JPS60250689A - 液状フオトレジスト処理装置における写真フイルムセツト装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、エツチングレジスト、メツキレシストまたは
ソルダレジスト等に利用される液状フォトレジストを露
光するときにこの液状フォトレジストに対し写真フィル
ムを位置決めする写真フィルムセット装置に関するもの
である。

〔発明の技術的背景〕

現在のプリン１〜基板はパターンの高密度化が進んでお
り、この高密度プリント基板の製造には、品質管理上の
利点からドライフィルムレジストを使うのが普通である
が、このドライフィルムには材料費が高い、完全自動化
が難しいなどの欠点もあり、特にソルダレジスト用ドラ
イフィルムは、パターンの高密度化にともなってフィル
ムレジストが基板面に完全に密着しないことから、はん
だ付は不良を起こすことがある。

そこでプリント基板にもＬＳＩブＯセスと同じように液
状のフォトレジストを使おうという動きが活発になって
きた。

例えば、米国の化学メーカのＷ、Ｒ，ブレース社は、特
開昭５７−１６４５９５号公報に示されるように、基板
上に液状のフォトレジストを均一厚に塗布し、次にこの
液状フォトレジスト上に極わずかな均一間隙を介してオ
フコンタクトで回路パターンを有する写真フィルムを配
置し、次にこの写真フィルムに平行光線を当てて上記液
状フォトレジストを露光し、この液状フォトレジストを
写真フィルムの回路パターンに応じて硬化させ、次に硬
化しなかった液状フォトレジストを除去し、次に露出金
属をエツチングにより除去し、最後に硬化したフォトレ
ジストを除去するプリント基板製造法を開発した。

この液状フォトレジストによるプリント基板製造法は、
回路パターンの高密度化に適し、また製造ラインを完全
に自動化できるとともに材料費も安くてすむ長所がある
。

〔背景技術の問題点〕

ところが、この液状フＡトレジストによるプリント基板
製造法を実施するには、精度の高いレジスト塗布装置や
露光装置が必要である。特に露光装置において、上記液
状フォトレジストと４衰フィルムとの間の間隙は、微小
であるとともに全面にわたって均一であることが要求さ
れるが、従来はこの要求に満足に答えられるものがなか
った。

〔発明の目的〕

本発明は、露光時の液状フォトレジストに対する写真フ
ィルムを高精度にセットできる装置を提供しようとする
ものである。

〔発明の概要〕

本発明の液状フォトレジスト処理装置における写真フィ
ルムセット装置は、基板に均一に塗布した液状フィルム
レジスト上にわずかな均一間隙を介してオフコンタクト
で写真フィルムを配置し、この写真フィルムを経て上記
液状フォトレジストを露光覆ることにより、液状フィル
ムレジストを写真フィルムのパターンに応じて硬化させ
る液状フオＩ−レジスト処理装置において、−Ｖ下動さ
れる枠部材の複数の安定支持位置にそれぞれ係止ピンを
突設し、この各々の係止ピンにガラス枠を上下動自在に
嵌合し、このガラス枠に上記写真フィルムを吸着するガ
ラス板を一体的に設け、上記ガラス枠の複数の安定支持
位置にそれぞれ高さ微調整体を設け、この各々の高さ微
調整体の下端を上記基板を位置決め載支する定盤の上面
に当接させるものであり、上記上下動される枠部材が下
降停止すべき位置より多少オーバーランしても、上記複
数の高さ微調整体がストッパとして定盤の上面に当接し
て、ガラス板全体を定盤上の所定の高さに位置決めでき
、これによりガラス板下面の写真フィルムと基板上の液
状フォトレジストとの間のわずかな間隙を常に一定にか
つ全面にわたって均一間隙に保持できる。さらに本発明
装置は、上記係止ピンとガラス枠との嵌合部に水平方向
のわずかな間隙を設けるとともに、上記ガラス枠の下面
に上記定盤側の複数の位置決め部と嵌合する複数の水平
方向位置決め部を設けたものであり、この両方の位置決
め部の嵌合により定盤に対するガラス枠の水平方向の位
置決めができ、したがって定盤に位置決め載支された基
板とガラス板下面の写真フィルムとの間の水平方向の位
置決めができる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例を参照して説明する。

第１図は、液状フォトレジスト処理装置の一部を示し、
多数積重ねられた基板１の中から１枚ずつを図示しない
トランスフ１マシンによりコンベヤ２上に供給し、静電
除去装置３により静電気やゴミを除去した後に、この基
板を［１−ラ］−夕４に送込み、ローラ５，６間に供給
された液状フォトレジストアを基板上の全面にわたって
均一な膜厚に塗布する。この液状フォトレジストアは、
紫外線硬化性液状樹脂組成物（ＵＶインクなどとも呼ば
れる）であり、紫外線により感光して硬化する性質があ
る。次にこの基板を紫外線防止カバー８を有するコンへ
１７９を経−（Ｂ光装置１０に送込む。

この露光装置１０は、前露光装置１１と、紫外線照射装
置１２と、写真フィルムセット装置１３と、その下側の
定盤１４ど、上下動可能の＝１ンベヤ１５とがらなり、
上記写真フィルムセット装置１３により、上記定盤１４
上に搬入された基板１の上面に塗布されている液状フォ
トレジスト上に０．２〜０．５ｍ＋程の極わずかな全面
均一の間隙を介してオフコンタクトで、回路パターンを
有する写真フィルム（ネガフィルム）を配置し、次にこ
の写真フィルムに紫外線の平行光線を当てて上記液状フ
ォトレジストを感光し、この液状フォトレジストを写真
フィルムの回路パターンに応じて硬化させる。

このようにして回路パターンを転写された基板は、紫外
線防止カバー１７を有するコンベヤ１８を経て図示しな
い現像、水洗工程に送り、硬化しなかった液状フォトレ
ジストを除去し、さらに乾燥工程を経てＵ■硬化炉に送
り、後露光により追硬化を行ない、それからエツチング
工程に送り、露出金属をエツチングにより除去し、最後
に硬化したフォトレジストを除去する。

前記写真フィルムセット装置１３は、第１図および第２
図に示すように、左右面接の４箇所に固定した上下動ガ
イド２１に上下動ベアリング２２を介して口字形の外枠
２３を上下動自在に取付け、この外枠２３の左右部中央
に内端を連結しでなる左右のヂエン２４を左右上部のス
プロケット２５に巻掛けるとともに、この左右のチェノ
２４の外端にバランスウェイト２６を設け、そして上記
左右のスブロケツ１〜２５を、１台のブレーキ付モータ
２７と連動１］ツド２８とによって左右のウオーム減速
１ｉ’２９およびギヤ３０゜３１の噛合を経て反対方向
に回動し、これによりノ［右のチェノ２４の内端を同時
に上下動し、上記外枠２３を上下動覆る。

次に第３図および第４図に示すように、写真フィルムを
装着する側から見て上記外枠２３の左右部内側に前後方
向のスライドユニット３４を設ける。

このスライドユニット３４は、外枠２３に固定したガイ
ドレールに対しスライドレールを摺動自在に嵌合したも
ので、この左右両側のスライドレールに前後方向の引出
・しレール３５を取付け、この両側の引出しレール３５
の後部に横軸３６を介してリンク３７の後部を回動自在
に軸着し、この両側のリンク３７の前部間に横軸３８を
介して写真フィルム保持用のフォトツール３９の比較的
前側部の左右側面を回動自在に軸着し、この）Ａ１〜ツ
ール３９の比較的後側部の左右側面に上記レール３５上
で転勤するローラ４０を軸着し、上記左右のレール３５
の比較的前側部に上記ローラ４０を係止するストッパ４
１を設ける。

なお上記フォトツール３つの比較的前側部の左右側面に
も上記レール３５で支持されるローラ４２を軸着するが
、これはローラでなくてもよい。

上記フォトツール３９は、上記外枠２３と一体的に上下
動されるとともに上記前部横軸３８を中心に反転される
反転枠４５と、この反転枠４５の下面の複数の安定支持
位置に突設された係止ピン４６にし杉板４７を介し上下
動自在に嵌合したガラス枠４８と、このガラス枠４８に
２本の位置決めピン４９によって位置決めされるととも
に多数の係止爪５０により一体に設けられたガラス板５
１どの複数の部拐がら構成されている。上ｆｉａガラス
板５１は、第５図に示ｔ　、Ｊ、うに下面に写真フィル
ム（ネカフイルム）５２を吸着する。

上記ガラス枠４８は、その複数の安定支持位置にそれぞ
れ高さ微調整体としてのマイクロメータヘッド５５を設
けてなり、第５図に示すように、この各々のマイクロメ
ータヘッド５５の可動軸部５６の下端を、前記基板１を
位置決め載支づる定盤１４の１−面に当接させるように
する。

したがってモータ２７の制御の困難性から反転枠４５が
下降停止すべき位置より多少オーバーランしても、上記
複数のマイクロメータヘッド５５がストッパとして定盤
１４の上面に当接して、ガラス板５１の全体を定盤上の
所定の高さに位は決めでき、これによりガラス板５１の
下面の写真フィルム５２と基板１上に塗布された液状フ
ォトレジスト５７どの間の０．２〜０．５＃程のわずか
な間隙５８を常に一定にかつ全面にわたって均一間隔に
保持できる。

ざらに第５図に示すように前記反転枠４５の係止ピン４
６とガラス枠４８の１−杉板４７との嵌合部に水平方向
にもわずかな間隙６１を設けるとともに、第３図および
第４図に示すように上記ガラス枠４８の下面に１記定盤
１４の２箇所の位置決め部としての孔満６２と嵌合する
２個の水平方向位置決め部としてのピン６３を突設する
。そうして、上記定盤１４の孔１６２にガラス枠４８の
ピン６３のテーバ付ピン先を嵌合することにより、定盤
１４に対するガラス枠４８の水平方向の位置決めが正確
にできる。さらに上記定盤１４に対し基板１は、第１図
に示す上下動コンベヤ１５の下降にともない、第３図に
示す定盤上の２箇所の位置決めピン６４に嵌合して正確
に位置決めされているか”ら、基板１に対り−るガラス
枠４８、ガラス板５１およびガラス板下面の写真フィル
ム５２の水平方向の位置決めも正確にできることになる
。

上記ガラス板５１は、第６図に示すように、下面に無端
状の凹溝６５を設けてなり、この凹溝６５の一部に穿設
した吸気孔６６に図示しないチューブを介し真空ポンプ
を接続する。そうして、上記凹溝６５の真空吸引作用に
よって写真フィルム５２をガラス板５１に密着保持する
。

次に上記ガラス板５１に写真フィルム５２を装着すると
ぎは、第３図に示す−ように反転枠４５の前部に設けた
把手６７を持って手前に引寄せると、左右の引出しレー
ル３５およびその間のフォトツール３９がスライドユニ
ツ１〜３４の働きによっ゛Ｃ外枠２３から引出され′、
さらに上記把手６７を引−りげると、リンク・３１が後
部横軸３６を中心に上方に回動され、このリンク３７の
回動によって上昇する前部横軸３８を中心にフォトツー
ル３９が回転しながら上背される。この・とき同時に後
部のローラ４０がレール３５土を手前に移動される。そ
してこの日７シ４０が前部横軸３８の下方にき１＝ら上
記把手６７を後方に測寸ど、第２図に示すようにフォト
ツール３９の下面づなわちガラス板５１の下面が作業者
よりやや下側で作業者に対向するように斜め上側に反転
され、この状態でローラ４０がストッパ４１により係止
される。このようにガラス板５１は、作業者がこのガラ
ス板５１の下面に写真フィルム５２を装着するのに最も
適した姿勢に反転され、しかもその操作は、把手６７を
引寄せな゛がら引上げ、やや後方に押すのみの簡単なも
のであり、作業性がよい。

なお前記ガラス枠４８の高さ微調整体としてマイクロメ
ータのヘッド５５を利用したから、フィルム５２と液状
フォトレジスト５７との間の間隙の調整および変更が極
めて容易に行なえる利点がある。

最後に、上記実施例はエツヂレグレジスト法について説
明したが、本発明の写真フィルムセラ１〜装置は、メツ
キレシスト法またはソルダレジスト法においても同様に
利用できる。

たとえばメツキレシスト法では、基板に液状フォトレジ
ストを塗布し、この液状フォトレジストの上側に本装置
により写真フィルムを配置し、この写真フィルムを経て
平行光線で液状フォトレジストを露光し、硬化しなかっ
た液状フォトレジストを除去し、この液状フＡ］−レジ
スト除去部分の露出金属表面に金属メッキを行ない、次
に硬化した液状フォトレジストを除去し、この硬化レジ
スト除去部分の露出金属を除去する。

さらにソルダレジスト法では、基板に液状フォトレジス
トを塗布し、この液状フォトレジストの上側に本装置に
より写真フィルムを配置し、この写真フィルムを経て平
行光線で液状フＡ１〜レジストを露光し、硬化しなかっ
た液状フォトレジストを除去し、このレジスト除去部分
の露出金属表面にはんだを付着させる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、上下動される枠部材に設けた係止ピン
にガラス枠を上下動自在に嵌合し、このガラス枠の複数
の安定支持位置に高さ微調整体を設けたから、モータ制
御の困難性や上下動部材の慣性により上下動される枠部
材が下降停止すべき位置より多少オーバーランしても、
上記高さ微調整体によりガラス板下面の写真フィルムと
基板上の液状フォトレジストとの間のわずかな間隙の間
隔精度を全面にわたって均一にかつ高精度に設定するこ
とができる。さらに本発明は、上記係止ピンとガラス枠
との嵌合部に水平方向のわずかな間隙を設けるとともに
、上記ガラス枠の下面に定盤側の位置決め部と嵌合する
複数の水平方向位置決め部を設けたので、その嵌合によ
り定盤上の基板とガラス板下面の写真フィルムとの間の
水平方向の位置決めも高精度にできる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の写真フィルムセラ］・装置に係るものであ
り、第１図は液状フォトレジスト処理システムの一部を
示す正面図、第２図は第１図の■−■線断面図、第３図
は第２図の■−■轢断面図、第４図は第３図の■−ｒＶ
線断面図、第５図は第４図の一部を拡大した断面図、第
６図はそのガラス板の斜視図である。 １・・基板、１４・・定盤、４５・・上下動される枠部
材、４６・・係止ピン、４８・・ガラス枠、５１・・ガ
ラス板、５２・・写真フィルム、５５・・高さ微調整体
としてのマイクロメータヘッド、５７・・液状フォトレ
ジスト、５８・・間隙、６１・・間隙、６２・・位置決
め部としての孔溝、６３・・水平方向位置決め部として
のビン。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 く１）　基板に均一に塗布した液状フォトレジスト上に
   わずかな均一間隙を介してオフコンタクトで写真フィル
   ムを配置し、この写真フィルムを経て上記液状フォトレ
   ジストを露光り−ることにより、液状フォトレジストを
   写真フィルムのパターンに応じて硬化させる液状フォト
   レジスト処理装置において、上下動される枠部材の複数
   の安定支持位置にそれぞれ係止ピンを突設し、この各々
   の係止ピンにガラス枠を上下動自在に嵌合し、このガラ
   ス枠に上記写真フィルムを吸着するガラス板を一体的に
   設け、上記ガラス枠の複数の安定支持位置にそれぞれ高
   さ微調整体を設け、この各々の高さ微調整体の下端を上
   記基板を位置決め載支する定盤の上面に当接させること
   を特徴とする液状フォトレジスト処理装置における写真
   フィルムセット装置。、 （２）　高さ微調整体はマイク［１メータヘツドとり−
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の液状フ
   ォトレジスト処理装置における写真フィルムセット装置
   。 （３）　基板に均一に塗布した液状フォトレジスト上に
   わずかな均一間隙を介してオフコンタクトで写真フィル
   ムを配置し、この写真フィルムを経て上記液状フォトレ
   ジストを露光することにより、液状フォトレジストを写
   真フィルムのパターンに応じて硬化させる液状フォトレ
   ジスト処理装置において、上下動される枠部材の複数の
   安定支持位置にそれぞれ係止ピンを突設し、この各々の
   係止ピンにガラス枠を上下動自在に嵌合し、このガラス
   枠に上記写真フィルムを吸着するガラス板を一体的に設
   け、上記ガラス枠の複数の安定支持位置にそれぞれ高さ
   微調整体を設け、この各々の高さ微調整体の下端を上記
   基板を位置決め載支する定盤の上面に当接させるように
   し、上記係止ピンとガラス枠との嵌合部に水平方向のわ
   ずかな問隙を設けるとともに、上記ガラス枠の下面に上
   記定盤側の複数の位置決め部と嵌合する複数の水平方向
   位置決め部を設けたことを特徴とする液状フォトレジス
   ト処理装置における写真フィルムヒツト装置。