JPS6026094Y2 - プラズマ処理用放電電極装置 - Google Patents
プラズマ処理用放電電極装置Info
- Publication number
- JPS6026094Y2 JPS6026094Y2 JP14919082U JP14919082U JPS6026094Y2 JP S6026094 Y2 JPS6026094 Y2 JP S6026094Y2 JP 14919082 U JP14919082 U JP 14919082U JP 14919082 U JP14919082 U JP 14919082U JP S6026094 Y2 JPS6026094 Y2 JP S6026094Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- electrode plate
- discharge electrode
- case
- magnets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はプラズマ処理装置用の放電電極装置に関する。
従来のこの種装置としての例えばいわゆる容量結合型プ
ラズマ重合処理装置では、有機ガスの導入された真空チ
ャンバ内に２枚の放電電極板が対向設置され、それらの
中間部に被処理材料が保持されるようになっていた。
ラズマ重合処理装置では、有機ガスの導入された真空チ
ャンバ内に２枚の放電電極板が対向設置され、それらの
中間部に被処理材料が保持されるようになっていた。
そして、例えば特公昭５５−２７６２６号公報に示され
るように、矩形電極板の縦中心線を挟んで左右両側に複
数の磁石が上下に並列され、左右両側は互いに異極性、
同じ側では同極性とされ、磁束が半円筒面状に生皮され
ていた。
るように、矩形電極板の縦中心線を挟んで左右両側に複
数の磁石が上下に並列され、左右両側は互いに異極性、
同じ側では同極性とされ、磁束が半円筒面状に生皮され
ていた。
従って、磁束にむらが生じ、また、プラズマを求むる方
向に充分にピンチすることができなかった。
向に充分にピンチすることができなかった。
本考案は上記欠点を除き、磁場の強さを容易に変更でき
るとともに、電極間で放電をピンチさせることのできる
安価な電極装置を提供することを目的とする。
るとともに、電極間で放電をピンチさせることのできる
安価な電極装置を提供することを目的とする。
以下本考案を図面に示す一実施例にもとづいて説明する
。
。
第１図および第２図において、大略的に放電電極装置は
、電極板１と、その裏面に設けられた非磁性体からなる
磁石ケース２と、該ケース２の中央部に配置された第１
磁石９と、該第１磁石の周囲に間隙を有して環状に配置
された複数（実施例では８個）の第２磁石１０と、これ
ら第２磁石１０のすべてに橋架して前記電極板１との間
に配置された環状磁性体板１１とを有する。
、電極板１と、その裏面に設けられた非磁性体からなる
磁石ケース２と、該ケース２の中央部に配置された第１
磁石９と、該第１磁石の周囲に間隙を有して環状に配置
された複数（実施例では８個）の第２磁石１０と、これ
ら第２磁石１０のすべてに橋架して前記電極板１との間
に配置された環状磁性体板１１とを有する。
電極板１は不銹鋼等の非磁性体からなり、正方形等の矩
形となしてその縦辺を鉛直方向に沿わせた姿勢で沿直面
内に展延する。
形となしてその縦辺を鉛直方向に沿わせた姿勢で沿直面
内に展延する。
磁石ケース２は不銹鋼等の非電極短円筒体を呈して電極
板１の裏面に一体形成される。
板１の裏面に一体形成される。
該磁石ケース２の後面（第２図左方）は磁性体円板状の
炭素鋼等の材料からなるケースカバー３で覆われる。
炭素鋼等の材料からなるケースカバー３で覆われる。
ケースカバ−３内面には中央に前記第１磁石９が収容さ
れる円形第１凹所３ａと、その間隔を存した周囲の前記
第１凹所３ａに対する同心円上等間隔位置に、前記第２
磁石１０が収容される複数（図示８ケ）の円形第２凹所
３ｂが設けられている。
れる円形第１凹所３ａと、その間隔を存した周囲の前記
第１凹所３ａに対する同心円上等間隔位置に、前記第２
磁石１０が収容される複数（図示８ケ）の円形第２凹所
３ｂが設けられている。
従って、ケース２の内部に冷却水路１２となる空間部分
が残される。
が残される。
これらケースカバー３とケース２とはＯリング４を介し
て水密とされ、止ねじ５によって緊締されている。
て水密とされ、止ねじ５によって緊締されている。
電極板１の表面側はタンタル等の材料を用いたスパッタ
率の低い非磁性体の表面保護カバー６が外嵌される。
率の低い非磁性体の表面保護カバー６が外嵌される。
また、前記、ケースカバー３の後面側は不銹鋼等の非磁
性体からなる円形の裏面保護カバー７で覆われ止ねじ８
て固定されている。
性体からなる円形の裏面保護カバー７で覆われ止ねじ８
て固定されている。
第１磁石９および第２磁石１０は円柱状を呈し両者の間
に磁場が形成されるよう、第１磁石９はＳ極を電極間に
向け、第２磁石１０はＮ極を電極側に向けて装着される
。
に磁場が形成されるよう、第１磁石９はＳ極を電極間に
向け、第２磁石１０はＮ極を電極側に向けて装着される
。
環状磁性体板１１は鉄板等の材料からなる。
なお、１２ａ、１２ｂは各々ケースカバー３、保護カバ
ー７に設けられた冷却水の入口および出口である。
ー７に設けられた冷却水の入口および出口である。
次にその作動状態を説明する。
上記の放電電極装置の電極板１の一対が真空チャンバ内
に対向設置され、それらの中間部に被処理材料が保持さ
れているとき、交流電源の極性変化により交互に、一方
の電極板１から他方の電極板１ヘゲロー放電が生じる。
に対向設置され、それらの中間部に被処理材料が保持さ
れているとき、交流電源の極性変化により交互に、一方
の電極板１から他方の電極板１ヘゲロー放電が生じる。
また、第１、第２磁石９，１０間には磁性体板１１によ
り矢印Ｅの如くドーナツ状の磁場が生じる。
り矢印Ｅの如くドーナツ状の磁場が生じる。
従って、プラズマは磁束Ｅによって電極板間でピンチさ
れることとなり、求める方向への効果的なプラズマ処理
が行える。
れることとなり、求める方向への効果的なプラズマ処理
が行える。
また、磁性体カバー３内に磁場が生じて外部へ出ること
がない。
がない。
冷却水路１２に冷却水が導入されると、前記電子、イオ
ン等が電極板１に衝突して装置自体が昇温するのが抑え
られる。
ン等が電極板１に衝突して装置自体が昇温するのが抑え
られる。
なお、第２磁石１０の個数を増減することにより磁場の
強さを容易に変更でき、かつ、だ円線上に配置されても
よい。
強さを容易に変更でき、かつ、だ円線上に配置されても
よい。
また、磁石の形状は円柱または角柱など自由に選択でき
る。
る。
本考案は前記のほか、プラズマ表面処理装置等のプラズ
マ処理装置にも適用される。
マ処理装置にも適用される。
本考案は前記例に限定されず、実用新案登録請求の範囲
に記載された範囲で種々の変形を含む。
に記載された範囲で種々の変形を含む。
本考案は以上の如く構成されるので、一対の電極間で放
電をピンチさせることが可能であり、磁場の強さを容易
に変更できるとともに装置自体を安価に提供できること
となった。
電をピンチさせることが可能であり、磁場の強さを容易
に変更できるとともに装置自体を安価に提供できること
となった。
第１図は本考案の一実施例を示す正面図、第２図は第１
図の■−■断面図である。 １・・・・・・電極板、２・・・・・・磁石ケース、３
・・・・・・ケースカバー ６・・・・・・表面保護カ
バー ７・・・・・・裏面保護カバー、９・・・・・・
第１磁石、１０・・・・・・第２磁石、１１・・・・・
・環状磁性体板、１２・・・・・・冷却水路。
図の■−■断面図である。 １・・・・・・電極板、２・・・・・・磁石ケース、３
・・・・・・ケースカバー ６・・・・・・表面保護カ
バー ７・・・・・・裏面保護カバー、９・・・・・・
第１磁石、１０・・・・・・第２磁石、１１・・・・・
・環状磁性体板、１２・・・・・・冷却水路。
Claims (1)
- 電極板と、その裏面に設けられた非磁性体ケースと、該
ケースの中央部に配置された第１磁石と、該第１磁石に
対し間隙を存した周囲の同一環線上に配置された複数個
の互いに同極性、かつ、前記第１磁石に対し異極性なる
第２磁石と、これら複数の第２磁石のすべてに橋架して
、かつ、前記電極板との間に配置された環状磁性体板と
を含むプラズマ処理用放電電極装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14919082U JPS6026094Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14919082U JPS6026094Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954542U JPS5954542U (ja) | 1984-04-10 |
| JPS6026094Y2 true JPS6026094Y2 (ja) | 1985-08-06 |
Family
ID=30331247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14919082U Expired JPS6026094Y2 (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | プラズマ処理用放電電極装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026094Y2 (ja) |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP14919082U patent/JPS6026094Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5954542U (ja) | 1984-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1369898B1 (en) | Magnetic field generator for magnetron plasma | |
| KR960002633B1 (ko) | 마그네트론 음극체 | |
| KR900005347B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
| US8409400B2 (en) | Inductive plasma chamber having multi discharge tube bridge | |
| US6620334B2 (en) | Etching apparatus and etching method | |
| JP4437351B2 (ja) | プラズマエッチング装置 | |
| EP0360534A3 (en) | Microwave plasma treatment apparatus | |
| JPS6419727A (en) | Dry-etching equipment employing plasma enclosure by surface magnetic field | |
| US5085755A (en) | Sputtering apparatus for forming thin films | |
| JPH09104977A (ja) | 基板を被覆するための装置 | |
| JPS6026095Y2 (ja) | プラズマ放電電極の冷却装置 | |
| JPS6026096Y2 (ja) | プラズマ処理用放電電極装置 | |
| JP3411312B2 (ja) | マグネトロン・スパッタカソードおよび膜厚分布の調整方法 | |
| KR930021038A (ko) | 영구자석자기회로 및 그것을 적용한 마그네트론 플라즈마 처리장치 | |
| JPS57203781A (en) | Plasma working device | |
| JPS5927499A (ja) | 簡単で高能率なシ−トプラズマの生成法 | |
| JP2573702B2 (ja) | プラズマエッチング装置 | |
| JP2952639B2 (ja) | シートプラズマ装置 | |
| JP3766569B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JPH09231911A (ja) | イオン源装置及び真空装置並びに処理方法 | |
| JPS6250941B2 (ja) | ||
| JPS6026098Y2 (ja) | プラズマ重合装置の内部電極構造 | |
| JPS61124133A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH076061B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JP4219925B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 |