターン焼き付は装置に本発
明による光学装置を適用することによって、レーザー等
、輝度の高い光源の使用が可能となり、装置の高効率化
が達成される。
を弱めることによりスペックルの発生を防ぐことができ
る。従ってＬＳＩ等の微細パターン焼き付は装置に本発
明による光学装置を適用することによって、レーザー等
、輝度の高い光源の使用が可能となり、装置の高効率化
が達成される。
第１図は本発明による光学装置の基本概念を示す説明図
、第２図は本発明の一実施例に係るオプティカルファイ
バー使用の光学装置の構成図である。 ■・・・・・・・・・・・・レーｆ−、２°旧°°マス
ク雫３．４・・・・・・光線束制御用光学系。 ３ａ・・・・・・・・・ビームエキスパンダー。 ４ａ・・・・・・・・・レンズアレイ。 ４ｂ・・・・・・・・・コンデンサレンズ。 Ｐ、〜Ｐｎ−旧・・分岐光路。 Ｆ１〜Ｆｎ ・・・オプティカルファイバー。 第１図 第２図
、第２図は本発明の一実施例に係るオプティカルファイ
バー使用の光学装置の構成図である。 ■・・・・・・・・・・・・レーｆ−、２°旧°°マス
ク雫３．４・・・・・・光線束制御用光学系。 ３ａ・・・・・・・・・ビームエキスパンダー。 ４ａ・・・・・・・・・レンズアレイ。 ４ｂ・・・・・・・・・コンデンサレンズ。 Ｐ、〜Ｐｎ−旧・・分岐光路。 Ｆ１〜Ｆｎ ・・・オプティカルファイバー。 第１図 第２図
Claims (1)
- 可干渉距離が長い入射光を複数の光線束に分岐して、該
複数の光線束をそれぞれ分岐光路に導き、さらに該分岐
光路中で各光線束間に可干渉距離以上の光路差を持たせ
たのち、該各光線束を再び重ね合わせる光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59103742A JPS60247643A (ja) | 1984-05-24 | 1984-05-24 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59103742A JPS60247643A (ja) | 1984-05-24 | 1984-05-24 | 光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60247643A true JPS60247643A (ja) | 1985-12-07 |
Family
ID=14362059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59103742A Pending JPS60247643A (ja) | 1984-05-24 | 1984-05-24 | 光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60247643A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6427362A (en) * | 1987-07-22 | 1989-01-30 | Dainippon Screen Mfg | Laser exposure method for picture scanning recorder |
| US4819033A (en) * | 1986-10-29 | 1989-04-04 | Hitachi, Ltd. | Illumination apparatus for exposure |
| JPH01152411A (ja) * | 1987-09-17 | 1989-06-14 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体露光装置の照明光学系 |
| DE4301716A1 (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-05 | Hitachi Ltd | |
| EP1102058A1 (en) * | 1999-11-17 | 2001-05-23 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for inspecting articles |
| KR100747573B1 (ko) * | 2005-01-06 | 2007-08-08 | 엘지전자 주식회사 | 레이저를 이용한 투사 표시 장치 |
| WO2007132508A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | 照明装置 |
| EP3538948B1 (en) * | 2016-11-09 | 2024-07-31 | The University of Hong Kong | Spatio-temporally incremental fiber swept source |
-
1984
- 1984-05-24 JP JP59103742A patent/JPS60247643A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4819033A (en) * | 1986-10-29 | 1989-04-04 | Hitachi, Ltd. | Illumination apparatus for exposure |
| JPS6427362A (en) * | 1987-07-22 | 1989-01-30 | Dainippon Screen Mfg | Laser exposure method for picture scanning recorder |
| JPH01152411A (ja) * | 1987-09-17 | 1989-06-14 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体露光装置の照明光学系 |
| DE4301716A1 (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-05 | Hitachi Ltd | |
| DE4301716C2 (de) * | 1992-02-04 | 1999-08-12 | Hitachi Ltd | Projektionsbelichtungsgerät und -verfahren |
| EP1102058A1 (en) * | 1999-11-17 | 2001-05-23 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for inspecting articles |
| KR100747573B1 (ko) * | 2005-01-06 | 2007-08-08 | 엘지전자 주식회사 | 레이저를 이용한 투사 표시 장치 |
| WO2007132508A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | 照明装置 |
| JP4841624B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2011-12-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 照明装置 |
| EP3538948B1 (en) * | 2016-11-09 | 2024-07-31 | The University of Hong Kong | Spatio-temporally incremental fiber swept source |
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