JPS60251185A - 輻射体 - Google Patents
輻射体Info
- Publication number
- JPS60251185A JPS60251185A JP59105827A JP10582784A JPS60251185A JP S60251185 A JPS60251185 A JP S60251185A JP 59105827 A JP59105827 A JP 59105827A JP 10582784 A JP10582784 A JP 10582784A JP S60251185 A JPS60251185 A JP S60251185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiator
- emissivity
- base material
- coating
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5053—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials non-oxide ceramics
- C04B41/5062—Borides, Nitrides or Silicides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は暖房器や調理器の赤外線輻射体に関する。
従来例の構成とその問題点
暖房器や調理器の赤外線輻射体には一例として、金属の
基材の上にセラミックス被膜をプラズマ溶射で形成した
もの、又はセラミツクスのバルクの成形体や金属の成形
体などを使っている。
基材の上にセラミックス被膜をプラズマ溶射で形成した
もの、又はセラミツクスのバルクの成形体や金属の成形
体などを使っている。
上記輻射体の耐熱性、耐熱衝撃性、赤外線輻射率成形性
、製造コストを第１表に示した。
、製造コストを第１表に示した。
第１表
輻射体が、耐熱、耐熱衝撃性に劣ると、機器の寿命が短
くなり、輻射率が低いと高効率の輻射加熱ができない。
くなり、輻射率が低いと高効率の輻射加熱ができない。
成形性が悪ければ、使用する場所、形に制限がある。
プラズマ溶射によるセラミックス被膜は輻射率は高いが
、膜厚が厚いために熱衝撃に弱く、膜がはくりしやすく
、膜を造るにも構造の複雑なものについては無理な点が
あり、コストも高い。
、膜厚が厚いために熱衝撃に弱く、膜がはくりしやすく
、膜を造るにも構造の複雑なものについては無理な点が
あり、コストも高い。
七うミックスバルクは熱的に優れているが成形性コスト
の点で問題がある。
の点で問題がある。
金属基材については、成形性、コストに問題ないが、耐
熱性に問題があり、しかも輻射率が低いので効率の高い
輻射加熱ができない。
熱性に問題があり、しかも輻射率が低いので効率の高い
輻射加熱ができない。
発明の目的
本発明は上記の問題を解消するもので、耐熱性。
耐熱衡撃性に優れ、赤外線の輻射率が高く、成形性の優
れた低コストの輻射体を提供することを目的とする。
れた低コストの輻射体を提供することを目的とする。
発明の構成
上記目的を達成するだめに本発明の輻射体は、ＺｒＯ２
、Ｔ：０２ 、 ＡＡ！２０３ 、 Ｓ、０２．Ｃ８０
２を固溶したＺｒ０２（以下ＺｒＯ２−Ｃ８０２とする
）のうちいずれか一種以上の酸化物粒子と、ｓ ｓ ｃ
、 Ｓ ｓ ３Ｎ４のいずれか一方の粒子と、ボロシ
ロキサン樹脂の硬化体とから成る被膜を、金属、セラミ
ックスのいずれかの基材上に形成し、前記被膜を輻射面
とする構成である。
、Ｔ：０２ 、 ＡＡ！２０３ 、 Ｓ、０２．Ｃ８０
２を固溶したＺｒ０２（以下ＺｒＯ２−Ｃ８０２とする
）のうちいずれか一種以上の酸化物粒子と、ｓ ｓ ｃ
、 Ｓ ｓ ３Ｎ４のいずれか一方の粒子と、ボロシ
ロキサン樹脂の硬化体とから成る被膜を、金属、セラミ
ックスのいずれかの基材上に形成し、前記被膜を輻射面
とする構成である。
前記構成によると被膜が金属よりも耐熱性に優れている
ために、基材が金属の場合には基材の熱劣化を防止する
。又、熱衡撃に対して柔軟であるので、熱衡撃による膜
のはぐりも発生しにくくなる。又、酸化物粒子やポロシ
ロキサン樹脂硬化体の光学的作用により赤外線輻射率が
０．８〜０．９と高くなる。
ために、基材が金属の場合には基材の熱劣化を防止する
。又、熱衡撃に対して柔軟であるので、熱衡撃による膜
のはぐりも発生しにくくなる。又、酸化物粒子やポロシ
ロキサン樹脂硬化体の光学的作用により赤外線輻射率が
０．８〜０．９と高くなる。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について図面に基づいて説明する
。
。
第１図は本発明の輻射体の一実施例部分拡大平面図で、
網状の金属基材上に被膜を形成している。
網状の金属基材上に被膜を形成している。
第２図は第１図の要部拡大断面図である。第２図ニオイ
テ、Ｚ、０２ 、 ＴｌＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ｓ、ｏ、２
゜Ｚ ｒ０２−Ｃ，０２のいずれか一種以上の酸化物粒
子１と、Ｓ１ｃ 、 Ｓｉ３Ｎ４のいずれかの粒子２と
、ボロシロキサン樹脂の硬化体Ｇとから成る被膜を金属
基材４上に形成している。
テ、Ｚ、０２ 、 ＴｌＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ｓ、ｏ、２
゜Ｚ ｒ０２−Ｃ，０２のいずれか一種以上の酸化物粒
子１と、Ｓ１ｃ 、 Ｓｉ３Ｎ４のいずれかの粒子２と
、ボロシロキサン樹脂の硬化体Ｇとから成る被膜を金属
基材４上に形成している。
以下、上記構成における作用について説明する。
ボロシロキサン樹脂は一例として次式の様な購造をもち
、常温ではトルエン、キシレンといった有機溶剤に溶け
るなどの有機の性質を示す。前記ボロシロキサン樹脂を
６００℃以上に加熱すると、フェニル基などの有機分が
分解蒸発して捜査はＳｉ、Ｂ、○の３元素から成る無機
質のボロシロキサン樹脂の硬化体となる。このようにし
てできるポロシロキサン樹脂硬化体は耐熱温度が１００
０℃以上と高く、金属基材上に被膜形成することにより
、金属の熱劣化を防止する。
、常温ではトルエン、キシレンといった有機溶剤に溶け
るなどの有機の性質を示す。前記ボロシロキサン樹脂を
６００℃以上に加熱すると、フェニル基などの有機分が
分解蒸発して捜査はＳｉ、Ｂ、○の３元素から成る無機
質のボロシロキサン樹脂の硬化体となる。このようにし
てできるポロシロキサン樹脂硬化体は耐熱温度が１００
０℃以上と高く、金属基材上に被膜形成することにより
、金属の熱劣化を防止する。
また、ポロシロキサン樹脂硬化体はボロシロキサン樹脂
の有機分が分解蒸発した跡に多数の空孔をもち、急激な
熱衡撃による被膜の膨張収縮を前記空孔で吸収緩和する
ことができるので、熱衡撃による膜のはくりが発生しに
くい。
の有機分が分解蒸発した跡に多数の空孔をもち、急激な
熱衡撃による被膜の膨張収縮を前記空孔で吸収緩和する
ことができるので、熱衡撃による膜のはくりが発生しに
くい。
本実施例によれば１０００℃の雰囲気から水温に急激に
冷却しても被膜のはぐりは発生せず、この熱サイクルを
１０回くり返しても結果は同様であった。
冷却しても被膜のはぐりは発生せず、この熱サイクルを
１０回くり返しても結果は同様であった。
次に光学的作用について説明する。
物質に光を照射すると、光の反射、透過、吸収がおこる
。反射光、透過光、吸収光の入射光に対する強度比をと
ると、反射率ｒ、透過率ｔ、吸収率ａになり、ｒ＋ｔ＋
ａの和は１になる。
。反射光、透過光、吸収光の入射光に対する強度比をと
ると、反射率ｒ、透過率ｔ、吸収率ａになり、ｒ＋ｔ＋
ａの和は１になる。
ｒ ＋ ｔ ＋ ａ ＝ １
キルヒホッフの法則により吸収率ａは輻射率εに等しい
から ｒ ＋ を十ε＝１ でもある。本実施例の様に光の透過がない場合はｒ 十
ａ ＝ ｒ＋ε＝１ である。よって、吸収率（輻射率）を高くするには反射
率を低くすればよい。
から ｒ ＋ を十ε＝１ でもある。本実施例の様に光の透過がない場合はｒ 十
ａ ＝ ｒ＋ε＝１ である。よって、吸収率（輻射率）を高くするには反射
率を低くすればよい。
本実施例によるＳ １Ｃ、Ｓ ｔ ３Ｎ４は可視光から
波長約８μｍの赤外線までの反射率が低く、輻射体とし
て８μｍより短波長の赤外線の輻射率を高くなる粒子を
分散させ、光を被膜中で散乱吸収したらよい。前記酸化
物粒子は屈折率がボロシロキサン樹脂硬化体と異なり光
の吸収率（輻射率）を高くする。
波長約８μｍの赤外線までの反射率が低く、輻射体とし
て８μｍより短波長の赤外線の輻射率を高くなる粒子を
分散させ、光を被膜中で散乱吸収したらよい。前記酸化
物粒子は屈折率がボロシロキサン樹脂硬化体と異なり光
の吸収率（輻射率）を高くする。
次に、本実施例の輻射体の成形性について説明する。本
発明による輻射体は基材上に、前記酸化物粒子”ｃ、ｓ
ｌｃか” ｉ ３Ｎ４と、ボロシロキサン樹脂の混合物
を塗装した後、加熱硬化することで造られるが、この方
法だと、基材が第１図の様に多くの端面をもっていても
被膜の形成が容易になる。
発明による輻射体は基材上に、前記酸化物粒子”ｃ、ｓ
ｌｃか” ｉ ３Ｎ４と、ボロシロキサン樹脂の混合物
を塗装した後、加熱硬化することで造られるが、この方
法だと、基材が第１図の様に多くの端面をもっていても
被膜の形成が容易になる。
以下、本実施例による輻射体の製造法の一例について説
明する。
明する。
平均粒子径が０．３μｍ前後のＺｒＯ２’ｅｏ２とＡ１
２ｏ３ とＳＩＣと、ボロン”−サン樹脂（例えば、昭
和電線電纜（株）のＳＭＰ−３２）と、トルエン←葎４
ｓｈｉｉ−を第２表の組成で配合、攪拌し、塗料化した
。その後、ステンレス基材上に塗布して、３００℃で３
０分、７５０℃で３０分加熱硬化した。このようにして
造られた輻射体の膜厚は１５〜２０μｍと薄いが、波長
２〜６μｍで輻射率が第２表 くのように塗装方式で造られる輻射体は、従来のプラズ
マ溶射によるものやセラミソクヌバルりに比べてコスト
が安くなる。
２ｏ３ とＳＩＣと、ボロン”−サン樹脂（例えば、昭
和電線電纜（株）のＳＭＰ−３２）と、トルエン←葎４
ｓｈｉｉ−を第２表の組成で配合、攪拌し、塗料化した
。その後、ステンレス基材上に塗布して、３００℃で３
０分、７５０℃で３０分加熱硬化した。このようにして
造られた輻射体の膜厚は１５〜２０μｍと薄いが、波長
２〜６μｍで輻射率が第２表 くのように塗装方式で造られる輻射体は、従来のプラズ
マ溶射によるものやセラミソクヌバルりに比べてコスト
が安くなる。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得ることができ
る。
る。
（１）被膜の耐熱性、耐熱衝撃性が、金属よりも優れて
いるので機器の長寿命化が図れる。
いるので機器の長寿命化が図れる。
（２）赤外線の輻射率が高いので、高効率で輻射加熱が
できる。
できる。
（３）塗装方式であるから、成形性がよいし、製造コス
トも安くなる。
トも安くなる。
第１図は本発明の一実施例である輻射体の部会拡大平面
図、第２図は第１図の要部拡大断面図である。 １ ・・・・酸化物粒子、２・・・・・・Ｓ、Ｃ又は５
１３Ｎ４粒子、３・・・・・・ボロシロキサン樹脂硬化
体、４・・・・・・金属基材。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
図、第２図は第１図の要部拡大断面図である。 １ ・・・・酸化物粒子、２・・・・・・Ｓ、Ｃ又は５
１３Ｎ４粒子、３・・・・・・ボロシロキサン樹脂硬化
体、４・・・・・・金属基材。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
Claims (1)
- ＺｒＯ２、ＴｌＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｃ，０２
を固溶したＺｒＯ２のうちいずれか一種以上の酸化物粒
子と、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４のいずれか一方の籾子と、ポ
ロシロキサン樹脂の硬化体とから成る被膜を、金属、セ
ラミックのいずれかの基材上に形成し、前記被膜を輻射
面とした輻射体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59105827A JPS60251185A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59105827A JPS60251185A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251185A true JPS60251185A (ja) | 1985-12-11 |
Family
ID=14417884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59105827A Pending JPS60251185A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60251185A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62167271A (ja) * | 1986-01-20 | 1987-07-23 | 松下電器産業株式会社 | 赤外線輻射被膜 |
| JPH03193683A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-08-23 | Soc Atochem | セラミック被覆、その製造方法及び該方法で被覆した支持体 |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP59105827A patent/JPS60251185A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62167271A (ja) * | 1986-01-20 | 1987-07-23 | 松下電器産業株式会社 | 赤外線輻射被膜 |
| JPH03193683A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-08-23 | Soc Atochem | セラミック被覆、その製造方法及び該方法で被覆した支持体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2624291B2 (ja) | 遠赤外線ヒータ | |
| TW202012552A (zh) | 高發射率塗覆組成物及以之塗覆之基材 | |
| US4839316A (en) | Protective coating for alumina-silicon carbide whisker composites | |
| JPS60251185A (ja) | 輻射体 | |
| Tian et al. | Oxidation Resistance of Al PO 4 Bonded Ceramic Coating Formed on Titanium Alloy for High‐Temperature Applications | |
| JPS6354314B2 (ja) | ||
| JPH11181969A (ja) | 耐汚染性に優れた高反射性表面処理板 | |
| JP7247846B2 (ja) | 調理器用トッププレート及びその製造方法 | |
| JPS60134126A (ja) | 遠赤外線輻射体 | |
| JPS60251322A (ja) | 輻射体 | |
| JPH0684270B2 (ja) | 赤外線輻射被膜 | |
| JPH0292530A (ja) | 熱輻射体 | |
| JPS61149740A (ja) | 輻射体 | |
| JPS60190569A (ja) | 赤外線輻射被膜 | |
| JPS6199290A (ja) | 輻射体 | |
| JPS61147484A (ja) | 幅射体 | |
| JPS60213743A (ja) | 赤外線輻射体 | |
| JPH0363192B2 (ja) | ||
| JPH0134957B2 (ja) | ||
| JPS5856236B2 (ja) | 遠赤外線放射素子の製造法 | |
| JPS6196688A (ja) | 赤外線放射体 | |
| JPS6349638A (ja) | 赤外線輻射体 | |
| KR102512561B1 (ko) | 원적외선 방사 코팅제 조성물 | |
| JPS60251186A (ja) | セラミツク系の赤外線高効率輻射層を表面に有する耐熱焼結体 | |
| JPH0321501B2 (ja) |