JPS6026096Y2 - プラズマ処理用放電電極装置 - Google Patents
プラズマ処理用放電電極装置Info
- Publication number
- JPS6026096Y2 JPS6026096Y2 JP1982149192U JP14919282U JPS6026096Y2 JP S6026096 Y2 JPS6026096 Y2 JP S6026096Y2 JP 1982149192 U JP1982149192 U JP 1982149192U JP 14919282 U JP14919282 U JP 14919282U JP S6026096 Y2 JPS6026096 Y2 JP S6026096Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- case
- electrode plate
- cover
- discharge electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はプラズマ処理用の放電電極装置に関する。
従来のこの種装置としての、例えばいわゆる容量結合型
プラズマ重合処理装置では、有機ガスの導入された真空
チャンバ内に２枚の放電電極板が対向設置され、それら
の中間部に被処理材料が保持されるようになっていた。
プラズマ重合処理装置では、有機ガスの導入された真空
チャンバ内に２枚の放電電極板が対向設置され、それら
の中間部に被処理材料が保持されるようになっていた。
しかして、従来のものは、磁石による磁場が電極板の裏
面側にも形成されるので、裏面の各部分に前気ガスによ
る気相生成膜が付着し、これを取り除くため擦ったり、
薬品洗滌したりするためメッキが剥げてしまい、錆が生
ずるという欠点があった。
面側にも形成されるので、裏面の各部分に前気ガスによ
る気相生成膜が付着し、これを取り除くため擦ったり、
薬品洗滌したりするためメッキが剥げてしまい、錆が生
ずるという欠点があった。
本考案は上記欠点を除き、電極板の裏側への磁場の１戊
を防止し、該裏側に付着する重合膜の洗滌を容易に行な
えるようにした放電電極装置を提供することを目的とす
る。
を防止し、該裏側に付着する重合膜の洗滌を容易に行な
えるようにした放電電極装置を提供することを目的とす
る。
以下本考案を図面に示す一実施例にもとづいて説明する
。
。
第１図および第２図において、大略的に放電電極装置は
、電極板１と、その裏面に設けられた非磁性体からなる
磁石ケース２と、該ケース２の中央部に配置された第１
磁石９と、該第１磁石の周囲に間隙を有して環状に配置
された複数（実施例では８個）の第２磁石１０と、これ
ら第２磁石１０のすべてに橋架して前記電極板１との間
に配置された環状磁性体板１１とを有する。
、電極板１と、その裏面に設けられた非磁性体からなる
磁石ケース２と、該ケース２の中央部に配置された第１
磁石９と、該第１磁石の周囲に間隙を有して環状に配置
された複数（実施例では８個）の第２磁石１０と、これ
ら第２磁石１０のすべてに橋架して前記電極板１との間
に配置された環状磁性体板１１とを有する。
電極板１は不銹鋼等の非磁性体からなり、正方形等の矩
形をなしてその縦辺を鉛直方向に沿わせた姿勢で鉛直面
内に展延する。
形をなしてその縦辺を鉛直方向に沿わせた姿勢で鉛直面
内に展延する。
磁石ケース２は不銹鋼等の非磁性短円筒体を呈して電極
板１の裏面に一体形成される。
板１の裏面に一体形成される。
該磁石ケース２の後面（第２図左方）は炭素鋼等の磁性
体で円板状のケースカバー３で覆われる。
体で円板状のケースカバー３で覆われる。
ケースカバ−３内面には、中央に前記第１磁石９が収容
される円形第１凹所３ａと、その間隔を存した周囲の前
記第１凹所３ａに対する同心円上等間隔位置に、前記第
２磁石１０が収容される複数（図示８ケ）の円形第２凹
所３ｂが設けられている。
される円形第１凹所３ａと、その間隔を存した周囲の前
記第１凹所３ａに対する同心円上等間隔位置に、前記第
２磁石１０が収容される複数（図示８ケ）の円形第２凹
所３ｂが設けられている。
従って、ケース２の内部に冷却水路１２となる空間部分
が残される。
が残される。
これらケースカバー３とケース２はＯリング４を介して
水密とされ、止ねじ５によって緊締されている。
水密とされ、止ねじ５によって緊締されている。
電極板１の表面側はタンタル等の材料を用いたスパッタ
率の低い非磁性体の表面保護カバー６が外嵌される。
率の低い非磁性体の表面保護カバー６が外嵌される。
また、前記ケースカバー３の後面側は不銹鋼等の非磁性
体からなる円形の裏面保護カバー７で覆われ止ねじ８で
固定されている。
体からなる円形の裏面保護カバー７で覆われ止ねじ８で
固定されている。
第１磁石９および第２磁石１０は円柱状を呈し、両者の
間に磁場が形成されるよう、第１磁石９はＳ極を電極側
に向け、第２磁石１０はＮ極を電極側に向けて装着され
る。
間に磁場が形成されるよう、第１磁石９はＳ極を電極側
に向け、第２磁石１０はＮ極を電極側に向けて装着され
る。
なお、１２ａ、１２ｂは各々ケースカバー３、保護カバ
ー７に設けられた冷却水の入口および出口である。
ー７に設けられた冷却水の入口および出口である。
次にその作動状態を説明する。
上記の放電電極装置の電極板１の一対が真空チャンバ内
に対向設置され、それらの中間部に被処理材料が保持さ
れるとき、交流電源の極性変化により交互に、一方の電
極板１から他方の電極板１へのグ冶−放電が生じる。
に対向設置され、それらの中間部に被処理材料が保持さ
れるとき、交流電源の極性変化により交互に、一方の電
極板１から他方の電極板１へのグ冶−放電が生じる。
また、第１、第２磁石９．１０間には磁性体板１１によ
り矢印Ｅの如くドーナツ状の磁場が生じる。
り矢印Ｅの如くドーナツ状の磁場が生じる。
従って、電子やイオン等は磁束Ｅに沿ってピッチされら
ることとなり、求める方向への効果的なプラズマ処理が
行なえる。
ることとなり、求める方向への効果的なプラズマ処理が
行なえる。
磁力線はケースカバー３の内部を通って第２磁石１０か
ら第１磁石９に至るため、電極板１の裏側に磁場が形成
されることがなく、従って、保護カバー７の裏面の各部
分に気相生成重合膜が殆んど付着せず、仮り僅かに付着
しても、カバー７は不銹材料からなるので、メッキなし
に洗浄等による錆を生ずることがない。
ら第１磁石９に至るため、電極板１の裏側に磁場が形成
されることがなく、従って、保護カバー７の裏面の各部
分に気相生成重合膜が殆んど付着せず、仮り僅かに付着
しても、カバー７は不銹材料からなるので、メッキなし
に洗浄等による錆を生ずることがない。
なお、第２磁石１０の個数を増減することにより磁場の
強さを容易に変更でき、かつ、だ円線上に配置されても
よく、磁石形状は円柱や角柱など自由に選択できる。
強さを容易に変更でき、かつ、だ円線上に配置されても
よく、磁石形状は円柱や角柱など自由に選択できる。
本考案は前記のほか、プラズマ表面処理装置等のプラズ
マ処理装置にも適用される。
マ処理装置にも適用される。
本考案は前記例に限定されず、実用新案登録請求の範囲
に記載された範囲で種々の変形が可能である。
に記載された範囲で種々の変形が可能である。
本考案は以上の如く構成されるので電極板の裏側への放
電を防止できるのみならず、裏側に付着する重合体の洗
滌が極めて容易となった。
電を防止できるのみならず、裏側に付着する重合体の洗
滌が極めて容易となった。
第１図は本考案の一実施例を示す正面図、第２図は第１
図の■−■断面図である。 １・・・・・・電極板、２・・・・・・磁石ケース、３
・・・・・・ケースカバー、６・・・・・・表面保護カ
バー、７・・・・・・裏面保護カバー、９・・・・・・
第１磁石、１０・・・・・・第２磁石、１１・・・・・
・環状磁性体板、１２・・・・・・冷却水路。
図の■−■断面図である。 １・・・・・・電極板、２・・・・・・磁石ケース、３
・・・・・・ケースカバー、６・・・・・・表面保護カ
バー、７・・・・・・裏面保護カバー、９・・・・・・
第１磁石、１０・・・・・・第２磁石、１１・・・・・
・環状磁性体板、１２・・・・・・冷却水路。
Claims (1)
- 電極板と、その裏面に設けられた非磁性体ケースと、該
ケースの内部に収容された磁石と、前記ケースの裏面開
口部を覆う磁性体カバーと、該カバーの外面を覆う不銹
性保護カバーとを含むプラズマ処理用放電電極装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982149192U JPS6026096Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982149192U JPS6026096Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954544U JPS5954544U (ja) | 1984-04-10 |
| JPS6026096Y2 true JPS6026096Y2 (ja) | 1985-08-06 |
Family
ID=30331251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982149192U Expired JPS6026096Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026096Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55146925A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-15 | Toshiba Corp | Manufacturing of magnetic film |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP1982149192U patent/JPS6026096Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5954544U (ja) | 1984-04-10 |
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