JPS60257807A - 気体分離用成形体 - Google Patents
気体分離用成形体Info
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- JPS60257807A JPS60257807A JP59115808A JP11580884A JPS60257807A JP S60257807 A JPS60257807 A JP S60257807A JP 59115808 A JP59115808 A JP 59115808A JP 11580884 A JP11580884 A JP 11580884A JP S60257807 A JPS60257807 A JP S60257807A
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- Japan
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- polymer
- unsubstituted
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- gas
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/009—After-treatment of organic or inorganic membranes with wave-energy, particle-radiation or plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/44—Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in a single one of groups B01D71/26-B01D71/42
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は良好な気体透過性を有すると共に気体の選択的
分離機能にすぐれた気体分離用成形体に関し、特には空
気から高濃度の酸素含有混合ガスを得るのに好適とされ
る気体分離用成形体の提供を目的とする。
分離機能にすぐれた気体分離用成形体に関し、特には空
気から高濃度の酸素含有混合ガスを得るのに好適とされ
る気体分離用成形体の提供を目的とする。
（従来の技術）
現在、省エネルギー、公害防止の観点から高分子薄膜を
利用した選択的ガス分離技術が、従来の深冷液化分離法
、吸着分離法にかわる技術として注目されている。なか
でも空気から高濃度の酸素含有混合ガスを得ることがで
きるいわゆる酸素富化膜は、医療用、燃焼関連用等多く
の応用用途が期待されており、その開発・製品化が待た
れている。酸素富化膜に要求される特性としては、酸素
／窒素の高分離能を有しかつ高透過速度（高処理能）を
有することであるが、現在試作されているある種の均質
高分子材料の応用では比較的高分離能が期待できるが、
ガス透過速度が著しく小さいため実用化されるには至っ
ていない。また多孔質物等の利用では比較的高透過速度
を得ることができるが、酸素／窒素の高分離能を達成す
ることは困難である。
利用した選択的ガス分離技術が、従来の深冷液化分離法
、吸着分離法にかわる技術として注目されている。なか
でも空気から高濃度の酸素含有混合ガスを得ることがで
きるいわゆる酸素富化膜は、医療用、燃焼関連用等多く
の応用用途が期待されており、その開発・製品化が待た
れている。酸素富化膜に要求される特性としては、酸素
／窒素の高分離能を有しかつ高透過速度（高処理能）を
有することであるが、現在試作されているある種の均質
高分子材料の応用では比較的高分離能が期待できるが、
ガス透過速度が著しく小さいため実用化されるには至っ
ていない。また多孔質物等の利用では比較的高透過速度
を得ることができるが、酸素／窒素の高分離能を達成す
ることは困難である。
他方、酸素富化膜を得る一手段として最近プラズマ重合
法の技術が検討されている。すなわち、この方法は比較
的高透過速度をもつ適当な支持体たとえば均質薄膜支持
体あるいは多孔質膜支持体上にブラズ゛マ重合法の技術
により、酸素／窒素高分離能をもつ超薄膜を形成させる
という内容のものである。
法の技術が検討されている。すなわち、この方法は比較
的高透過速度をもつ適当な支持体たとえば均質薄膜支持
体あるいは多孔質膜支持体上にブラズ゛マ重合法の技術
により、酸素／窒素高分離能をもつ超薄膜を形成させる
という内容のものである。
本発明者らはプラズマ重合膜の支持体としての観点から
検討を重ね、先に、式Ｒ−０二Ｃｊ １．）１ （Ｒ）
ａ（式中のＲは一価の有機基）で示されるシリルアセチ
レン化合物を重合して得られるポリマーのフィルム面に
有機化合物ゾｊスたとえばジビニルテトラメチルジシロ
キサンガスの低温プラズマ重合膜を形成させることによ
り、きわめて良好な酸素富化膜（酸素／窒素高分離能と
酸素高透過速度を併せもつ膜）が得られることを確認し
たのであるが（特願昭５８−２２７９９６）、実用化に
当って次のような問題が存在することが判明した。すな
わち、良好なガス分離能を得るためには該ポリマーのフ
ィルム面に形成する低温プラズマ重合膜が均一均質であ
ることが要求されるが、一般にプラズマ重合においては
重合条件を決定するパラメーターの制御が困難であり、
特に広範囲の均一処理（大面積支持体の処理）が難しく
、たとえばモノマーガスや活性種の反応系内での流動状
態に影響され、場所による重合速度に大きな差を生じ膜
厚のバラツキが大きくなる。均質なプラズマ重合膜を得
ることも同様に困難であり、これは長時間プラズマ重合
を行っていく際に特Ｃ二問題となる現象である。この原
因としてはプラズマを発生させている印加電力の質的変
化や活性種の濃度変化、系内の汚染物のプラズマ内への
混入などが考えられ、こうしたことが長尺物の支持体ポ
リマーを連続的にプラズマ内を通過させプラズマ重合膜
を付着させていくことを難しくし、またプラズマ重合膜
特性を再現性よく一定して得ることすなわち工業的生産
を困難ならしめている。
検討を重ね、先に、式Ｒ−０二Ｃｊ １．）１ （Ｒ）
ａ（式中のＲは一価の有機基）で示されるシリルアセチ
レン化合物を重合して得られるポリマーのフィルム面に
有機化合物ゾｊスたとえばジビニルテトラメチルジシロ
キサンガスの低温プラズマ重合膜を形成させることによ
り、きわめて良好な酸素富化膜（酸素／窒素高分離能と
酸素高透過速度を併せもつ膜）が得られることを確認し
たのであるが（特願昭５８−２２７９９６）、実用化に
当って次のような問題が存在することが判明した。すな
わち、良好なガス分離能を得るためには該ポリマーのフ
ィルム面に形成する低温プラズマ重合膜が均一均質であ
ることが要求されるが、一般にプラズマ重合においては
重合条件を決定するパラメーターの制御が困難であり、
特に広範囲の均一処理（大面積支持体の処理）が難しく
、たとえばモノマーガスや活性種の反応系内での流動状
態に影響され、場所による重合速度に大きな差を生じ膜
厚のバラツキが大きくなる。均質なプラズマ重合膜を得
ることも同様に困難であり、これは長時間プラズマ重合
を行っていく際に特Ｃ二問題となる現象である。この原
因としてはプラズマを発生させている印加電力の質的変
化や活性種の濃度変化、系内の汚染物のプラズマ内への
混入などが考えられ、こうしたことが長尺物の支持体ポ
リマーを連続的にプラズマ内を通過させプラズマ重合膜
を付着させていくことを難しくし、またプラズマ重合膜
特性を再現性よく一定して得ることすなわち工業的生産
を困難ならしめている。
ζ本発明の構成）
本発明者らは上記した従来の不利欠点を解決すべく鋭意
検討した結果、前記した有機化合物ガスの低温プラズマ
に代えて特定の波長域をもつ紫外光で照射処理すること
によりきわめて有利な結果が得られることを見出し本発
明を完成した。すなわち、本発明は一般式 Ｒ２ Ｒ１ｃミＣ−８ｉＢ３ ・・・・・ｍ ４ （式中のＲ１は水素原子または炭素数１〜８の非置換も
しくは置換−偏成化水素基、Ｒ２，Ｒ３およびＲ４は個
々に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の非置換も
しくは置換−偏成化水素基または炭素数１〜８のアルコ
キシ基）で示されるシリルアセチレン化合物の１種また
は２種以上を重合して得られるホモポリマーもしくはコ
ポリマーまたはこれらの混合ポリマーを原料とする成形
物の表面を１０５〜２００ｎｍの波長域をもつ紫外光で
照射処理してなる気体分離用成形体に関するものである
。
検討した結果、前記した有機化合物ガスの低温プラズマ
に代えて特定の波長域をもつ紫外光で照射処理すること
によりきわめて有利な結果が得られることを見出し本発
明を完成した。すなわち、本発明は一般式 Ｒ２ Ｒ１ｃミＣ−８ｉＢ３ ・・・・・ｍ ４ （式中のＲ１は水素原子または炭素数１〜８の非置換も
しくは置換−偏成化水素基、Ｒ２，Ｒ３およびＲ４は個
々に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の非置換も
しくは置換−偏成化水素基または炭素数１〜８のアルコ
キシ基）で示されるシリルアセチレン化合物の１種また
は２種以上を重合して得られるホモポリマーもしくはコ
ポリマーまたはこれらの混合ポリマーを原料とする成形
物の表面を１０５〜２００ｎｍの波長域をもつ紫外光で
照射処理してなる気体分離用成形体に関するものである
。
上記シリルアセチレン化合物の重合体（フィルム）は通
常耐光性特に耐紫外光性が悪く日光や高圧水鉗ランプに
よる紫外光（近紫外光）の少量照射で機械的強度の劣化
、ガス分離特性の低下が著しくおこる性質を有している
ので、この重合体に対し短波長のエネルギーの高い紫外
光を照射し改質するということは通常者えられないとこ
ろである。しかるに、かかる重合体に対し前記波長域を
もつ紫外光で照射処理すると、意外にも機械的強度の劣
化などの不利をともなわずに下記データｇ二示す如くき
わめて気体（ガス）分離機能にすぐれた変性ポリマー ７ 酸素透過係数（ＰＯ２）＝２〜４×１０ｃｔｌ （ｓ
Ｔ Ｐ） −ａｎ ／ａ／ｌ−ｓ ｅ ｃ ・ｃｍＨｇ
酸素と窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）＝２．５〜３
．５ が再現性よく得られること、工業的実用化のうえできわ
めて有利であることが確匠忍された。
常耐光性特に耐紫外光性が悪く日光や高圧水鉗ランプに
よる紫外光（近紫外光）の少量照射で機械的強度の劣化
、ガス分離特性の低下が著しくおこる性質を有している
ので、この重合体に対し短波長のエネルギーの高い紫外
光を照射し改質するということは通常者えられないとこ
ろである。しかるに、かかる重合体に対し前記波長域を
もつ紫外光で照射処理すると、意外にも機械的強度の劣
化などの不利をともなわずに下記データｇ二示す如くき
わめて気体（ガス）分離機能にすぐれた変性ポリマー ７ 酸素透過係数（ＰＯ２）＝２〜４×１０ｃｔｌ （ｓ
Ｔ Ｐ） −ａｎ ／ａ／ｌ−ｓ ｅ ｃ ・ｃｍＨｇ
酸素と窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）＝２．５〜３
．５ が再現性よく得られること、工業的実用化のうえできわ
めて有利であることが確匠忍された。
以下本発明の詳細な説明する。
前記一般式（１）で示したシリルアセチレン化合物にお
いて、Ｒ１は水素原子、または炭素数１〜８の一価炭化
水素基たとえばメチル基、エチル基。
いて、Ｒ１は水素原子、または炭素数１〜８の一価炭化
水素基たとえばメチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基およびこれらの一価炭化水素基の
水素原子が部分的にノ）ロゲン原子等で置換した基であ
り、またＲ２ 、 Ｒ３およびＲ４は個々シ二水素原子
、ハロゲン原子、炭素数１〜８の一価炭化水素基たとえ
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル
基、アリル基およびこれらの一価炭化水素基の水素原子
が部分的にハロゲン原子等で置換した基、炭素数１〜８
のアルコキシ基たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などである。このようなシリルア
セチレン化合物の具体的例示をあげれば次のとおりであ
る。ただし以下の記載（−おいてＭｅはメチル基、ｇｔ
はエチル基をそれぞれ示す。
水素原子が部分的にノ）ロゲン原子等で置換した基であ
り、またＲ２ 、 Ｒ３およびＲ４は個々シ二水素原子
、ハロゲン原子、炭素数１〜８の一価炭化水素基たとえ
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル
基、アリル基およびこれらの一価炭化水素基の水素原子
が部分的にハロゲン原子等で置換した基、炭素数１〜８
のアルコキシ基たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などである。このようなシリルア
セチレン化合物の具体的例示をあげれば次のとおりであ
る。ただし以下の記載（−おいてＭｅはメチル基、ｇｔ
はエチル基をそれぞれ示す。
Ｍｅ−０＝＝Ｃ−８ｉ （Ｍｅ）３ 、 Ｅｔ−ｃ＝Ｃ
−８１（Ｍｅ）。
−８１（Ｍｅ）。
Ｍｅ Ｃ５０８１（Ｅｔ）ｓ、 Ｍｅ−０ミＣ−Ｓ ｉ
（ＯＭｅ １３ＨＣ＝Ｃ−８ｉ （Ｍｅ）３．Ｍｅ−
ＣミＣ−８ｉ （Ｍｅ） ａｚ２Ｍｅ−ＣミＣ８ｉ （
Ｍｅ） Ｈ２ 上記したシリルアセチレン化合物（単量体）の１種また
は２種以上の混合物を重合もしくは共重合する方法とし
ては、トルエン、シクロヘキサン（１ などの有機溶媒中で、ｗａｔ６、ＮｂＣｔｌｌ ％ ｈ
Ｔａｇ／−、などの重合触媒の存在下に温度３０〜１３
０℃で重合反応させる方法によればよく、生成した重合
体（共重合体）すなわちポリシリルアセチレンは過剰の
メタノール中で沈でんさせ精製して回収される。
（ＯＭｅ １３ＨＣ＝Ｃ−８ｉ （Ｍｅ）３．Ｍｅ−
ＣミＣ−８ｉ （Ｍｅ） ａｚ２Ｍｅ−ＣミＣ８ｉ （
Ｍｅ） Ｈ２ 上記したシリルアセチレン化合物（単量体）の１種また
は２種以上の混合物を重合もしくは共重合する方法とし
ては、トルエン、シクロヘキサン（１ などの有機溶媒中で、ｗａｔ６、ＮｂＣｔｌｌ ％ ｈ
Ｔａｇ／−、などの重合触媒の存在下に温度３０〜１３
０℃で重合反応させる方法によればよく、生成した重合
体（共重合体）すなわちポリシリルアセチレンは過剰の
メタノール中で沈でんさせ精製して回収される。
本発明は上記した重合体、共重合体あるいはこれらの２
種以上の混合重合体をトルエン、シクロヘキサンなどの
有機溶媒に溶解し、これを適当な型にキャスティングす
ることにより成形物（たとえば種々の厚みを有するフィ
ルム）をつくる。薄膜の形成を容易とするために適当な
不織布、基布、多孔質膜あるいは他の薄膜フィルム上に
上記重合体フィルムを形成せしめてもよい。なお、該多
孔質膜としては多孔質ポリプロピレンフィルム、多孔質
ポリエチレンフィルム、多孔質ポリサルホンフィルム、
多孔質酢酸セルロースフィルム、多孔質膜フッ化エチレ
ンフィルム、多孔質ポリイミドフィルムなどが例示され
る。
種以上の混合重合体をトルエン、シクロヘキサンなどの
有機溶媒に溶解し、これを適当な型にキャスティングす
ることにより成形物（たとえば種々の厚みを有するフィ
ルム）をつくる。薄膜の形成を容易とするために適当な
不織布、基布、多孔質膜あるいは他の薄膜フィルム上に
上記重合体フィルムを形成せしめてもよい。なお、該多
孔質膜としては多孔質ポリプロピレンフィルム、多孔質
ポリエチレンフィルム、多孔質ポリサルホンフィルム、
多孔質酢酸セルロースフィルム、多孔質膜フッ化エチレ
ンフィルム、多孔質ポリイミドフィルムなどが例示され
る。
つぎに重合体成形物の表面を紫外光で照射処理する。光
源としては１０５〜２００ｎｍ以下の単色光、輝線また
は連続光を発生するものであれば特ｌ：制限はなく、た
とえば低圧水銀ランプ（輝線スペクトル： １８５ｎｍ
、２５４ｎｍ、３１３ｉｍ、３５５ｎｍ）のように波長
２００ｎｍ以下の輝線スペクトルを発するものが使用さ
れる。また、放電管を備えた装置や低湿プラズマ発生装
置内に処理しようとする重合体成形物をセットし、放電
プラズマと該成形物との間にＬ ｉ Ｆ ＋Ｏａ ２
Ｆ −サファイヤ等のフィルターや窓材でプラズマ粒子
および望ましくない短波長の光をカットし、１０５〜２
００ｎｍの波長域をもつ紫外光で照射処理してもよく、
あるいは紫外光レーザー等の利用も可能である。
源としては１０５〜２００ｎｍ以下の単色光、輝線また
は連続光を発生するものであれば特ｌ：制限はなく、た
とえば低圧水銀ランプ（輝線スペクトル： １８５ｎｍ
、２５４ｎｍ、３１３ｉｍ、３５５ｎｍ）のように波長
２００ｎｍ以下の輝線スペクトルを発するものが使用さ
れる。また、放電管を備えた装置や低湿プラズマ発生装
置内に処理しようとする重合体成形物をセットし、放電
プラズマと該成形物との間にＬ ｉ Ｆ ＋Ｏａ ２
Ｆ −サファイヤ等のフィルターや窓材でプラズマ粒子
および望ましくない短波長の光をカットし、１０５〜２
００ｎｍの波長域をもつ紫外光で照射処理してもよく、
あるいは紫外光レーザー等の利用も可能である。
なお、１０５〜２００ｎｍ波長域の紫外光とともに２０
０ｉｍを越える波長域の光が同時に重合体成形物を照射
していても短時間ならばそれほど悪影響を受けないが、
しかし照射時間が長くなると劣化反応も当然進行するの
で、紫外光源からの光強度によっても異なるが好ましく
は３０分間以下の照射処理で行うのがよい。
０ｉｍを越える波長域の光が同時に重合体成形物を照射
していても短時間ならばそれほど悪影響を受けないが、
しかし照射時間が長くなると劣化反応も当然進行するの
で、紫外光源からの光強度によっても異なるが好ましく
は３０分間以下の照射処理で行うのがよい。
紫外光処理を行う際の雰囲気としては空気その他の無機
ガスあるいは有機シランガスなどが使用されるが、これ
らに限定されるものではない。
ガスあるいは有機シランガスなどが使用されるが、これ
らに限定されるものではない。
つぎに具体的実施例をあげ、る。
実施例１
トルエン２００？に重合触媒Ｔ ａ ＯＩ−ｓを１ノ溶
解し、ついで１−トリメチルシリル−１−プロピンＭｅ
−Ｃ！ミａ−ｓｉ（Ｍｅ）３ を２０．ｆｉ’添加し、
８０℃の温度で５時間重合を行った。生成した重合体を
過剰のメタノール中に注ぎ沈でん・精製した。
解し、ついで１−トリメチルシリル−１−プロピンＭｅ
−Ｃ！ミａ−ｓｉ（Ｍｅ）３ を２０．ｆｉ’添加し、
８０℃の温度で５時間重合を行った。生成した重合体を
過剰のメタノール中に注ぎ沈でん・精製した。
このようｉ二して得た重合体をトルエンに溶解して溶液
となし、キャスティング法により厚さ２μｍの薄膜をつ
くった。これを試料ａとする。この試料ａをスブラジー
ルガラス管中に水銀とアルゴンとの蒸気を封じ込んだ５
０Ｗ低圧水銀ランプ（輝線スペクト／ｌ／： １８５ｎ
、ｍ、２５４ｎｍ。
となし、キャスティング法により厚さ２μｍの薄膜をつ
くった。これを試料ａとする。この試料ａをスブラジー
ルガラス管中に水銀とアルゴンとの蒸気を封じ込んだ５
０Ｗ低圧水銀ランプ（輝線スペクト／ｌ／： １８５ｎ
、ｍ、２５４ｎｍ。
３１３ｎｍ、３６５ｎｍ）により１トル真空下で５分間
紫外光処理を行なった。これを試料Ａ１とする。試料ａ
および試料Ａ１について酸素、窒素の透過速度を測定し
、酸素透過係数（ＰＯ２）と酸素−窒素の分離係数（Ｐ
Ｏ２／ＰＮ２）をめた。
紫外光処理を行なった。これを試料Ａ１とする。試料ａ
および試料Ａ１について酸素、窒素の透過速度を測定し
、酸素透過係数（ＰＯ２）と酸素−窒素の分離係数（Ｐ
Ｏ２／ＰＮ２）をめた。
結果を第１表に示す。
実施例２
前例でつくった試料ａを同じ低圧水銀ランプを使用し、
窒素ガス１気圧雰囲気下で３分間紫外光処理を行なった
。これを試料Ａ２とし、前例と同様に酸素透過係数（Ｐ
Ｏ２）と酸素−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめ
た。結果を第１表に示す。
窒素ガス１気圧雰囲気下で３分間紫外光処理を行なった
。これを試料Ａ２とし、前例と同様に酸素透過係数（Ｐ
Ｏ２）と酸素−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめ
た。結果を第１表に示す。
実施例３
前記試料ａを２００Ｗ低圧水銀ランプを使用１−１大気
圧下で２０分間紫外光処理を行なった。これを試料Ａ３
とし、前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ２）と酸素−窒
素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２Ｊ２）をめた。結果を第
１表に示す。
圧下で２０分間紫外光処理を行なった。これを試料Ａ３
とし、前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ２）と酸素−窒
素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２Ｊ２）をめた。結果を第
１表に示す。
比較例
実施例１において、低圧水銀ランプと試料ａとの間に、
２００ｎｍ以下の光に対して非透過性のバイコール製フ
ィルターを設けて１８５ｎｍの光が試料ａに到達しない
ようにしたほかは同様に照射処理を行った。これを試料
Ａ４とし、前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ□）と酸素
−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめた。結果を第
１表に示す。
２００ｎｍ以下の光に対して非透過性のバイコール製フ
ィルターを設けて１８５ｎｍの光が試料ａに到達しない
ようにしたほかは同様に照射処理を行った。これを試料
Ａ４とし、前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ□）と酸素
−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめた。結果を第
１表に示す。
実施例４
） ルエｙ ３００ ｊ’ｌ：重合触媒ＴａＣｌ５をｌ
’溶解し、ついで１−トリメチルシリル−１−ブチンＥ
ｔ ＯミＯ−３ｘ （Ｍ ｅ ） ｓを１０？添加し
、１００℃の温度で４時間重合を行った。生成した重合
体を過剰のメタノール中に注ぎ沈でん・精製した。
’溶解し、ついで１−トリメチルシリル−１−ブチンＥ
ｔ ＯミＯ−３ｘ （Ｍ ｅ ） ｓを１０？添加し
、１００℃の温度で４時間重合を行った。生成した重合
体を過剰のメタノール中に注ぎ沈でん・精製した。
このようにして得た重合体をトルエンに溶解して溶液と
なし、キャスティング法□により厚さ２μｍの薄膜を作
成した。これを試料すとする。この試料すを低温プラズ
マ発生装置内にセットし、装置内を１０−’ ）ルまで
真空にした後テトラメチルシランガスを導入し、ガス流
通上系内を０．４トルに調整保持した。ついで１３．５
６ＭＨ１１ｋＷの電力を印加し低温プラズマを発生させ
たが、その際試料すの表面をＬｉＦのフィルターでおお
い、プラズマ粒子や本発明の紫外光波長より短かい波長
域の紫外光が試料すの表面イニ到達するのを防いだ。
なし、キャスティング法□により厚さ２μｍの薄膜を作
成した。これを試料すとする。この試料すを低温プラズ
マ発生装置内にセットし、装置内を１０−’ ）ルまで
真空にした後テトラメチルシランガスを導入し、ガス流
通上系内を０．４トルに調整保持した。ついで１３．５
６ＭＨ１１ｋＷの電力を印加し低温プラズマを発生させ
たが、その際試料すの表面をＬｉＦのフィルターでおお
い、プラズマ粒子や本発明の紫外光波長より短かい波長
域の紫外光が試料すの表面イニ到達するのを防いだ。
このようにして処理した試料を試料Ｂとする。これら試
料すおよびＢについて前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ
２）と酸素−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめた
。結果を第１表に示す。
料すおよびＢについて前例と同様に酸素透過係数（ＰＯ
２）と酸素−窒素の分離係数（ＰＯ２／ＰＮ２）をめた
。結果を第１表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 Ｒ２ Ｒ’−Ｃ４ａＯ−Ｓｉ−Ｒ” ふ （式中のＲ１は水素原子または炭素数１〜８の非置換も
しくは置換−価炭化水素基、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は個
々ｆ二水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の非置換
もしくは置換−価炭化水素基または炭素数１〜８のアル
コキシ基）で示されるシリルアセチレン化合物の１種ま
たは２種以上を重合して得られるホモポリマーもしくは
コポリマーまたはこれらの混合ポリマーを原料とする成
形物の表面を１０５〜２００ｎｍの波長域をもつ紫外光
で照射処理してなる気体分離用成形体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59115808A JPS60257807A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 気体分離用成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59115808A JPS60257807A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 気体分離用成形体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60257807A true JPS60257807A (ja) | 1985-12-19 |
| JPH0387B2 JPH0387B2 (ja) | 1991-01-07 |
Family
ID=14671598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59115808A Granted JPS60257807A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 気体分離用成形体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60257807A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4837386A (en) * | 1987-06-24 | 1989-06-06 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method of treating membranes with ultraviolet radiation |
| US5011518A (en) * | 1989-03-09 | 1991-04-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Permselective membrane and process for producing the same |
| US5013338A (en) * | 1989-09-01 | 1991-05-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Plasma-assisted polymerization of monomers onto polymers and gas separation membranes produced thereby |
| WO1994012269A1 (en) * | 1992-12-01 | 1994-06-09 | The Dow Chemical Company | Membranes having improved selectivity and recovery, and process for making same |
| US5409524A (en) * | 1992-12-01 | 1995-04-25 | The Dow Chemical Company | Membranes having improved selectivity and recovery, and process for making same |
| CN1056097C (zh) * | 1995-04-20 | 2000-09-06 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 取代聚乙炔气体分离膜的紫外接枝的改性方法 |
| CN111467970A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-31 | 郑州轻工业大学 | 一种基于新型荷电疏松纳滤膜的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60206403A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-18 | Sanyo Chem Ind Ltd | 気体分離膜 |
-
1984
- 1984-06-06 JP JP59115808A patent/JPS60257807A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60206403A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-18 | Sanyo Chem Ind Ltd | 気体分離膜 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0387B2 (ja) | 1991-01-07 |
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