JPS60257134A - 円板固定機構 - Google Patents
円板固定機構Info
- Publication number
- JPS60257134A JPS60257134A JP11079484A JP11079484A JPS60257134A JP S60257134 A JPS60257134 A JP S60257134A JP 11079484 A JP11079484 A JP 11079484A JP 11079484 A JP11079484 A JP 11079484A JP S60257134 A JPS60257134 A JP S60257134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- frame
- fixing mechanism
- pin
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
半導体を製造する装置で、ウェハを正確に中心を出して
板状体に固定する装置に関する。
板状体に固定する装置に関する。
半導体製造装置では、ウェハを枠を用いて固定すること
が必要な場合がある。とくに、イオン打込装置では、回
転する円板にウェハを固定するため、強固に固定すると
ともに、枠により押えるウェハの面積を最小限にするこ
とが必要である従来(1) この種の良好な装置がなかった。
が必要な場合がある。とくに、イオン打込装置では、回
転する円板にウェハを固定するため、強固に固定すると
ともに、枠により押えるウェハの面積を最小限にするこ
とが必要である従来(1) この種の良好な装置がなかった。
この点に鑑み本発明はウェハを押える枠の面積を最小に
おさえることにより、ウェハの有効面積が大きくなり、
一枚のエオハより採取する半導体の数が増やすため、ウ
ェハの寸法公差によらずウェハを中心に設置しうる機構
を設け、ウェハの周辺部での押える部分の面積を最小に
することを目的とする。
おさえることにより、ウェハの有効面積が大きくなり、
一枚のエオハより採取する半導体の数が増やすため、ウ
ェハの寸法公差によらずウェハを中心に設置しうる機構
を設け、ウェハの周辺部での押える部分の面積を最小に
することを目的とする。
本発明はウェハのごとき円板状物体を固定する際、円板
状物体の中心と固定機構の中心とを自動的に芯合せしつ
つ固定するよう構成した。
状物体の中心と固定機構の中心とを自動的に芯合せしつ
つ固定するよう構成した。
[発明の実施例〕
第1図に従来の固定機構を示す。板1に弾性体2を接着
してあり、ウェハ3を枠4により押しつけて固定する。
してあり、ウェハ3を枠4により押しつけて固定する。
枠4は柱5により底板6に連結されており(ナツト7を
介して)、バネ10により押し付は力を得る。底板6に
はナツト9によりビン8が固定されている。ウェハを固
定するには、(2) 底板6を持ちあげて枠4と板1との間に空間が出来た状
態で、ウェハをピン8の先端に載せる。底抜を降下する
と、ウェハも降下し、案内11により位置決めしてのち
枠4で固定する。第2図はその平面図である。
介して)、バネ10により押し付は力を得る。底板6に
はナツト9によりビン8が固定されている。ウェハを固
定するには、(2) 底板6を持ちあげて枠4と板1との間に空間が出来た状
態で、ウェハをピン8の先端に載せる。底抜を降下する
と、ウェハも降下し、案内11により位置決めしてのち
枠4で固定する。第2図はその平面図である。
第3図に本発明の固定機構を示す。各部の構造と形状は
、ピン8をのぞき第1図に示す従来の機構と同じである
。ピン8は、バネ機能を有する小径部と、カム機能を有
する大径部とをもつ点が、第1図のピンと異なる。
、ピン8をのぞき第1図に示す従来の機構と同じである
。ピン8は、バネ機能を有する小径部と、カム機能を有
する大径部とをもつ点が、第1図のピンと異なる。
第4図、第5図、第6図に本発明の機構が、作動する各
段階を示す。第4図は底板6を持ちあげて固定機構を開
いた状態を示す。このときピン8の大径部が板1に接触
し外側に開く。この状態でウェハをピン8に載せる。ウ
ェハはピン8の先端部上で水平方向のガタの範囲にある
。第5図は、底板6が降下しウェハが板1上に乗り移っ
た状態を示す。このときピン8はその大径部が板1の六
からはずれているので、ウェハを側面から押して芯出し
をした状態にある。第6図は゛餉5図より更(3) に下方へ底板6が降下し、ウェハをバネの力により固定
している状況を示す。このようにして固定された状態で
、ウェハは機械的にガタなく芯出しされている。
段階を示す。第4図は底板6を持ちあげて固定機構を開
いた状態を示す。このときピン8の大径部が板1に接触
し外側に開く。この状態でウェハをピン8に載せる。ウ
ェハはピン8の先端部上で水平方向のガタの範囲にある
。第5図は、底板6が降下しウェハが板1上に乗り移っ
た状態を示す。このときピン8はその大径部が板1の六
からはずれているので、ウェハを側面から押して芯出し
をした状態にある。第6図は゛餉5図より更(3) に下方へ底板6が降下し、ウェハをバネの力により固定
している状況を示す。このようにして固定された状態で
、ウェハは機械的にガタなく芯出しされている。
ウェハを枠の中心に合わせて固定するため、ウェハをそ
の周辺で押しつけている面積が最小限ですむため、ウェ
ハ上に設ける半導体の数を多くすることができる。
の周辺で押しつけている面積が最小限ですむため、ウェ
ハ上に設ける半導体の数を多くすることができる。
第1図、第2図に従来の固定機構を示すもので、第2図
は平面図、第1図は第2図のA−0−B断面を示す、第
3図は本発明の固定機構を示す断面図、第4〜6図は本
発明の機構の動作説明図である。 1・・・円板を固定する板、2・・・板と円板との接触
部に設けた弾性体、3・・・円板、4・・・枠、5・・
・柱、6・・・底板、7・・・ナツト、8・・・ピン、
9・・・ナツト、10・・・バネ、11・・・案内。 代理人 弁理士 高橋明夫 (4)
は平面図、第1図は第2図のA−0−B断面を示す、第
3図は本発明の固定機構を示す断面図、第4〜6図は本
発明の機構の動作説明図である。 1・・・円板を固定する板、2・・・板と円板との接触
部に設けた弾性体、3・・・円板、4・・・枠、5・・
・柱、6・・・底板、7・・・ナツト、8・・・ピン、
9・・・ナツト、10・・・バネ、11・・・案内。 代理人 弁理士 高橋明夫 (4)
Claims (1)
- 1、円板を板にはさみつけて固定するための枠と、枠を
支える部材を前記枠の上に載せて枠の降下と共に降下す
る構成にしたビンとよりなる円板固定機構において、ビ
ンの降下にしたがいビンが円板の中心方向へ移動し、ビ
ンのたわみにより円板を側方より押しつけ中心を所定の
位置に合わせる構成としたことを特徴とする円板固定機
構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079484A JPS60257134A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 円板固定機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079484A JPS60257134A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 円板固定機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60257134A true JPS60257134A (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=14544801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11079484A Pending JPS60257134A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 円板固定機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60257134A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7256132B2 (en) | 2002-07-31 | 2007-08-14 | Applied Materials, Inc. | Substrate centering apparatus and method |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11079484A patent/JPS60257134A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7256132B2 (en) | 2002-07-31 | 2007-08-14 | Applied Materials, Inc. | Substrate centering apparatus and method |
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