JPS60258421A - カムシヤフトの再溶融硬化処理方法 - Google Patents
カムシヤフトの再溶融硬化処理方法Info
- Publication number
- JPS60258421A JPS60258421A JP10224384A JP10224384A JPS60258421A JP S60258421 A JPS60258421 A JP S60258421A JP 10224384 A JP10224384 A JP 10224384A JP 10224384 A JP10224384 A JP 10224384A JP S60258421 A JPS60258421 A JP S60258421A
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- Japan
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- cam
- width
- cam surface
- remelting
- torch
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/30—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for crankshafts; for camshafts
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、カム面の幅に広狭がある場合において幅に一
致させ全幅について再溶融硬化処理に行うカムシャフト
の再溶融硬化処理方法に関する。
致させ全幅について再溶融硬化処理に行うカムシャフト
の再溶融硬化処理方法に関する。
(従来技術)
自動車用エンジンに組み込まれるカムシャフトにおける
カムのカム面の表面硬化処理として再溶融硬化処理方法
が実用に供されている。再溶融硬化処理方法では,予熱
されたカムシャフトの各カム面にプラズマトーチ等でア
ークを与え、チル化してカム面に硬化層を形成する。斯
かる再溶融硬化処理では、通常カムシャフトを回転させ
ると共に上記プラズマトーチをカム面の幅内にて複数回
往復動させ、これによって全カム面において蛇行軌跡を
描きながら再溶融を行うようにしていた。
カムのカム面の表面硬化処理として再溶融硬化処理方法
が実用に供されている。再溶融硬化処理方法では,予熱
されたカムシャフトの各カム面にプラズマトーチ等でア
ークを与え、チル化してカム面に硬化層を形成する。斯
かる再溶融硬化処理では、通常カムシャフトを回転させ
ると共に上記プラズマトーチをカム面の幅内にて複数回
往復動させ、これによって全カム面において蛇行軌跡を
描きながら再溶融を行うようにしていた。
ところで、カムシャフトの各カムの形状は、通常第5図
に示される如くカムベース(5l)ではカム面の幅が広
くカムトップ(52)に至るほどその幅が徐々に狭くな
るように形成されている.これは鋳造時における抜き勾
配)持たせているためである。このためプラズマトーチ
(53)を振動させるにあたっては、カムトップ(52
)の幅を基準としてこの一定幅にてすべてのカム面につ
いてプラズマトーチ(53)を繰り返し往復動させるよ
うにしていたので、カムベース(51)の幅方向の両側
にはチル硬化層が形成されない部分(51a)が生ずる
。斯かる不具合を解消するためには従来レース加工時に
おいてカムトップ(52)の幅とカムベース(51)の
幅を一致させるべくカムベース(51)の幅方向に広が
った部分を切除して再溶融硬化処理を施すか、又は前述
の如く一定の振幅で再溶融硬化処理を行った後に非チル
硬化部を研削加工等によって削除する等の方法が考慮さ
れていたが、いずれの方法も作業が面倒となり、コスト
的に高価になるという不具合を提起していた。
に示される如くカムベース(5l)ではカム面の幅が広
くカムトップ(52)に至るほどその幅が徐々に狭くな
るように形成されている.これは鋳造時における抜き勾
配)持たせているためである。このためプラズマトーチ
(53)を振動させるにあたっては、カムトップ(52
)の幅を基準としてこの一定幅にてすべてのカム面につ
いてプラズマトーチ(53)を繰り返し往復動させるよ
うにしていたので、カムベース(51)の幅方向の両側
にはチル硬化層が形成されない部分(51a)が生ずる
。斯かる不具合を解消するためには従来レース加工時に
おいてカムトップ(52)の幅とカムベース(51)の
幅を一致させるべくカムベース(51)の幅方向に広が
った部分を切除して再溶融硬化処理を施すか、又は前述
の如く一定の振幅で再溶融硬化処理を行った後に非チル
硬化部を研削加工等によって削除する等の方法が考慮さ
れていたが、いずれの方法も作業が面倒となり、コスト
的に高価になるという不具合を提起していた。
(発明の目的)
本発明は、カムシャフトのカムを再溶融硬化処理するこ
とにおいて、上記カムのカムトップとカムベースとの間
にカム面の幅について広狭があったときカム面のそれぞ
れの幅に応じてカム面全幅に溶融用アークが供給される
ようにし、カムのカム面幅に広狭があったとしても全幅
について再溶融硬化処理を行い且つこれを簡単な構成で
安価に行えるようにしたことを目的とする。
とにおいて、上記カムのカムトップとカムベースとの間
にカム面の幅について広狭があったときカム面のそれぞ
れの幅に応じてカム面全幅に溶融用アークが供給される
ようにし、カムのカム面幅に広狭があったとしても全幅
について再溶融硬化処理を行い且つこれを簡単な構成で
安価に行えるようにしたことを目的とする。
(発明の構成)
本発明は、カムシャフトを回転し、カム面に対向したト
ーチをカム幅方向に振動させてカム表面を再溶融硬化処
理する方法において、上記カムシャフトのカムの幅に広
狭があるとき、上記トーチの発生するアークが上記カム
面のいずれの箇所においても全幅にわたる如く供給され
うるようにしたことをその要旨とする。
ーチをカム幅方向に振動させてカム表面を再溶融硬化処
理する方法において、上記カムシャフトのカムの幅に広
狭があるとき、上記トーチの発生するアークが上記カム
面のいずれの箇所においても全幅にわたる如く供給され
うるようにしたことをその要旨とする。
(実施例)
以下に本発明の好適一実施例を添付図面に基づいて説明
する。
する。
第1図において、(1)はカムシャフトであり、このカ
ムシャツ)(+)は自動車用エンジンに組み込まれるも
ので、通常複数のカムが所要の間隔で一体に形成されて
いる。第1図ではその中の1つのカム(2)が示される
。上記力ムシャフ) (1)はカム軸の回りに回転自在
になる如く配置される。
ムシャツ)(+)は自動車用エンジンに組み込まれるも
ので、通常複数のカムが所要の間隔で一体に形成されて
いる。第1図ではその中の1つのカム(2)が示される
。上記力ムシャフ) (1)はカム軸の回りに回転自在
になる如く配置される。
またカム(2)のカム幅、すなわちカム面の幅は第1図
に示される如くカムトップ(3)とカムベース(4)と
で相異し、カムベース(4)の方がカムトップ(3)よ
りも広く、カムトップ(3)に至るほど徐々に狭くなる
ように形成されている。
に示される如くカムトップ(3)とカムベース(4)と
で相異し、カムベース(4)の方がカムトップ(3)よ
りも広く、カムトップ(3)に至るほど徐々に狭くなる
ように形成されている。
斯かるカム(2)のカム面(2a)に対しては、例えば
TIG )−チ、プラズマトーチ(5)等(以下プラズ
マトーチとする)が、そのノズル部(5a)をカム面(
2a)に対向させる如くして配設される。プラズマトー
チ(5)は、回転するカム(2)の高さ変化に応じて上
下方向に自在に移動すると共に、カムシャツ) (1)
の軸線に平行になる如く図中水平方向に自在に移動する
。斯かるプラズマトーチ(5)を移動せしめる手段は図
中省略されている。
TIG )−チ、プラズマトーチ(5)等(以下プラズ
マトーチとする)が、そのノズル部(5a)をカム面(
2a)に対向させる如くして配設される。プラズマトー
チ(5)は、回転するカム(2)の高さ変化に応じて上
下方向に自在に移動すると共に、カムシャツ) (1)
の軸線に平行になる如く図中水平方向に自在に移動する
。斯かるプラズマトーチ(5)を移動せしめる手段は図
中省略されている。
またプラズマトーチ(5)のノズル部(5a)には電極
が内蔵され、この電極にはプラズマ電源からプラズマア
ーク電流が供給される。斯かるプラズマトーチ(5)の
電極に対してプラズマアーク電流が供給されると、ノズ
ル部(5a)とカム面(2a)との間にプラズマアーク
(6)が発生し、このプラズマアーク(6)でカム(2
)のカム面を溶融し、その後チル化することによりカム
面に再溶融硬化処理が施されることになる。
が内蔵され、この電極にはプラズマ電源からプラズマア
ーク電流が供給される。斯かるプラズマトーチ(5)の
電極に対してプラズマアーク電流が供給されると、ノズ
ル部(5a)とカム面(2a)との間にプラズマアーク
(6)が発生し、このプラズマアーク(6)でカム(2
)のカム面を溶融し、その後チル化することによりカム
面に再溶融硬化処理が施されることになる。
前記再溶融硬化処理において、カムシャフト(1)は回
転し且つプラズマトーチ(5)はカム幅方向に往復動を
繰り返すためにプラズマトーチ(5)はカム(2)のカ
ム面(2a)において蛇行軌跡(A)を描きながら、再
溶融硬化処理を行う、この場合、プラズマトーチ(5)
の往復する振幅はカム(2)のカム面の幅に対応させて
、カム面のいずれの箇所において全幅にわたるようにす
る。すなわち、プラズマトーチ(5)がカムベース(4
)を再溶融するときにはカムベース(0のカム幅に対応
させて大きな振幅で往復動させ、プラズマトーチ(5)
がカムトップ(3)に近づくに従ってその振幅はカム幅
の変化に対応させて徐々に小さくなる。そしてカムトッ
プ(3)を過ぎてカムベース(4)に近づくときにはそ
の振幅は再び大きくなる。斯くしてプラズマトーチ(5
)の往復動の振幅は再溶融するカム面の幅の変化に対応
させて変化し、且つその振幅が常にカム面の全幅に一致
する如くプラズマトーチ(5)を移動せしめる。プラズ
マトーチ(5)の水平方向の移動は、制御装置によりプ
ラズマトーチ(5)のノズル部(5a)が対向するカム
面の変化に同期させながら制御される。
転し且つプラズマトーチ(5)はカム幅方向に往復動を
繰り返すためにプラズマトーチ(5)はカム(2)のカ
ム面(2a)において蛇行軌跡(A)を描きながら、再
溶融硬化処理を行う、この場合、プラズマトーチ(5)
の往復する振幅はカム(2)のカム面の幅に対応させて
、カム面のいずれの箇所において全幅にわたるようにす
る。すなわち、プラズマトーチ(5)がカムベース(4
)を再溶融するときにはカムベース(0のカム幅に対応
させて大きな振幅で往復動させ、プラズマトーチ(5)
がカムトップ(3)に近づくに従ってその振幅はカム幅
の変化に対応させて徐々に小さくなる。そしてカムトッ
プ(3)を過ぎてカムベース(4)に近づくときにはそ
の振幅は再び大きくなる。斯くしてプラズマトーチ(5
)の往復動の振幅は再溶融するカム面の幅の変化に対応
させて変化し、且つその振幅が常にカム面の全幅に一致
する如くプラズマトーチ(5)を移動せしめる。プラズ
マトーチ(5)の水平方向の移動は、制御装置によりプ
ラズマトーチ(5)のノズル部(5a)が対向するカム
面の変化に同期させながら制御される。
上記実施例によれば、カム(2)のカム面に広狭がある
にも拘らずすべてのカム面の全幅について再溶融硬化処
理を行うことができる。
にも拘らずすべてのカム面の全幅について再溶融硬化処
理を行うことができる。
次に第2図、第3図に基づいて本発明の第2実施例を説
明する0本実施例においては、プラズマアーチ(15)
に対して磁気コイル(16)を並設し、プラズマトーチ
(15)から発射されるアークに対し、磁気コイル(1
6)が磁界を適宜なタイミングで与える。プラズマトー
チ(15)はカム面に対してカムの幅方向に往復動を行
うが、本実施例においては、カムトップ(3)のカム幅
で定まる一定幅にて全カム面につき往復動させる。そし
てカムトップ(3)以外のカムベース(0等のカム幅が
広い部分を再溶融するときには、プラズマトーチ(15
)の振幅の両端でプラズマアーク(6)のみを横振りさ
せることによりカム面の全幅について再溶融硬化処理を
行うこととする。斯かるプラズマアーク(6)の横振り
は、前記磁気コイル(16)に周期的にパルス電流を通
電させることにより行い、且つプラズマトーチ(15)
が往復動の両端に位置するときに適宜なタイミングで行
われる。またカム幅の広さも徐々に変化するため、第4
図に示される如く広さに応じて磁気コイル(16)への
通電量を調整しプラズマアーク(6)の振り幅も変える
必要があり、且つプラズマトーチ(15)の振幅の右端
では右方向に、左端では左方向にプラズマアーク(6)
を振る必要があるため、磁気コイル(16)における通
電方向の適宜に調整される。
明する0本実施例においては、プラズマアーチ(15)
に対して磁気コイル(16)を並設し、プラズマトーチ
(15)から発射されるアークに対し、磁気コイル(1
6)が磁界を適宜なタイミングで与える。プラズマトー
チ(15)はカム面に対してカムの幅方向に往復動を行
うが、本実施例においては、カムトップ(3)のカム幅
で定まる一定幅にて全カム面につき往復動させる。そし
てカムトップ(3)以外のカムベース(0等のカム幅が
広い部分を再溶融するときには、プラズマトーチ(15
)の振幅の両端でプラズマアーク(6)のみを横振りさ
せることによりカム面の全幅について再溶融硬化処理を
行うこととする。斯かるプラズマアーク(6)の横振り
は、前記磁気コイル(16)に周期的にパルス電流を通
電させることにより行い、且つプラズマトーチ(15)
が往復動の両端に位置するときに適宜なタイミングで行
われる。またカム幅の広さも徐々に変化するため、第4
図に示される如く広さに応じて磁気コイル(16)への
通電量を調整しプラズマアーク(6)の振り幅も変える
必要があり、且つプラズマトーチ(15)の振幅の右端
では右方向に、左端では左方向にプラズマアーク(6)
を振る必要があるため、磁気コイル(16)における通
電方向の適宜に調整される。
斯かる第2実施例によれば、カム幅に広狭があって変化
する場合において、カム面のいずれの箇所においてもカ
ム面の全幅について再溶融硬化処理を行うことができる
。
する場合において、カム面のいずれの箇所においてもカ
ム面の全幅について再溶融硬化処理を行うことができる
。
(発明の効果)
以上の説明で明らかなように本発明によれば、再溶融硬
化処理の施されるカムシャフトのカムの幅が一定でない
場合にあっても、カム幅の広い部分を除去することなく
、広狭のカム幅のすべてのカム面に一様に再溶融硬化処
理を哲うことができ、且つこれを簡単な構成で行い低コ
スト化を達成することができる等の利点を有する。
化処理の施されるカムシャフトのカムの幅が一定でない
場合にあっても、カム幅の広い部分を除去することなく
、広狭のカム幅のすべてのカム面に一様に再溶融硬化処
理を哲うことができ、且つこれを簡単な構成で行い低コ
スト化を達成することができる等の利点を有する。
第1図は本発明の第1実施例を示すカム正面図、第2図
は本発明の第2実施例を示すカム正面図、第3図はプラ
ズマトーチと磁気コイルの関係を示す図、第4図はカム
面と磁気コイルへの通電量との関係を示す図、第5図は
従来の再溶融硬化処理を説明するためのカム正面図であ
る。 図面中、(1)はカムシャフト、(2)はカム、(3)
、(52)はカムトップ、(4)、(51)はカムベ
ース、(5) 、(15)、(53)はプラズマトーチ
、(16)は磁気コイルである。 特許出願人 本田技研工業株式会社
は本発明の第2実施例を示すカム正面図、第3図はプラ
ズマトーチと磁気コイルの関係を示す図、第4図はカム
面と磁気コイルへの通電量との関係を示す図、第5図は
従来の再溶融硬化処理を説明するためのカム正面図であ
る。 図面中、(1)はカムシャフト、(2)はカム、(3)
、(52)はカムトップ、(4)、(51)はカムベ
ース、(5) 、(15)、(53)はプラズマトーチ
、(16)は磁気コイルである。 特許出願人 本田技研工業株式会社
Claims (3)
- (1)カムシャフトを回転し、カム面に対向したトーチ
をカム幅方向に振動させてカム表面を再溶融硬化処理す
る方法において、 」二記カムシャフトのカムの幅に広狭があるとき、上記
トーチの発生するアークが上記カム面のいずれの箇所に
おいても全幅にわたる如く供給されるようにしたことを
特徴とするカムシャフトの再溶融硬化処理方法。 - (2)前記トーチの振幅をカム幅の広狭に対応させてカ
ム幅と一致させるようにしたことを特徴とする特許 トの再溶融硬化処理方法。 - (3)前記トーチの振幅を一定とし、前記トーチの往復
動における両端でアークを横振りさせるようにしたこと
を特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載のカムシャ
フトの再溶融硬化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224384A JPS60258421A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | カムシヤフトの再溶融硬化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10224384A JPS60258421A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | カムシヤフトの再溶融硬化処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60258421A true JPS60258421A (ja) | 1985-12-20 |
Family
ID=14322175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10224384A Pending JPS60258421A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | カムシヤフトの再溶融硬化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60258421A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663647A1 (fr) * | 1990-06-22 | 1991-12-27 | Peugeot | Came possedant une surface peripherique traitee et durcie pour resister a l'usure, et arbre muni d'au moins une telle came. |
| US5114499A (en) * | 1990-03-05 | 1992-05-19 | Mazda Motor Corporation | Method of forming chilled layer |
| US5238509A (en) * | 1990-09-27 | 1993-08-24 | Mazda Motor Corporation | Method for carrying out a remelting/hardening treatment |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58213829A (ja) * | 1982-06-05 | 1983-12-12 | Mitsubishi Motors Corp | カム摺動面の白銑硬化方法 |
| JPS60243222A (ja) * | 1984-04-09 | 1985-12-03 | Honda Motor Co Ltd | 再溶融化処理における処理軌跡形成方法 |
| JPS60258418A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-20 | Honda Motor Co Ltd | 再溶融硬化処理カムの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-21 JP JP10224384A patent/JPS60258421A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58213829A (ja) * | 1982-06-05 | 1983-12-12 | Mitsubishi Motors Corp | カム摺動面の白銑硬化方法 |
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| FR2663647A1 (fr) * | 1990-06-22 | 1991-12-27 | Peugeot | Came possedant une surface peripherique traitee et durcie pour resister a l'usure, et arbre muni d'au moins une telle came. |
| US5238509A (en) * | 1990-09-27 | 1993-08-24 | Mazda Motor Corporation | Method for carrying out a remelting/hardening treatment |
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