JPS6025963A - 2−ケトンスルホンアミド類およびその製造方法 - Google Patents
2−ケトンスルホンアミド類およびその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/30—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/37—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
2−ケトスルホンアミドは重要な中間生成物である。こ
のものは顔料の原料として(ドイツ特許出願公開第5,
116.129号公報参照)または化学療法剤の原料と
して(Chem、Pharm。
のものは顔料の原料として(ドイツ特許出願公開第5,
116.129号公報参照)または化学療法剤の原料と
して(Chem、Pharm。
Bull、21 (1975) 5 、第1080〜1
089頁参照)役立つ。アセトスルホンアミドは従来、
2−ヒドロキシ−プロパン−スルホンアミドを酸化する
ことによってのみ製造できた(ドイツ特許出願公開第3
.116.129号公報参照)。しかしこの前駆生成物
は製造の固成(Ltx不安定な2−ヒドロキシ−プロパ
ン−スルホン葭クロライドを経ることによってだけ得ら
れる。これに対し、窒素原子の所で置換されたアセトン
スルホンアミドはこの方法で製造できない。このことは
上記の方法の限界が狭いことを示していり。
089頁参照)役立つ。アセトスルホンアミドは従来、
2−ヒドロキシ−プロパン−スルホンアミドを酸化する
ことによってのみ製造できた(ドイツ特許出願公開第3
.116.129号公報参照)。しかしこの前駆生成物
は製造の固成(Ltx不安定な2−ヒドロキシ−プロパ
ン−スルホン葭クロライドを経ることによってだけ得ら
れる。これに対し、窒素原子の所で置換されたアセトン
スルホンアミドはこの方法で製造できない。このことは
上記の方法の限界が狭いことを示していり。
特別の芳香族系の2−ケトスルホンアミドが製造される
2番目の2−ケトンスルホンアミドの製造法の場合には
、原料として適当なアセトフェノンが用いしれる。
2番目の2−ケトンスルホンアミドの製造法の場合には
、原料として適当なアセトフェノンが用いしれる。
これは、三lン化イシf黄にて相応づ−るスルホン酸に
転化される。これ乞、スルホン醒クロライドを得る為の
リン塩化vIJ(セUえば三塩化リン、五塩化リン)と
の反応の後に、アミンと反応させてスルホンアミドとす
る[: J、 Amer、Chem、Soc。
転化される。これ乞、スルホン醒クロライドを得る為の
リン塩化vIJ(セUえば三塩化リン、五塩化リン)と
の反応の後に、アミンと反応させてスルホンアミドとす
る[: J、 Amer、Chem、Soc。
75.2525(1953)参照]。
しかし三酸化硫黄またはリン塩化物の如き反応性化合物
を用いることが、中間生成物を費用を掛けて洗Sf)す
る必要のある副生成物をもたらす。
を用いることが、中間生成物を費用を掛けて洗Sf)す
る必要のある副生成物をもたらす。
2−ケトスルホンアミド類の両方の製造方法のこれらの
欠点の為に、この種の化合物の簡単で且つ広く適用でき
る製造方法を見出すという課題がある。
欠点の為に、この種の化合物の簡単で且つ広く適用でき
る製造方法を見出すという課題がある。
本発明者は、特定の6=アミノ−2−アルケン醒エステ
ルを塩基の存在下にハロゲンスルホ窒素原子の所で置換
された2−ケトスルホンアミドを簡単に製造できること
を見出した。
ルを塩基の存在下にハロゲンスルホ窒素原子の所で置換
された2−ケトスルホンアミドを簡単に製造できること
を見出した。
本発明者は、特定のエナミンをスルファモイルーハロゲ
ニドと反応させそしてその反応生成物を加水分解に委ね
ることによって、新規の2−ケトスルホンアミド類を簡
単に製造できる方法を見出した。
ニドと反応させそしてその反応生成物を加水分解に委ね
ることによって、新規の2−ケトスルホンアミド類を簡
単に製造できる方法を見出した。
従って、本発明の対象は特M’F 結末の範囲に規定し
た方法、この方法の際に生ずる中間生成物およびこの方
法によって製造される2−ケトスルホンアミドである。
た方法、この方法の際に生ずる中間生成物およびこの方
法によって製造される2−ケトスルホンアミドである。
本発明に従つ′″CC製造る2−ケトスルホンアミド類
は、式(I) )1 〔式中 R1は01〜C11−アルキル基、場合によっ
てはハロゲン原子、C,〜C4−アルキルオキシー、ニ
トロ−また&IC,−c2−アルコキシカルボニル基で
置換されているフェニル基(但し、フェニル基につい℃
いる置換基の数は最高6個である。)または、フェニル
基か1または2個のハロケン原子またはC,−”C2−
アルコキシ基で買換されていてもよいフェニル−(C+
〜C2)−アルキル基を、そし℃ R2は水素原子、01〜C1□−アルキル基または、0
〜3個のヘテトロ原子および0〜2個の炭素原子を含有
する基で置換されていてもよい06〜Cl2−アリール
基を意味づ−る。〕、で表わされろ化合物である。
は、式(I) )1 〔式中 R1は01〜C11−アルキル基、場合によっ
てはハロゲン原子、C,〜C4−アルキルオキシー、ニ
トロ−また&IC,−c2−アルコキシカルボニル基で
置換されているフェニル基(但し、フェニル基につい℃
いる置換基の数は最高6個である。)または、フェニル
基か1または2個のハロケン原子またはC,−”C2−
アルコキシ基で買換されていてもよいフェニル−(C+
〜C2)−アルキル基を、そし℃ R2は水素原子、01〜C1□−アルキル基または、0
〜3個のヘテトロ原子および0〜2個の炭素原子を含有
する基で置換されていてもよい06〜Cl2−アリール
基を意味づ−る。〕、で表わされろ化合物である。
式(I)の化合物中、以下の化合物は物質![1許の保
護範囲から除かれる: R1がC,−C,−アルキル−またはフェニル基であり
そして R2が水素原子を意味する化合物、およびR1がフェニ
ル基であ’) そしてR2カフェニルー、シクロヘキシ
ル−またはn−ブチル基を意味する化合物。
護範囲から除かれる: R1がC,−C,−アルキル−またはフェニル基であり
そして R2が水素原子を意味する化合物、およびR1がフェニ
ル基であ’) そしてR2カフェニルー、シクロヘキシ
ル−またはn−ブチル基を意味する化合物。
本発明の方法の出発原料は式(n)
〔式中、R’は上記の意味を有しそし℃R3およびR4
は互に同じでもまたは異なっていてもよく、水素原子、
互に結合して垢を形成していてもよいC9〜C4−アル
キル基または、0〜2個のヘテO原子を有している06
〜Cl2−アルアルキル−または−アリール基をそして R5はへテロ原子を有していてもよくそして分岐してい
るかまたは分岐していないC1〜Cl1l−アルキル基
、殊にC0〜C4−アルキル基、例工ば2−メトキシエ
チル−または2−クロロエチル基を意味する。〕 で表わされる3−アミノ−2−アルケン1夜エステルで
ある。これらの化合物は、C−C−二重結合かE−およ
びZ−配置にあってもよい。
は互に同じでもまたは異なっていてもよく、水素原子、
互に結合して垢を形成していてもよいC9〜C4−アル
キル基または、0〜2個のヘテO原子を有している06
〜Cl2−アルアルキル−または−アリール基をそして R5はへテロ原子を有していてもよくそして分岐してい
るかまたは分岐していないC1〜Cl1l−アルキル基
、殊にC0〜C4−アルキル基、例工ば2−メトキシエ
チル−または2−クロロエチル基を意味する。〕 で表わされる3−アミノ−2−アルケン1夜エステルで
ある。これらの化合物は、C−C−二重結合かE−およ
びZ−配置にあってもよい。
例えば以下の化合物が適する:3−メチルアミノ−、ジ
メチルアミノ−、エチルアミノ−、ジエチルアミノ−、
ヒドロキシ−エテルアミノ−1l−グロビルアミノー、
ブチルアミノ−、ジプチルアミノ−、ピロリ/ノー、ピ
ペリジノ−、ペンシルアミノ−、フェニルアミノ−、ジ
フェニルアミノ−、ビフェニル7 ミ/ −,2,6−
または4−クロロフェニル−アミノ−12,6−または
4−メトキシフェニルルアミノ−2−アルケンばエステ
ル。
メチルアミノ−、エチルアミノ−、ジエチルアミノ−、
ヒドロキシ−エテルアミノ−1l−グロビルアミノー、
ブチルアミノ−、ジプチルアミノ−、ピロリ/ノー、ピ
ペリジノ−、ペンシルアミノ−、フェニルアミノ−、ジ
フェニルアミノ−、ビフェニル7 ミ/ −,2,6−
または4−クロロフェニル−アミノ−12,6−または
4−メトキシフェニルルアミノ−2−アルケンばエステ
ル。
原料として3−アミノ−クロトン敵エステルを用いるの
が本発明の方法にとって特に有利である。
が本発明の方法にとって特に有利である。
最も良い収率は、窒素原子にまだ少な(とも1個の水素
原子を有している6−アミノクロトン1敦エステルを用
いた場合に得られる。
原子を有している6−アミノクロトン1敦エステルを用
いた場合に得られる。
良好な結晶性の反応生成物を得る為には、自体が既に良
好に結晶化する6−アミノクロトン酸エステルを原料と
して用いるのが有利である。
好に結晶化する6−アミノクロトン酸エステルを原料と
して用いるのが有利である。
例えば3−アミノ−および6−アミノクロトン1エステ
ルが特に適している。
ルが特に適している。
式(■)の6−アミノ−2−アルケン酸エステルを式(
lli) X −SO□NH−R” (III) 〔式中 R2は上記の意味を有しそしてXは塩素、臭素
または弗素を意味している。〕 で表わされるアミドスルホハロゲニドと反応させる。
lli) X −SO□NH−R” (III) 〔式中 R2は上記の意味を有しそしてXは塩素、臭素
または弗素を意味している。〕 で表わされるアミドスルホハロゲニドと反応させる。
アミドスルホクロライド中の置換基R2の選択次第で本
発明の方法に従って、窒素原子の所に異なる置換基を有
する沢山の2−ケトスルホンアミドを製造することが可
能である。適する山元物質とじ℃は例えばメチルアミド
−、エチルアミド−11−プロピルアミド−1第3−ブ
チルアミド−1n−ブチルアミド−、ヘキシルアミド−
、フェニルアミド−12−クロロフェニルアミド−1ろ
一メトキシフェニルアミドー14−メチルフェニルアミ
ド−、ジフェニルアミド−12,4−ジエトキ7フェニ
ルアミドー、6゜4.5−トリエトキシフェニルアミド
−14−ニトロフェニルアミドースルホクロライドカす
る。
発明の方法に従って、窒素原子の所に異なる置換基を有
する沢山の2−ケトスルホンアミドを製造することが可
能である。適する山元物質とじ℃は例えばメチルアミド
−、エチルアミド−11−プロピルアミド−1第3−ブ
チルアミド−1n−ブチルアミド−、ヘキシルアミド−
、フェニルアミド−12−クロロフェニルアミド−1ろ
一メトキシフェニルアミドー14−メチルフェニルアミ
ド−、ジフェニルアミド−12,4−ジエトキ7フェニ
ルアミドー、6゜4.5−トリエトキシフェニルアミド
−14−ニトロフェニルアミドースルホクロライドカす
る。
特ニ、クロロスルホニルーイソシアイ・−トからqつに
容易に入手できる墾素原子に置換基のないアミドスルホ
クロライドが有利である〔R,グラフ(Graf )
、 Angew、Cbem、80 、第180頁(19
68))。
容易に入手できる墾素原子に置換基のないアミドスルホ
クロライドが有利である〔R,グラフ(Graf )
、 Angew、Cbem、80 、第180頁(19
68))。
6−アミノ−2−アルケン1′反エステルとアミドスル
ホハロゲニドとの反応の際には、遊離の−・ロゲン化水
素を形成する塩基を少な(とも1当伝添加する必要があ
る。この目的の為には過剰の6−アミノ−2−アルケン
酸エステルを用いることができる。安価であるかまたは
容易に再生できる補助塩基を用いるのが有利である。
ホハロゲニドとの反応の際には、遊離の−・ロゲン化水
素を形成する塩基を少な(とも1当伝添加する必要があ
る。この目的の為には過剰の6−アミノ−2−アルケン
酸エステルを用いることができる。安価であるかまたは
容易に再生できる補助塩基を用いるのが有利である。
特に第三−アミンまたは立体障害アミンのあらゆるもの
、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエ
チレンジアミン(DABC’O)、ピリジン、ジフェニ
ルアミド、ジ−シクロヘキシルアミン、トリフェニルア
ミン、N−メfルビベリジン等が適している。
、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエ
チレンジアミン(DABC’O)、ピリジン、ジフェニ
ルアミド、ジ−シクロヘキシルアミン、トリフェニルア
ミン、N−メfルビベリジン等が適している。
しかし反応は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の
無機塩基、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、水
叡化マグネシウムが固体状態で、溶液状態でまたは相転
位条件下で存在するもとでも行なうことができる0 各反応成分は任意の順序で同時にまたは前後シテ添加す
る。特に反応性のアミドスルホクロライドを最初に導入
しそして塩素と6−アミノ−2−アルケン酸エステルと
を同時に、別々にまたは混合状態で添加させるのが有利
である。
無機塩基、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、水
叡化マグネシウムが固体状態で、溶液状態でまたは相転
位条件下で存在するもとでも行なうことができる0 各反応成分は任意の順序で同時にまたは前後シテ添加す
る。特に反応性のアミドスルホクロライドを最初に導入
しそして塩素と6−アミノ−2−アルケン酸エステルと
を同時に、別々にまたは混合状態で添加させるのが有利
である。
殆んど等モル量の各成分を用いるのが有利であり、過剰
の反応成分を用いても利益がない。各生成を一10〜+
40℃の温度範囲内で一緒にするのが有利である。この
範囲より下では反応が非常にゆっくりとしか進行しない
し、この範囲より上では収量が次第に減少する。
の反応成分を用いても利益がない。各生成を一10〜+
40℃の温度範囲内で一緒にするのが有利である。この
範囲より下では反応が非常にゆっくりとしか進行しない
し、この範囲より上では収量が次第に減少する。
反応は不活性の溶剤または希釈剤の個々のものまたは混
合物の存在下でも不存在下でも笑施できる。溶剤として
は例えば以下のものが適づ−る。炭化水素、例えはペン
タン、ヘキサン、軽ヘンシン、リフロイン、ベンセン、
トルエン、キシレン;塩素化炭化水素、例えばメチレン
クロライド、・四塩化エチレン、四塩化炭素、クロロホ
ルム、クロロペンタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン;エーテル、例えばジメチルエーテル、ジエチルニ
ーデル、ジー1−フロビルエーテル、フェニルエチルエ
ーテル、シオキザン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
ェタン:オヨヒカルボン酸誘等体、例えばエチルアセテ
ート、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド。
合物の存在下でも不存在下でも笑施できる。溶剤として
は例えば以下のものが適づ−る。炭化水素、例えはペン
タン、ヘキサン、軽ヘンシン、リフロイン、ベンセン、
トルエン、キシレン;塩素化炭化水素、例えばメチレン
クロライド、・四塩化エチレン、四塩化炭素、クロロホ
ルム、クロロペンタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン;エーテル、例えばジメチルエーテル、ジエチルニ
ーデル、ジー1−フロビルエーテル、フェニルエチルエ
ーテル、シオキザン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
ェタン:オヨヒカルボン酸誘等体、例えばエチルアセテ
ート、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド。
別の適する溶剤には例えばリン酸−トリス−ジメチルア
ミドまたは液状の二酸化硫黄(場合によっては加圧下)
がある。
ミドまたは液状の二酸化硫黄(場合によっては加圧下)
がある。
必要な反応時間は各成分の反応性および反応温度に依存
している。これは場合場合によって決めなげればならな
い。反応条件の選択によって殊に2〜24時間に限定さ
れる。
している。これは場合場合によって決めなげればならな
い。反応条件の選択によって殊に2〜24時間に限定さ
れる。
反応の際に式(iv)
So2NHR2
〔式中、R1,R% R’9 R’およびR5は上記の
意味を有する。〕 で表わされる3−アミノ−2−スルファモイル−2−ア
ルケン酸エステルが得られる。
意味を有する。〕 で表わされる3−アミノ−2−スルファモイル−2−ア
ルケン酸エステルが得られる。
有利な式(IV)の3−アミノ−2−スルポアモイル−
2−アルケン酸ニステルハ、R1カC8〜C4−アルキ
ル基、フェニル基、1個または2個の塩素原子で置換さ
れたフェニル基またはベンジル基を意味し B2が水素
原子、直鎖状のC,−C4−アルキル基またはフェニル
基を意味し、R3か水素原子、メナル基またはフェニル
基を意味し、R4か水素原子をそしてR4がC1〜C4
−アルキル基を意味するものである。
2−アルケン酸ニステルハ、R1カC8〜C4−アルキ
ル基、フェニル基、1個または2個の塩素原子で置換さ
れたフェニル基またはベンジル基を意味し B2が水素
原子、直鎖状のC,−C4−アルキル基またはフェニル
基を意味し、R3か水素原子、メナル基またはフェニル
基を意味し、R4か水素原子をそしてR4がC1〜C4
−アルキル基を意味するものである。
式(iv)の中間生成物を酸性またはアルカリ状態でケ
ン化しそして脱炭酸する。この場合、エナミン類および
エステルをケン化する為の、文献で公知の条件およびア
セト酢酸誘導体を脱炭酸する為の文献で公知の条件を用
いる。例えは最初にアルカリ性媒体中でエステル基をケ
ン化し、次に酸性状態で脱酸しそしてエナミン基をクン
化してもよい。同様にこれと逆の順序で行なってもよい
。更に、エステル−およびエナミン基のケン化並びに脱
炭酸を酸性状態で1段階で実施してもよい。
ン化しそして脱炭酸する。この場合、エナミン類および
エステルをケン化する為の、文献で公知の条件およびア
セト酢酸誘導体を脱炭酸する為の文献で公知の条件を用
いる。例えは最初にアルカリ性媒体中でエステル基をケ
ン化し、次に酸性状態で脱酸しそしてエナミン基をクン
化してもよい。同様にこれと逆の順序で行なってもよい
。更に、エステル−およびエナミン基のケン化並びに脱
炭酸を酸性状態で1段階で実施してもよい。
同様にエステル基をジメチルスルホキシド中でアルカリ
金属ハロゲ二ドの存在下に高温のもとで分解してもよい
。
金属ハロゲ二ドの存在下に高温のもとで分解してもよい
。
ケン化する為には少なくとも化学量論量の水が必要であ
る。1皮および塩基は濃厚−または希釈浴液の状態また
はそのま−で添加してもよい。
る。1皮および塩基は濃厚−または希釈浴液の状態また
はそのま−で添加してもよい。
水性媒体中で行なうのが有利である。反応混合物に浴剤
または希4〈剤、例えばメタノール、エタノール、アセ
トン、メチレンクロライド、ベンゼン、トルエン、クロ
ロベンセンヲ加よることができる。
または希4〈剤、例えばメタノール、エタノール、アセ
トン、メチレンクロライド、ベンゼン、トルエン、クロ
ロベンセンヲ加よることができる。
ケン化および脱炭酸は広い温度範囲で実施づ−ることか
できろ。D lν4SO中でのエステル基の分解は一般
に100〜180℃のもとで実施し、エナミンおよびエ
ステルのクン化は既に0℃程度の温度で比較的に早く進
行する。80〜120℃のもとでは第3−ブチルエステ
ルの分解およびケン化が1〜2時間で終了する。
できろ。D lν4SO中でのエステル基の分解は一般
に100〜180℃のもとで実施し、エナミンおよびエ
ステルのクン化は既に0℃程度の温度で比較的に早く進
行する。80〜120℃のもとでは第3−ブチルエステ
ルの分解およびケン化が1〜2時間で終了する。
3−アミノ−2−スルファモイル−2−アルケン酸エス
テルの酸性状態での加水分解の場合には、中間生成物と
して式(V)の2−スルファモイル−6−ケドアルカン
敵エステルが単離し得ろ: 〔式(V、を中、R’XR2およびR5は上記の意味を
有する。〕 これらの化合物は、上記の式から一′l′1」る様に、
β−クトカルボン畝ニスデルによって知らオ′している
如き互変異性の形で存在している。
テルの酸性状態での加水分解の場合には、中間生成物と
して式(V)の2−スルファモイル−6−ケドアルカン
敵エステルが単離し得ろ: 〔式(V、を中、R’XR2およびR5は上記の意味を
有する。〕 これらの化合物は、上記の式から一′l′1」る様に、
β−クトカルボン畝ニスデルによって知らオ′している
如き互変異性の形で存在している。
式(V)の2−スルファモイル−6−ケド−アルカンL
12エステルの内では、R1が01〜C4−アルキル基
、フェニル基、1個または2個の塩素原子によって置換
されているフェニル基またはペンシル基を意味し、■(
2が水素原子乞意味しそしてR5がC1〜C3−アルキ
ル基な意味するものが有利である。
12エステルの内では、R1が01〜C4−アルキル基
、フェニル基、1個または2個の塩素原子によって置換
されているフェニル基またはペンシル基を意味し、■(
2が水素原子乞意味しそしてR5がC1〜C3−アルキ
ル基な意味するものが有利である。
式(tV)および(V)の有利な化合物は、比較的に良
い収率および結晶化傾向の為に船に良好に入手し易いこ
とに殊に特徴がある。
い収率および結晶化傾向の為に船に良好に入手し易いこ
とに殊に特徴がある。
6−アミノクロトン敢−第6−プテルエステルを用いる
のが特に有利である。これらは特に容易に1段階で2−
ケトスルホンアミドにケン化できそしてCO□と1−ブ
タンの解離放出下に脱カルボキシル反応(脱炭酸)を行
なうことができる。
のが特に有利である。これらは特に容易に1段階で2−
ケトスルホンアミドにケン化できそしてCO□と1−ブ
タンの解離放出下に脱カルボキシル反応(脱炭酸)を行
なうことができる。
本発明の式(I)の2−ケトスルボンアミド類は新規の
植物保護剤および薬剤の為の前駆物質である。しかしな
がらこれらはもう一方では、アゾ染料および一顔料の為
のカソグリング剤として非常に重要であるアクリル酢酸
アミド類の類似物でもある。
植物保護剤および薬剤の為の前駆物質である。しかしな
がらこれらはもう一方では、アゾ染料および一顔料の為
のカソグリング剤として非常に重要であるアクリル酢酸
アミド類の類似物でもある。
以下の実施例によって本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
2500 mlのアセトニトリル(モレキュラシープを
通して脱水したもの)に57ay(51n01)のアミ
ドスルホクロライドラ溶解した溶液中に、785 t
(5mol )の6−アミノクロトン岐−第3−ブチル
エステル、51o7(5,05mol )のトリエチル
アミンおよび500n認のアセトニドl)ルより飲する
混合!I71を0〜5℃のもとで崗加する。1司じ温度
で2時間および室温で6時間攪拌した後に、氷で冷却し
なから835 ntの6N−苛性ソーダ溶液を加え、1
時間攪拌し、分鰍しそして水性相?更に2回、アセト二
) IJルで抽出処理1−る。回転式蒸発器中でアセ!
・ニトリルtG液を蒸発処理した後に残液が得られろ。
通して脱水したもの)に57ay(51n01)のアミ
ドスルホクロライドラ溶解した溶液中に、785 t
(5mol )の6−アミノクロトン岐−第3−ブチル
エステル、51o7(5,05mol )のトリエチル
アミンおよび500n認のアセトニドl)ルより飲する
混合!I71を0〜5℃のもとで崗加する。1司じ温度
で2時間および室温で6時間攪拌した後に、氷で冷却し
なから835 ntの6N−苛性ソーダ溶液を加え、1
時間攪拌し、分鰍しそして水性相?更に2回、アセト二
) IJルで抽出処理1−る。回転式蒸発器中でアセ!
・ニトリルtG液を蒸発処理した後に残液が得られろ。
このものをメタノール/水で書結晶処理1−60
J1又童:10Q4f(ii腎、dイ直の85%9融点
=164〜165℃(分解〕 トリエチルアミンの代りに当i、Iiの6−アミンクロ
トンr゛j父−第6−フチルエステル、ツメチルアニリ
ンまたはピリジンを用い又も同様な結果か得られる。
=164〜165℃(分解〕 トリエチルアミンの代りに当i、Iiの6−アミンクロ
トンr゛j父−第6−フチルエステル、ツメチルアニリ
ンまたはピリジンを用い又も同様な結果か得られる。
236 ? (I Ill○1)の2−アミドスルホニ
ル−6−アミノ−クロトン醒−第6−ブチルエステルを
100100O!の2N塩酸中で、固体金てが浴解しそ
して気体の発生が終了するまで(約2時間)、還流下に
煮沸する。
ル−6−アミノ−クロトン醒−第6−ブチルエステルを
100100O!の2N塩酸中で、固体金てが浴解しそ
して気体の発生が終了するまで(約2時間)、還流下に
煮沸する。
蒸発処理後に残渣をアセトニトリルで抽出処理しそして
得られる浴液を再び回転式蒸発器中で蒸発させる。結晶
仕残1t(i4oグ)を1−グロバノールで再結晶させ
る。融点74〜76℃(i−グロパノール)の122r
(理論値の89%つのアセトンスルホアミドが得られろ
。
得られる浴液を再び回転式蒸発器中で蒸発させる。結晶
仕残1t(i4oグ)を1−グロバノールで再結晶させ
る。融点74〜76℃(i−グロパノール)の122r
(理論値の89%つのアセトンスルホアミドが得られろ
。
実施例2
水不含のアセトニトリルにアミドスルホクロライドを溶
解した50m1の2 mol儂度訂液中に一り℃〜O℃
のもとで、707の無水アセトニトリルに26 t (
0,2mol )の6−アミノクロトン威エテルエステ
ルな溶解した溶液を急速にン商加する。氷で冷却しなが
ら45分、室温に達′1−るまで30分および室温で1
時間攪拌し、約1℃に冷却しそして1〜5℃のもとで1
6.5 rJ2の6 N NaOHを濶加ずろ。得られ
φ混合物を35℃の浴温度のもとて減圧下に、50〜5
5りの残’lif重量まで製編し、30171/!の水
と混合しそ【−てエテルアセテートで゛多数回抽出処」
呈′1−る。
解した50m1の2 mol儂度訂液中に一り℃〜O℃
のもとで、707の無水アセトニトリルに26 t (
0,2mol )の6−アミノクロトン威エテルエステ
ルな溶解した溶液を急速にン商加する。氷で冷却しなが
ら45分、室温に達′1−るまで30分および室温で1
時間攪拌し、約1℃に冷却しそして1〜5℃のもとで1
6.5 rJ2の6 N NaOHを濶加ずろ。得られ
φ混合物を35℃の浴温度のもとて減圧下に、50〜5
5りの残’lif重量まで製編し、30171/!の水
と混合しそ【−てエテルアセテートで゛多数回抽出処」
呈′1−る。
−緒にした抽出物乞Na2s○4 で乾燥し、J−4遇
しそして減圧下に蒸発処理する。残る残液(62〜35
グ)?0.約1007!のジイングロビルエーテルと混
合する。フイングロビルエーテルー佃出9勿′(!′注
ぎ出して粘1生油状のm=部分は結晶浴液をσ4過器に
通してt2過ずろ。氷浴で冷却した際に涙液中に生成物
が結晶析出する。結晶性成分を吸引J−J逸および(A
cOEt での)洗浄の後に母液の濃縮によって別の量
の純朴生成物を得ることができる。この様にしてi 5
.6 P、(75多)の2−アミドスルボニル−3−ア
ミノ−クロトン酸エチルエステルが得られろ。
しそして減圧下に蒸発処理する。残る残液(62〜35
グ)?0.約1007!のジイングロビルエーテルと混
合する。フイングロビルエーテルー佃出9勿′(!′注
ぎ出して粘1生油状のm=部分は結晶浴液をσ4過器に
通してt2過ずろ。氷浴で冷却した際に涙液中に生成物
が結晶析出する。結晶性成分を吸引J−J逸および(A
cOEt での)洗浄の後に母液の濃縮によって別の量
の純朴生成物を得ることができる。この様にしてi 5
.6 P、(75多)の2−アミドスルボニル−3−ア
ミノ−クロトン酸エチルエステルが得られろ。
融点:103〜104℃
アセトニトリルの代りに溶剤として1,2−ジメトキシ
エタン(グリノ)も用いることができろ0 上記と同じ操作の後に、以下のものが得られる:2−ア
ミドスルホニルー3−メチルアミノ−クロトン岐エテル
エステル、融点69〜70℃(エチルアセテート/ジイ
ソプロピルエーテルカラ)、収率約70%;α−アミド
スルボニル−β−アミノ−桂皮酸メチルエステル、融点
141〜142℃(CH2Cl2 から)、収量約70
%−コノ場合には、有機系抽出剤として多桁のCH2C
l2 を用い、CH2Cl2 がらは濃ホ(δづ−る際
にアミドスルホニル化合物が純粋な状態で直接的に得ら
れる一8抽出剤としてエチルアセデートも用いることが
できる。
エタン(グリノ)も用いることができろ0 上記と同じ操作の後に、以下のものが得られる:2−ア
ミドスルホニルー3−メチルアミノ−クロトン岐エテル
エステル、融点69〜70℃(エチルアセテート/ジイ
ソプロピルエーテルカラ)、収率約70%;α−アミド
スルボニル−β−アミノ−桂皮酸メチルエステル、融点
141〜142℃(CH2Cl2 から)、収量約70
%−コノ場合には、有機系抽出剤として多桁のCH2C
l2 を用い、CH2Cl2 がらは濃ホ(δづ−る際
にアミドスルホニル化合物が純粋な状態で直接的に得ら
れる一8抽出剤としてエチルアセデートも用いることが
できる。
アセトンスルホンアミド
20、8 S’の2−アミドスルホニル−6−アミノ−
クロトン敞エチルエステルを200 meの2N苛性ソ
ーダ溶液と一諸に18時間、室温のもとで攪拌する。濃
塩酸でpH1に調整し、4与び0.2 molの濃塩酸
を加えそしてガスの発生が終了するまで還流下に煮沸す
る。溶液を濃縮した後に、乾燥した残渣をアセ) 二l
−’Jルで抽出処理づ−る。抽出物からnび蒸発した後
に5.4y(理論値の39%’)のアセトン−N−スル
ホンアミドか得られる。
クロトン敞エチルエステルを200 meの2N苛性ソ
ーダ溶液と一諸に18時間、室温のもとで攪拌する。濃
塩酸でpH1に調整し、4与び0.2 molの濃塩酸
を加えそしてガスの発生が終了するまで還流下に煮沸す
る。溶液を濃縮した後に、乾燥した残渣をアセ) 二l
−’Jルで抽出処理づ−る。抽出物からnび蒸発した後
に5.4y(理論値の39%’)のアセトン−N−スル
ホンアミドか得られる。
融点74〜76℃(l−プロパツール)。
実施例6
500m1Vのメチレンクロライドに129.5 r(
1mol )のN−メチルアミドスルホクロライドを溶
解した浴液中に0〜5℃のもとで、100m12のメチ
レンクロライドに157 t (1mol )の6−ア
ミノクロトン岐−第6−ブチルエステルと105 ff
(1,04mol )のトリエチルアミンを入れた液
を流加する。この混合物を室温で一夜放置した後に水と
一緒に振盪することによって3回抽出処理し、有機系溶
液を蒸発させ、結晶性残渣を1−プロピルエーテルと一
緒に粉につぶしそして吸引f過づ−る。
1mol )のN−メチルアミドスルホクロライドを溶
解した浴液中に0〜5℃のもとで、100m12のメチ
レンクロライドに157 t (1mol )の6−ア
ミノクロトン岐−第6−ブチルエステルと105 ff
(1,04mol )のトリエチルアミンを入れた液
を流加する。この混合物を室温で一夜放置した後に水と
一緒に振盪することによって3回抽出処理し、有機系溶
液を蒸発させ、結晶性残渣を1−プロピルエーテルと一
緒に粉につぶしそして吸引f過づ−る。
収量: 2ooy(理論値の80チ)
融点:102℃(メタノール/水)
アセトン−N−メチルスルホンアミド
反応生成物を、固体音てが16解しそし℃気体の発生が
終了するまで(約2時間)、還流下に800 ynlの
2N−塩酸と一緒に煮沸する。回転式蒸発器で蒸)6処
理した後に)A直をアセトニトリルで抽出処理しそして
抽出物を再び蒸発処理する。115 ? (8!論値の
95%)のアセトン−N−メチルスルホンアミドが得ら
れる。
終了するまで(約2時間)、還流下に800 ynlの
2N−塩酸と一緒に煮沸する。回転式蒸発器で蒸)6処
理した後に)A直をアセトニトリルで抽出処理しそして
抽出物を再び蒸発処理する。115 ? (8!論値の
95%)のアセトン−N−メチルスルホンアミドが得ら
れる。
融点=42℃(メタノール/水)
実施例4
200 rnlのメチレンクロライドに233.61(
1mol )の6−アニリツクロトンに11−第6−ブ
チルエステルと101 ? (1mol )のトリエチ
ルアミンとを溶解した溶液を、500*Jのメチレンク
ロライドに溶解した1 43.5 r (1mol )
のN−エテルアミドスルホクロライドに0〜5℃で流加
する。同じ温度で1時間および室温で更に6時間位拌し
、水との振盪により2回抽出処理し、そしてそのメチレ
ンクロライド溶液−2蒸兄処理する。310f(理論値
の91% ) 0) 2− N−エチルアミドスルホニ
ル−6−アニリツクロトン譚−第6−ブチルエステルか
得られる。
1mol )の6−アニリツクロトンに11−第6−ブ
チルエステルと101 ? (1mol )のトリエチ
ルアミンとを溶解した溶液を、500*Jのメチレンク
ロライドに溶解した1 43.5 r (1mol )
のN−エテルアミドスルホクロライドに0〜5℃で流加
する。同じ温度で1時間および室温で更に6時間位拌し
、水との振盪により2回抽出処理し、そしてそのメチレ
ンクロライド溶液−2蒸兄処理する。310f(理論値
の91% ) 0) 2− N−エチルアミドスルホニ
ル−6−アニリツクロトン譚−第6−ブチルエステルか
得られる。
融点;65℃(メタノール)
アセトン−N−エチルスルホンアミド
反応生成物を500*認の2N塩敵と一緒に還流下に約
2時間煮沸fる。気体う6生の終了後に66係濃度の付
性ソーダ溶液でpH11に調整しそして1−プロピルエ
ーテルで抽出する。水訂欣を塩酸で1与び敵性にしそし
℃減圧下に蒸うしさせろ。アセトニトリルでの抽出およ
び抽出1勿の蒸発処理によって1581(理論値の92
%)のアセトン−N−エテルスルホンアミドが得られる
。
2時間煮沸fる。気体う6生の終了後に66係濃度の付
性ソーダ溶液でpH11に調整しそして1−プロピルエ
ーテルで抽出する。水訂欣を塩酸で1与び敵性にしそし
℃減圧下に蒸うしさせろ。アセトニトリルでの抽出およ
び抽出1勿の蒸発処理によって1581(理論値の92
%)のアセトン−N−エテルスルホンアミドが得られる
。
融点:57℃(1−プロパツール)
実施例5
200 m7!のメチレンクロライドにン谷解した5
B fi’ (0,2mol )のフェニルアミドスル
ホクロライドに、100−のメチレンクロライドに46
、6 ? (0,2mol )の6−アニリツクロトン
酸−J5−ブチルエステルと21.0 ? (0,21
m01)のトリエチルアミンとを溶解した浴液を0〜5
℃のもとで滴加する。1時間5℃に維持しそして室温で
一夜放置する。メチレンクロライド浴面を水と一緒に振
盪した後に、蒸発処理づ−る。72.4F(理論値の9
3係)の結晶した残渣がイ0られる。
B fi’ (0,2mol )のフェニルアミドスル
ホクロライドに、100−のメチレンクロライドに46
、6 ? (0,2mol )の6−アニリツクロトン
酸−J5−ブチルエステルと21.0 ? (0,21
m01)のトリエチルアミンとを溶解した浴液を0〜5
℃のもとで滴加する。1時間5℃に維持しそして室温で
一夜放置する。メチレンクロライド浴面を水と一緒に振
盪した後に、蒸発処理づ−る。72.4F(理論値の9
3係)の結晶した残渣がイ0られる。
融点=108℃(メタノール)
アセトン−N−フェニルスルホアミド
19、4 f (50m mol )の反応生成物を、
気体の発生が終了するまで50yn1.02N塩酸およ
び30mgのエタノールと一緒に還流下に煮沸する。冷
却後に51のアセトン−N−フェニルスルホンアミドが
結晶Di出する。母e、乞濃縮することによって更に4
1得られる。全収量:理論値の84%。融点:92℃(
メタノール)。
気体の発生が終了するまで50yn1.02N塩酸およ
び30mgのエタノールと一緒に還流下に煮沸する。冷
却後に51のアセトン−N−フェニルスルホンアミドが
結晶Di出する。母e、乞濃縮することによって更に4
1得られる。全収量:理論値の84%。融点:92℃(
メタノール)。
実施例6
20mgのメチレンクロライドに6M%した227t
(0,1mol )の6−モルホリノ−クロトン1vシ
ー第6−7チルエステルと117(0,11mol)の
トリエチルアミンと’f;i、50m1のメチレンクロ
ライドに16 ? (0,1mol )のフェニルアミ
ド−スルホクロライドを7’E=: 1%’l’ L、
たYJ 71Nに60℃のもとで滴加する。6時間後に
水と一緒に振盪し、メナレンクロライド’IN去しセし
て桟面を、気体の発生が終了するまで、1CJOrne
の2ト1塩岐と一緒に煮沸す・る。反応混合物からアセ
トン−N−フェニルスルホンアミド”i& 、75 b
m %のヘキサンと251%のエチルアセデー1・との
混合9勿にてシリカ−ゲルにてクロマトダラフイーによ
り分11n&する。
(0,1mol )の6−モルホリノ−クロトン1vシ
ー第6−7チルエステルと117(0,11mol)の
トリエチルアミンと’f;i、50m1のメチレンクロ
ライドに16 ? (0,1mol )のフェニルアミ
ド−スルホクロライドを7’E=: 1%’l’ L、
たYJ 71Nに60℃のもとで滴加する。6時間後に
水と一緒に振盪し、メナレンクロライド’IN去しセし
て桟面を、気体の発生が終了するまで、1CJOrne
の2ト1塩岐と一緒に煮沸す・る。反応混合物からアセ
トン−N−フェニルスルホンアミド”i& 、75 b
m %のヘキサンと251%のエチルアセデー1・との
混合9勿にてシリカ−ゲルにてクロマトダラフイーによ
り分11n&する。
実施例7
−2−エン酸エテルエステル
20〃Iの無水のアセトニトリルに10.724(68
,2tn、 mol )の6−アミンヘキサ−2−エン
酸エテルエステルを溶解した溶r(1’!、20 tr
tの無水のアセトニトリルに4.10 f/ (35,
5mm01)のアミドスルホクロライド乞浴解した浴液
に一5℃のもとで滴加する。45分間、0〜2℃のもと
で攪拌しそして室温で1.5時間更に攪拌し、約4℃の
もとで6.47!の6 N NaOHf滴加しそして反
応混合物を68℃の浴温度のもとで蒸発処理して約20
′?の桟面重量とする。
,2tn、 mol )の6−アミンヘキサ−2−エン
酸エテルエステルを溶解した溶r(1’!、20 tr
tの無水のアセトニトリルに4.10 f/ (35,
5mm01)のアミドスルホクロライド乞浴解した浴液
に一5℃のもとで滴加する。45分間、0〜2℃のもと
で攪拌しそして室温で1.5時間更に攪拌し、約4℃の
もとで6.47!の6 N NaOHf滴加しそして反
応混合物を68℃の浴温度のもとで蒸発処理して約20
′?の桟面重量とする。
この残7頁を7 trtの水と約100mJのCH2C
l2 との混合物中に入れ、充分に混合した後に相を分
離しそして水性相)icH2C1,と−緒に振盪するこ
とによって数回抽出処理する。集めた抽出物’gNa2
sO4で脱水し、1過しそして減圧下に蒸発処理する。
l2 との混合物中に入れ、充分に混合した後に相を分
離しそして水性相)icH2C1,と−緒に振盪するこ
とによって数回抽出処理する。集めた抽出物’gNa2
sO4で脱水し、1過しそして減圧下に蒸発処理する。
残る残渣をエチルアセテートに溶解する。ジイソプロピ
ルエーテルを加えると結ル 晶化が生ずる。結晶物質を吸引#−1過し、ジイソプロ
ピルエーテルで洗浄しそして減圧下に乾燥させる。こう
して1602の純粋な2−アミドスルホニル−6−アミ
ノ−へキサ−2−エン酸エテルエステルか得られる。融
点:102〜103℃(’II’ L C−純粋)、収
量:90.6%。
ルエーテルを加えると結ル 晶化が生ずる。結晶物質を吸引#−1過し、ジイソプロ
ピルエーテルで洗浄しそして減圧下に乾燥させる。こう
して1602の純粋な2−アミドスルホニル−6−アミ
ノ−へキサ−2−エン酸エテルエステルか得られる。融
点:102〜103℃(’II’ L C−純粋)、収
量:90.6%。
2−オキソ−ペンクン−1−スルホンアミド266り(
10gl mol )の2−アミドスルホニル−6−ア
ミノ−へキサ−2−エン酸エテルエステルを室温のもと
で151neの2N苛性ソーダ浴液に溶解する。16時
間後に油状副生成物をメチレンクロライドで抽出処理し
、この水浴液を過剰の製塩1政にて歌仙にしそして15
分90℃に加温jる。気体の発生のA′・り1後に蒸発
処理し、乾燥した残直乞煮沸エチルアセテートにて抽出
処理ずろ。エチルアセテート@故の蒸発処理後に0.7
6 f (理論性の58チ〕の結晶した2−オキソ−ペ
ンクン−1−スルホンアミド(ia点二117℃)が得
られる。
10gl mol )の2−アミドスルホニル−6−ア
ミノ−へキサ−2−エン酸エテルエステルを室温のもと
で151neの2N苛性ソーダ浴液に溶解する。16時
間後に油状副生成物をメチレンクロライドで抽出処理し
、この水浴液を過剰の製塩1政にて歌仙にしそして15
分90℃に加温jる。気体の発生のA′・り1後に蒸発
処理し、乾燥した残直乞煮沸エチルアセテートにて抽出
処理ずろ。エチルアセテート@故の蒸発処理後に0.7
6 f (理論性の58チ〕の結晶した2−オキソ−ペ
ンクン−1−スルホンアミド(ia点二117℃)が得
られる。
実施例8
ろ54y(15gmol)の2−アミドスルホ=7+z
−3−7ミ/−ヘキサ−2−エン酸エチルエステルと4
2+nlの)ICIとの混合物を4時間、62〜′54
℃のもとで攪拌する。7℃以下に冷却した後に結晶を吸
引f過しそして水にて中性になるまで洗浄する(約50
m1の水が必要である)。酸性の水性IJ−j液を減圧
下で蔓縮して約20祠の容量に濃縮する。その際に別の
結晶が沈殿する。これを吸引θゴ過しそして僅かの水で
洗浄づ−る。両方の結晶成分を乾燥した後に5.36
?(理論値の94.4係)の純粋な2−アミドスルホニ
ル−6−ケドヘキサン散エテルニスデルが得られる。融
点ニア7〜78℃。
−3−7ミ/−ヘキサ−2−エン酸エチルエステルと4
2+nlの)ICIとの混合物を4時間、62〜′54
℃のもとで攪拌する。7℃以下に冷却した後に結晶を吸
引f過しそして水にて中性になるまで洗浄する(約50
m1の水が必要である)。酸性の水性IJ−j液を減圧
下で蔓縮して約20祠の容量に濃縮する。その際に別の
結晶が沈殿する。これを吸引θゴ過しそして僅かの水で
洗浄づ−る。両方の結晶成分を乾燥した後に5.36
?(理論値の94.4係)の純粋な2−アミドスルホニ
ル−6−ケドヘキサン散エテルニスデルが得られる。融
点ニア7〜78℃。
実施例9
2−アミドスルホニル−アセト酢酸エチルエステル
10.4!i’の2−アミドスルホニル−6−アミノ−
クロトン1後エチルエステルと65m1の4NHCIと
の混合物を、60℃に1時間そして室温に6時間維持し
、次に661の桟面重量に減圧下に濃縮する。 〜4℃
で17時間放詮した後に結晶析出した物質を吸引lj過
し、水で後洗浄する。この場合に、6.6S’の純粋な
2−アミドスルホニル−アセト酢酸エチルエステルカ得
うれる。水性母液を、残置151になるまで減圧下に濃
縮し、次にCH2Cl□で抽出ずろ。−緒にしたCH2
Cl2 −抽出9勿を乾燥、d−1過および蒸発処理し
た後に、55グの結晶貿残はが後に7Aる。
クロトン1後エチルエステルと65m1の4NHCIと
の混合物を、60℃に1時間そして室温に6時間維持し
、次に661の桟面重量に減圧下に濃縮する。 〜4℃
で17時間放詮した後に結晶析出した物質を吸引lj過
し、水で後洗浄する。この場合に、6.6S’の純粋な
2−アミドスルホニル−アセト酢酸エチルエステルカ得
うれる。水性母液を、残置151になるまで減圧下に濃
縮し、次にCH2Cl□で抽出ずろ。−緒にしたCH2
Cl2 −抽出9勿を乾燥、d−1過および蒸発処理し
た後に、55グの結晶貿残はが後に7Aる。
このものをエチルアセテート/ジイソプロピルエーテル
(3:5)にて(4+結晶処」里して287の純粋な2
−アミドスルホニル−アセトlj’lE ladエチル
エステル(r’ll<点:65〜66℃)が得られる。
(3:5)にて(4+結晶処」里して287の純粋な2
−アミドスルホニル−アセトlj’lE ladエチル
エステル(r’ll<点:65〜66℃)が得られる。
従って、2−アミドスルホニル−アセト酢ばエチルエス
テルの収量は9.41 (= 904. )と成る。
テルの収量は9.41 (= 904. )と成る。
実施例10
2−アミドスルホニル−ベンゾイル酢酸メチルエステル
2、57 f/のα−アミドスルホニル−β−アミノ−
珪皮酸メチルエステルと20m1の4 N HC]との
混合物を室温で25時間攪拌する0次に結晶を吸引f5
過し、水で後洗浄する。乾燥後に2、40 S’ (=
93%)の純粋な2−アミドスルホニル−ベンゾイル
酢酸メチルエステル(融点164〜165℃)が得られ
る。
珪皮酸メチルエステルと20m1の4 N HC]との
混合物を室温で25時間攪拌する0次に結晶を吸引f5
過し、水で後洗浄する。乾燥後に2、40 S’ (=
93%)の純粋な2−アミドスルホニル−ベンゾイル
酢酸メチルエステル(融点164〜165℃)が得られ
る。
実施例11
40−の無水のアセトニトリルに1082(50,1H
mol )の3=アミノ−4−フェニル−’IOドアU
エチルエステルを溶解した溶液を、20−の無水のアセ
トニトリルに5.105’(26,8B mol )の
アミドスルホクロジイドを溶解した溶液に約15分間、
−5℃のもとで流加する。0℃〜2℃で45分、2℃〜
室温で45分そして室温で2時間攪拌し、約2℃のもと
で4、8 mtの6 N NaOH’f滴流加そしてこ
の混合物を68℃の浴温度のもとで蒸発処理して約15
7の残置重量にする。この残置な、12m1の水と約1
00m7!の0H2C1,との混合物中に入れ、充分に
混合した後に相を分離しそして水性相をCI(、C12
と−緒に振盪して4回抽出する〇−緒にした抽出物をN
a2SO4で乾燥し、J4過しそして減圧下に蒸発処理
する。後に残る残置(1z4V)を珪酸ゲル・カラム〔
珪酸ゲル:81粒度:0.0063〜02聰、カラムφ
:24咽、カラム高さ:520mm、供給7c:リーテ
ル・す・ヘン(Riedel de Haen ) )
にてりClマドグラフィー処理する。溶離剤として最初
にCH2Cl□/石油エーテル(1:1)を用い、それ
によって過剰の3−アミノ−4−フェニル−クロトン酸
−するいは4−フェニルアセト酢酸エチルエステルを溶
離する。I容離41J中のCH2Cl、の割合を、2〜
乙の中間分別物(溶離液1600me)の後にCH2C
1t で2−アミドスルホニル−6−アミノ−4−フェ
ニル−クロトン酸エチルエステルを溶離するまで、連続
的に増加させる。純粋の2−アミドスルホニルエステル
が粘性で無色の油(E/Z−混合物)として4.74
S’ (−66,7チ)が得られる。
mol )の3=アミノ−4−フェニル−’IOドアU
エチルエステルを溶解した溶液を、20−の無水のアセ
トニトリルに5.105’(26,8B mol )の
アミドスルホクロジイドを溶解した溶液に約15分間、
−5℃のもとで流加する。0℃〜2℃で45分、2℃〜
室温で45分そして室温で2時間攪拌し、約2℃のもと
で4、8 mtの6 N NaOH’f滴流加そしてこ
の混合物を68℃の浴温度のもとで蒸発処理して約15
7の残置重量にする。この残置な、12m1の水と約1
00m7!の0H2C1,との混合物中に入れ、充分に
混合した後に相を分離しそして水性相をCI(、C12
と−緒に振盪して4回抽出する〇−緒にした抽出物をN
a2SO4で乾燥し、J4過しそして減圧下に蒸発処理
する。後に残る残置(1z4V)を珪酸ゲル・カラム〔
珪酸ゲル:81粒度:0.0063〜02聰、カラムφ
:24咽、カラム高さ:520mm、供給7c:リーテ
ル・す・ヘン(Riedel de Haen ) )
にてりClマドグラフィー処理する。溶離剤として最初
にCH2Cl□/石油エーテル(1:1)を用い、それ
によって過剰の3−アミノ−4−フェニル−クロトン酸
−するいは4−フェニルアセト酢酸エチルエステルを溶
離する。I容離41J中のCH2Cl、の割合を、2〜
乙の中間分別物(溶離液1600me)の後にCH2C
1t で2−アミドスルホニル−6−アミノ−4−フェ
ニル−クロトン酸エチルエステルを溶離するまで、連続
的に増加させる。純粋の2−アミドスルホニルエステル
が粘性で無色の油(E/Z−混合物)として4.74
S’ (−66,7チ)が得られる。
”+2 [16N2 o、 S ’
計算値 C5[1,7チ;N57チ; N 9.9チ;
S 11. S係測定値 CHN 5 TLC(CH2C1□/エタノール10015):Rf
O,402842(10ηz mol ) の 2−
ア ミ ド ス ル 、i二ニル−6−アミノ−4−
フェニルクロトン岐エチルエステルを室温で15mgの
2N苛性ソータ゛浴液に溶解する。16時間後にメチレ
ンクロライドで油状副生成物を抽出し、水浴液を濃塩酸
でpH1に調整しそして15分間で90℃に加温する0
水溶液を蒸発した後に残渣をエチルアセテートで抽出処
理しそして硫酸ナトリウムで脱水した抽出物を再び蒸発
させる。1.439(理論値の68係)の結晶質2−オ
キソ−6−フェニル−プロパンー1−スルホンアミド力
ζ得られる。
S 11. S係測定値 CHN 5 TLC(CH2C1□/エタノール10015):Rf
O,402842(10ηz mol ) の 2−
ア ミ ド ス ル 、i二ニル−6−アミノ−4−
フェニルクロトン岐エチルエステルを室温で15mgの
2N苛性ソータ゛浴液に溶解する。16時間後にメチレ
ンクロライドで油状副生成物を抽出し、水浴液を濃塩酸
でpH1に調整しそして15分間で90℃に加温する0
水溶液を蒸発した後に残渣をエチルアセテートで抽出処
理しそして硫酸ナトリウムで脱水した抽出物を再び蒸発
させる。1.439(理論値の68係)の結晶質2−オ
キソ−6−フェニル−プロパンー1−スルホンアミド力
ζ得られる。
実施例12
2−7辷しソリ!=yv−4二1そ二り二1土ト丁唆エ
チルエステル 1、46? (5m mol )の2−アミドスルホニ
ル−s−アミy−4−フェニルークロトン酸エチルエス
テル(実施例11による)’((45mj!、(7)4
N HL’lと混合しそして62〜65℃で2.5時
間攪拌する(混合物は、この場合二相のま又である。)
。次にエーテルで抽出する。脱水したエーテル抽出物を
1口過し、蒸発処理する。この場合にはt247の結晶
質の残渣が後に残る。
チルエステル 1、46? (5m mol )の2−アミドスルホニ
ル−s−アミy−4−フェニルークロトン酸エチルエス
テル(実施例11による)’((45mj!、(7)4
N HL’lと混合しそして62〜65℃で2.5時
間攪拌する(混合物は、この場合二相のま又である。)
。次にエーテルで抽出する。脱水したエーテル抽出物を
1口過し、蒸発処理する。この場合にはt247の結晶
質の残渣が後に残る。
このものは既に実質的に純粋な2−アミドスルホニル−
4−フェニル−アセ) trp wエチルエステルであ
る。この物質を僅かのヘキサノと混合しそして吸引14
遇する。乾燥後に1162(81,3%の収率)の純粋
な2−アミドスルホニル−4−フェニル−アセト酢酸エ
テルエステル(融点ニア7〜78℃)が得られる。
4−フェニル−アセ) trp wエチルエステルであ
る。この物質を僅かのヘキサノと混合しそして吸引14
遇する。乾燥後に1162(81,3%の収率)の純粋
な2−アミドスルホニル−4−フェニル−アセト酢酸エ
テルエステル(融点ニア7〜78℃)が得られる。
代理人 江崎光好
代理人 江 崎 光 史
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式(I) 1 〔式中、R1はCl−Cl+−アルキル基、場合によっ
てはハロゲン原子、Cl−04−アルキルオキ/−、ニ
トロ−または01〜C2−アルコキ7カルボニル基で置
換されているフェニル基(但シ、フェニル基についてい
る直換基の数は最高3個である。)または、フェニル基
が1または2個のノ・ロゲン原子またはC1〜C2−ア
ルコキシ基で置換されていてもよいフェニル−(C+〜
C2)−アルキル基を、そして R2は水素原子、01〜C1□−アルキル基または、0
〜3個のヘテトロ原子および0〜2個の炭素原子を含有
する基で置換されていてもよい06〜Cl2−アリール
基を意味する。〕で表わされる2−ケト−スルホンアミ
ド類を製造するに当って、式(II) 〔式中 R1は上記の意味を有しそしてR3およびR4
は互に同じでもまたは異なっていてもよ(、水素原子、
互に結合してパtを形成していてもよいC0〜C4−ア
ルギル基または、0〜2個のへテロ原子をイエしている
06〜Cl2−アルアルキル−または−アリール基をそ
して Rr′はヘテロ原子を有していてもよくそして分岐して
いるかまたは分岐していないCI〜eta−アルキル基
、殊K C,〜C4−アルキル基を意味する。〕 で表わされる6−アミノ−2−アルケン酸エステルと式
(III) x −So□NH−R2(III) 〔式中 R2は上記の意味を有しそして又は塩素、臭素
または弗累を意味している。〕とを、用いるエステル当
り少な(とも1当量の塩基の存在下に反応させ、得られ
る式(ff)So2NHR2 N O R3R4 〔式中、R’、 R2、風R4およびR5は上記の意味
を有′1−る。〕 で表わされる6−アミノ−2−スルファモイル−2−ア
ルケン酸エステルを酸性−またはアルカリ性ケン化反応
および脱炭酸反応に委ねることをq@駕とづ−る、上記
2−ケト−スル2)式(I) 〔式中 Hlは01〜C11−アルキル基、場合によっ
てはハロケン原子、01〜C4−アルキルオキシ−、ニ
トローマタは01〜C2−アルコキシカルボニル基で置
換されているフェニル基(但し、フェニル基についCい
る置換基の数は最高6個である。9または、フェニル基
が1または2個の・・ロゲン原子または01〜C2−ア
ルコキシ基で置換されていてもよいフェニル−(01〜
(4)−7ルキルそして R2は水素原子、CI ” CI2−アルキル基または
、0〜6個のヘテトロ原子および0〜2個の炭素原子乞
含有する基でi&換されていてもよい06〜CI2−ア
リール基を意味ずろ。〕で表わされる2−ケト−スルホ
ンアミド類であり、但し式(I)中、R1が01〜C4
−アルキル−またはフェニル基でありそしてR2が水素
原子を意味する化合物、および R1がフェニル基でありそしてR2がフェニル−、シク
ロヘキシル−またはn−ブチル基を意味する化合物 を除いた上記2−ケト−スルホンアミド類。 6ン 式 (IV) So2NHR2 〔式中、R1は01〜C11−アルキル基、場合によっ
てはハロゲン原子、01〜C4−アルキルオキシ−、ニ
トロ−または01〜C2−アルコキシカルボニル基で置
換されているフェニル基(但し、フェニル基についてい
る置換基の数は最高6個である。)または、フェニル基
が1または2個のー・ロゲン原子または01〜C2−ア
ルコキシ基で置換されていてもよいフェニル−(01〜
C2)−アルキル基ヲ、そして R2は水素原子、01〜CI2−アルキル基または、0
〜6個のヘテ)o原子および0〜2個の炭素原子を含有
する基で置換されていてもよい06〜CI2−アリール
基を意味し、R”およびR4は互に同じでもまたは異−
なっていてもよ(、水素原子、互に結合して環を形成し
ていてもよいC, # C4−アルキル基または、O〜
2 fi.Jilのへテロ原子を有している06〜CI
2−アルアルキル−またはC。−01□ーアリール基を
そして R5は、ヘテロ原子を有していてもよくそして分岐して
いるかまたは分岐していない01〜CI8−アルキル基
を意味する。〕 で表わされる3−アミノ−2−スルファモイル−2−ア
ルケン酸エステルを製造するに当つ℃、式(II) 〔式中、R’、紙R4およびR5は上記の意味を有する
。〕 で表わされる3−アミノ−2−アルケン酸エステルを式
(III) X −5o2NH−R2(III) 〔式中 R2は上記の意味を有しそしてXは塩素、臭素
または弗素を意味している。〕で表わされるアミドスル
ホーハロゲニトトヲ、用いるエステル当り少なくとも1
当量の塩基の存在下に反応させることを特徴とする、上
記6−アミノ−2−スルファモイル−2−アルケン酸エ
ステルの製造方法。 4)式(1■) So2NHR2 失7C\/°R’ 〔式中、RIは01〜CI!−アルキル基、場合によっ
てはハロケン原子、C0〜C4−アルキルオキシ−、ニ
トロ−またはC8〜C2−アルコキシカルボニル基で置
換されているフェニル基(但シ、フェニル丞についてい
る置換基の数は最市61固である。)まプこは、フェニ
ル基が1−したは2個のノ・ロケン原子またはCl−0
2−アルコキシ基で置換されていてもよいフェニル−(
C5〜C2)−フルキル基ヲ、そして R2は水素原子、Cl−Cl□−アルキル基または、0
〜6個のヘテトロ原子および0〜2個の炭素原子を含イ
fする基で置換されていてもよい06〜Cl2−アリー
ル基を意味し、R3およびR4は互に同じでもまたは異
なっていてもよく、水素原子、互に結合してRを形成し
ていてもよい01〜C4−アルキル基または、0〜2個
のへテロ原子を有している06〜Cl2−アルアルキル
−または06〜Cl2−アリール基をそして R5は、ペテロ原子を有していてもよ(そして分岐して
いるかまたは分岐していない01〜Cl8−アルキル基
を意味する。〕 で表わされる3−アミノ−2−スルファモイル−2−ア
ルケン酸エステル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833323510 DE3323510A1 (de) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 2-ketosulfonamide und verfahren zu deren herstellung |
| DE33235104 | 1983-06-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6025963A true JPS6025963A (ja) | 1985-02-08 |
Family
ID=6202734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59133416A Pending JPS6025963A (ja) | 1983-06-30 | 1984-06-29 | 2−ケトンスルホンアミド類およびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4628109A (ja) |
| EP (1) | EP0134934B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6025963A (ja) |
| CA (1) | CA1230606A (ja) |
| DE (2) | DE3323510A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA863578B (en) * | 1985-06-21 | 1987-02-25 | Hoffmann La Roche | Dihydropyridine derivatives |
| EP0214009A3 (en) * | 1985-07-30 | 1989-01-11 | Merck & Co. Inc. | Enaminones as potential prodrugs of primary and secondary amines |
| US4812463A (en) * | 1986-06-30 | 1989-03-14 | Merck & Co., Inc. | Alkanesulfonamides as antiglaucoma agents |
| DE3768352D1 (de) * | 1986-06-30 | 1991-04-11 | Merck & Co Inc | Alkansulfonamide als antiglaucoma-mittel. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2737195A1 (de) * | 1977-08-18 | 1979-03-01 | Hoechst Ag | Benzolsulfonamidderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3116129A1 (de) * | 1981-04-23 | 1982-11-11 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | 2-ketosulfonamide und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1983
- 1983-06-30 DE DE19833323510 patent/DE3323510A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-06-26 DE DE8484107338T patent/DE3462499D1/de not_active Expired
- 1984-06-26 EP EP84107338A patent/EP0134934B1/de not_active Expired
- 1984-06-27 US US06/624,938 patent/US4628109A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-06-29 CA CA000457912A patent/CA1230606A/en not_active Expired
- 1984-06-29 JP JP59133416A patent/JPS6025963A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1230606A (en) | 1987-12-22 |
| DE3323510A1 (de) | 1985-01-10 |
| EP0134934B1 (de) | 1987-03-04 |
| US4628109A (en) | 1986-12-09 |
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| DE3462499D1 (en) | 1987-04-09 |
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