JPS60255172A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はいわゆるスライドホッパーを用いて液状の塗布
ｇを支持体上に塗布する方法に関し、特に複数の層状態
で流動する塗布液を、移動する帯状支持体（本明細書に
おいて「ウェブ」という。

）上に同時に付与するための多層同時塗布方法に関する
。

〔従来の技術〕

従来、複数の層からなる多層同時塗布方法に関する技術
は、多くの薄層を必要とするハロゲン化銀写真感光材料
の製造に関連して高度に開発されている。

かかる多層同時塗布方法としては、スライドホッパーを
用二九塗布法が好ましい方法として採用されている。

従来スライドホッパー法においては、生産効率向上の観
点から塗布速度をいかに増加させるかが課題の一つとさ
れている。

しかし、塗布速度を増加させようとすると、同じ塗布膜
厚を得るには、時間当りの乾燥すべき水分量が増加する
ため、乾燥能力を一定に（７た場合必然的に塗布膜厚を
薄くする必要がある。

そこで薄膜化しようとすると、写真性能を維持する観点
からゼラチン付置及び−・ロゲン化銀付置全同一にしケ
ければならないという制約があるため、塗布液中のゼラ
チン濃度全増加させることが必要となる。これは塗布液
の粘度を上昇させる結果となる。故に薄膜化は通常塗布
液の粘度上昇を伴うことになり、以下のような弊害があ
ることが判つｆｃ、。

即ち、薄膜化を行って、例えば最下層塗布液の粘度を１
５〜２０センチボイス（ｃｐｓ）以上、かつ塗布速度ｆ
１５０ｍ／ｍｉｎ以上の高速塗布を行うと、数欄ピッチ
で、ウェブ走行方向に通った非常に規則的な塗布故障が
生ずることが判った。この故障の原因は現在のところ定
かではないが、その−因として塗布部においてウェブに
最初に接触する最下層塗布液とウェブとの濡れの不良が
考えられる。

かかる塗布故障を解決するには、最下層の粘度を低粘度
化すればよいが、単に低粘度化するだけではウェット膜
厚が厚くなってしまう。

そこで、トータルの膜厚を厚くすることなく最下層を低
粘度化し、もって薄膜化を可能にする従来技術として、
特公昭５６−２０５３４号、特開昭５７−９９３６７号
公報に記載の塗布技術が知られている。かかる技術にお
いても最下層を低粘度化するためには、ゼラチン濃度を
下げる必要があり、その上層との間に儂度差がつくこと
になる。

そのため塗布直後塗布層の流動化を止め、その後の乾燥
ゾーンでの風量アップを可能にし、乾燥効率を上げるた
めに塗布層をゲル化するセットゾーンを設けている。こ
のゲル化ゾーンは設備のレイアウト上塗布直後垂直にウ
ェブを搬送し、冷風を塗布層に当てゲル化されるように
構成されている。

このようにゲル化ゾーンを構成した場合には、最下層と
その上層との間にゼラチン濃度の差があると、ゲル化点
が異なり、尚該ゲル化ゾーンのある位置においては最下
層がゲル化せず、その上層がゲル化している現象が生ず
ることになる〇従って上記従来の方法では上記現象に加
えて上層の膜厚が最下層の膜厚に比べて厚いことから、
最下層が垂直下方へ流動化して最下層及びその上層がズ
Ｖて、塗布ムラを生じてしまうという欠点があった。

他方特開昭５４−１３５０号、同５．６−１０８５６６
号公報に記載の方法では、ゲル化ゾーンでのすり速度の
値が非常に小さく、かつ最下層の粘度も高く、流動しに
ぐいため、上記のような塗布ムラは生じにくい。

しかしすり希薄性増粘剤を使用する必要があり、写真性
能上特に支持体との膜付きを劣化させるため好ましくな
い。又やむを得ず使用する場合でも、増粘剤選択に制限
を辱えるという欠点がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記従来技術の欠点を解決することを課題とす
るもので、詳しくはウェブ疋行方向に通った規則的なス
ジ故障あるいはゲル化ゾーンで発生する塗布ムラを防止
し、かつ乾燥能力を増加させることなく塗布速度を増加
させ、もって生産効率を向上させることを技術的課題と
する。また本発明は従来用いられたいたすり希薄性増粘
剤を使用することもなく、従って写真性能全劣化させる
ことなく高速薄膜化全可能にすることを技術的課題とす
る。

〔問題を解決するための手段〕

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果
、複数の塗布液を、移動しているウェブ上に同時に施し
て層形成させる多層同時塗布方法において、前記ウェブ
に隣接する最下層を粘度１５Ｃｐｓ以下の塗布液を用い
てウェブ）［厚１０μｍ以下となるように塗設し、かつ
上記最下層の上に隣接する第２層を前記最下層の塗布液
粘度より高い粘度の塗布液を用いてウエツｌｌ］ｔ＆厚
が前記最下層より薄くなるように塗設し、かつ前記第２
層の上に隣接する第３層を前記第２層の塗布液粘度より
高い粘度の塗布液を用いて塗設することを特徴とする塗
布方法によって上記技術的課題を解決し得ることを見い
出し、本発明を完成するに至ったものである。

即ち、本発明は塗布条件としての粘度、ウェット膜厚、
ゼラチン濃度を限定したことを特徴とするものであり、
その限定内容及びその効果等を詳述する。

（粘度） 最下層の塗布液粘度は１５　ｃｐｓ以下とする。これに
工りウェブ走行方向に通った規則的なピッチのスジ故障
を防止できる。これは低粘度とすることにより濡れを向
上できるためと思われる。

また最下層から第３層までの粘度を段階的に増加する。

第２層の液粘度は通常１５〜５０　ｃｐｓが望ましく、
第３層の液粘度は２０〜１００　ｃｐｓが望ましい。第
４層以降を設ける場合には、粘度の制限は特にないが、
通常第３層と同様にすることが望ましい。

（ウェット膜厚） 最下層のウェブ）［厚は１０μｍ以下にする。

第２層は最下層よシ薄く形成し、５〜１０μｍが望まし
い。第３層以降は特に制限されない。

以上のように塗布液粘度及びウェット膜厚を限定するこ
とにより、各層間のズレを防止でき、第３層以降の塗布
液の濃縮化による薄膜化が可能とな夛、塗布故障を生ず
ることなく、１５０＋ｎ／ｍｉｎ以上の高速塗布が可能
となる。

また本発明の方法を写真用感光材料作成に用いる場合、
好ましい実施態様としては、最下層と第２層の塗布液の
ゼラチン濃度の差を３ｗｔ￥以下にすることがあげられ
る。この場合最下層のゼラチン濃度は通常１〜６ｗｔに
である。このようにゼラチン濃度差を３ｗｔに以下とし
、かつ前記のように第２層の膜厚を薄くすることによ）
、ゲル化ゾーンでのズレによる塗布ムラを防止できる。

最下層と第２層のゼラチン濃度差を３ｗｔに以下にする
ことができるのは、第２層の膜厚を薄くしたことにより
、ズレが発生しにりくすったためと思われる。更に第２
層と第３層のゼラチン濃度差は２ｗｔに以下となるよう
にすることが望ましい。

本発明法に用いられる塗布液は、ハロゲン化銀写真感光
材料製造の場合には、ハロゲン化銀乳剤及びゼラチン等
が用いられる。該乳剤等には、感光性ハロゲン銀以外に
公知の添加物を含有することができる。該添加物として
は、例えば界面活性剤、帯電防止剤、ｌｉｉ！膜剤、増
感剤、分散剤、消泡剤、カプリ防止剤、安定剤、酸化防
止剤、螢光増白剤、紫外線吸収剤、画像退色防止剤、潜
像安定化剤、マット剤、感光色素、染料、顔料、媒染剤
など、もしくはそれらの親水性溶剤または銀塩拡散転写
用物理現像核などがあげられる。また、これらの塗布液
中には、水または親水性溶媒、例えハメタノール、エタ
ノール、エチレングリコールなどを含有してもよく、さ
らには親水性高分子化合物、例えばゼラチンが含有され
る。

上記乳剤とゼラチンは、粘度や濃度等が前記のように調
整され、支持体上に層状に塗布される。

本発明において、各層に乳剤又はゼラチンのいずれを塗
布するかは特に限定されず、任意に組合せることができ
る。

次に、本発明に係る塗布方法を三層同時塗布用のスライ
ドホッパー型塗布装置を用いて実施する場合の好ましい
実施態様を添付図面に基いて説明する。

第１図は、本発明に係る塗布方法にその一例として用い
られる三層同時塗布用のスライドホッパー型塗布装置の
一部を示す概略側面図である。

図において、１は矢印方向に回転するロール、２は帯状
の支持体であるウェブ、３はビード部、４．５及び６は
塗布液を供給する細長い通路であるスロット、７は塗布
液が流下していくスライド面、８は前記ウェブ２に接触
する最下層を形成する塗布液、９は該最下層の上層に位
置する中間層（第２層）を形成する塗布液、１０は本発
明に用いる最上層（第３層）を形成する塗布液である。

該ウェブ２は、モーター（図示せず）により搬送され、
ロール１の回転によって、矢印方向に連続して移送され
る。＃塗布液８，９および１０は、最下層、第２層およ
び第３層の各々がスロット４、スロット５、スロット６
の各々を経て、スライド面７に沿って送液され、重力に
よって流下し、周知の如くビード部３にて半径方向の変
化を受けてウェブ２の表面に引き上げられる。その結果
次第に層状となシ、薄い層が形成される。

本発明において用いる塗布液は、最下層８、第２層９及
び第３層１０のすべてについて同種類のハロゲン化銀乳
剤を用いることができる。この場合図示のように−・ロ
ゲン化銀乳剤を図示しない同一の送液釜から送液し、こ
れを３分割し、最下層８のライン８Ａ及び第２１−９の
ライン９Ａに水をライン注入して希釈可能に構成するこ
ともできる。

これにより、ゼラチン濃度の変化も可能となり、簡単な
設備で、高速薄膜化を可能にする。図中、１１はライン
ミキサー、Ｆｌは流量計を示す。

各層の塗布液組成は上記３層のうち２層のみが同種類の
液であってもよいし、また３層とも異なる液組成であっ
てもよい等、種々の組成の液を組み合せることができる
。

〔実施例〕

以下、本発明の方法を従来法と対比して具体的に説明す
る。

実施９ｌ−１ （従来の塗布方法（比較方法）） （１）薄膜化していない方法（比較方法−人）表−１ 上記表−１に示すような層構成になるように、カラーペ
ーパー支持体（ＲＣ−ベーノクー）に第１図に示すスラ
イドホッパーを用いて塗布（全ウェット膜厚＝１２５μ
ｍ）した。

（２）薄膜化した方法（比較方法−Ｂ）比較方法−人の
塗布液と同じものを用いて、下記表−２に示すように層
構成した０ 表−２ 上記のように濃縮化し、全ウェット膜厚７３μｍとなる
ように薄膜化して、高速塗布を行ったところ、１５０ｍ
／ｍｉｎ以上では、ピッチ３〜４簡のウェブ走行方向に
通った規則的なスジ故障が発生し、均一な塗布性が得ら
れなかった。

（３）最下層に低粘度塗布液を導入した方法（比較方法
−〇） 比較方法−８において最下層に、粘度３．５ｃｐｓ。

ゼラチン濃度３ｗｔπのゼラチン水溶液をウェット膜厚
γμｉとなるように塗布し、その上に比較方法−８に示
す層と同じ塗布層を形成し、全ウェット膜厚を８０μｍ
となるように塗布したところ、２００　ｍ／ｍｉｎの塗
布速度でも前述のスジ故障は発生しなかった。しかし、
ゲル化ゾーンにてウェブ走行方向に第２層液が流れたよ
うなムラが発生した。

（本発明の方法） 比較方法−Ｃと同様に、最下層に下記表−３に示すゼラ
チン水溶液の層を塗布し、かつ比較方法−８の最下層を
２分割して下記表−３のように第２層、第３層を形成し
、第４層以降は比較方法−Ｂの第２層以降と同じにした
。全ウェット膜厚は８１．７μｍであった。

表−３ 上記のように塗布したところ、スジ故障、塗布ムラとも
ない均一な塗布性が２００ｍ／分の塗布速度にても得ら
れた。しかも比較方法−Ｃにおける全膜厚８０／＃に対
し、わずか１．７．＃の増加で均一塗布が可能となった
。

実施例−２ （従来の塗布方法（比較方法）） （ｌｌ　比較方法−Ｄ 実施例−１における比較方法−Ａに対応して、下記表−
４に示す工つな膚を形成した。

表−４ （２）　比較方法−Ｅ 表−４に示す塗膜を下記表−５に示すように薄膜化した
。

表−５ １５− 上記のように薄膜化し、１５０ｍ／分までの高速化を行
ったところ、ウェブ上に塗布されていない部分が生じ、
殉ビ塗布できなかった。

（３）　比較方法−Ｆ 比較方法−Ｅにおいて最下層を２分割して下記のような
層を形成した。

上記のようにしたところ塗布は可能となったが、ゲル化
ゾーンにて乳剤層がズして塗布ムラを発生した。

１６− （本発明の方法） 本発明の方法によル、下記表−７に示すような層を得た
。

表−７ この結果、１５０ｍ／分で塗布したところ、故障のない
、均一な塗布が可能と′なり、全膜厚８０μｍから５３
μｍへの薄膜化及び高速化が可能となった。

１８−

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る塗布方法にその一例として用いら
れる三層同時塗布用のスライドホツノ（−型塗布装置の
一部を示す概略図である。 図中、１はロール、２はウェブ、４，５．６はスロット
、７はスライド面、８，９．１０は塗布組成液を示す。 特許出願人　小西六写真工業株式会社 １９− 手続補正書（自発） 昭和６０年７月２日 特許庁長官　志賀　学　殿 １　事件の表示 特願昭５９−９８４９１号 ２　発明の名称 塗布方法 ３　補正をする者 事件との関係　出願人 名　称　（１２７）小西六写真工業株式会社４代理人　
〒１６０ 住　所　東京都新宿区西新宿七丁目１０番１１号第２イ
ト−ビル５階 ５　拒絶理由通知の日付　自発　□ ６　補正により増加する発明の数　０ 補正の内容（特願昭５９−８８４９１号）明細書につい
て次の通り補正する。 １　第４頁第６行に「そのため塗布直後」とあるを「一
方、製造工程においては塗布直後」と補正する。 ２　第５頁第１行と第２行の間に下記を加える。 記 又、ゲル化ゾーンを水平に配置した場合にも、垂直の場
合程顕著ではないが、塗布層が不均一に走行方向に流動
したような塗布ムラが発生した。 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 複数の塗布液を、移動しているウェブ上に同時に施して
   層形成させる多層同時塗布方法において、前記ウェブに
   隣接する最下層を粘度１５　ｃｐｓ以下の塗布液を用い
   てウェット膜厚１０μｍ以下となるように塗役し、かつ
   上記最下層の上に隣接する第２層を前記最下層の塗布液
   粘度より高い粘度の塗布液を用いてウェット膜厚が前記
   最下層より薄くなるように塗設し、かつ前記第２層の上
   に隣接する第３層を前記第２層の塗布液粘度より高い粘
   度の塗布液を用いて塗設することを特徴とす名塗布方法
   。